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    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR PASSIVIERUNG DER ANORGANISCHEN ELEKTRODE EINER ORGANISCHEN SOLARZELLE UND ORGANISCHE SOLARZELLE
    • 钝化有机太阳能电池和有机太阳能电池的无机电极的方法
    • WO2004073078A2
    • 2004-08-26
    • PCT/DE2004/000232
    • 2004-02-05
    • HAHN-MEITNER-INSTITUT BERLIN GMBHFOSTIROPOULOS, KonstantinosJOHNEV, BoyanVOGEL, Mirko
    • FOSTIROPOULOS, KonstantinosJOHNEV, BoyanVOGEL, Mirko
    • H01L51/00
    • H01L51/442H01L51/0021H01L51/0077H01L51/4206H01L51/424H01L51/4253Y02E10/549
    • Zur Passivierung der anorganischen Elektrode einer organischen Solarzelle wird bisher eine Bufferschicht aus einem Polymer vorgesehen, die eine Passivierung des Anodenmaterials herbeiführen und eine elektrische Verbindung zwischen dem anorganischen Anodenmaterial und der ersten organischen Halbleiterschicht herstellen soll. Diese Bufferschicht hat verschiedene Nachteile. Die Nachteile werden vermieden mit einer Passivierung, bei der auf der anorganischen Elektrode in einem ersten Schritt im Vakuum ein Metallalkoholat aus der Dampfphase abgeschieden wird, dessen chemisch nicht gebundener Anteil anschliessend durch Sublimieren wieder entfernt wird, und in einem zweiten Schritt eine sublimierende niedermolekulare, in der Dampfphase stabile Substanz aus der Gruppe der Phenole, Alkohole oder organischen Säuren über die Elektrode geleitet wird, wobei wiederum chemisch nicht gebundene Anteile durch Sublimieren entfernt werden, so dass auf der Oberfläche der Elektrode eine Monolage der Substanz verbleibt. Uberraschend hat sich gezeigt, dass auch eine Säurebehandlung zu einem guten Ergebnis führt, nach der auf der Oberfläche der Elektrode eine Monolage der Säurereste verbleibt.
    • 为了钝化预先提供的聚合物的缓冲层的有机太阳能电池的无机电极,阳极材料herbeif导航使用铅钝化和无机阳极材料和第一有机半导体层之间的电连接是要生产。 这个缓冲层有几个缺点。 的缺点可以避免有钝化层,其中从气相的金属醇化物在真空下在第一步骤中沉积在无机电极,化学未结合的级分,然后通过升华去除,并且升华的低分子量在第二步骤中,在 选自酚,醇或有机BEAR酸导航用途的气相稳定物质越过电极,反过来,不化学键合的组分通过升华去除,从而使表面上承受的电极表面上的物质的单分子层仍然存在。 令人惊讶的是,还发现用酸处理也导致了良好的结果,根据该结果,残留尿素的单层保留在电极表面上。

    • 8. 发明专利
    • Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten im Vakuumdepositionsverfahren
    • DE102010021547A1
    • 2011-11-24
    • DE102010021547
    • 2010-05-20
    • FOSTIROPOULOS KONSTANTINOS
    • FOSTIROPOULOS KONSTANTINOS
    • C23C14/22
    • Ein übliches Vakuumdepositionsverfahren ist das Verfahren der physikalischen Gasphasenabscheidung (PVD) bei dem die Schicht auf dem Substrat direkt durch Kondensation eines Materialdampfes des Ausgangsmaterials gebildet wird. Die bei der Verdampfung auftretenden hohen Temperaturen strahlen auf das Substrat, das dadurch erhitzt wird. Diese unkontrollierte Substraterwärmung bewirkt viele unerwünschte Effekte. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden die beiden Parameter Temperatur der Verdampfungsquelle (1) und Temperatur der Substratoberfläche (3) vollständig voneinander getrennt, indem zwischen der Verdampfungsquelle (1) und der Substratoberfläche (3) in einem räumlichen Abstand zueinander zwei Blenden (4.1, 4.2) angeordnet sind, die derart gesteuert werden, dass zu keinem Zeitpunkt ein direkter Strahlendurchgang von der Verdampfungsquelle (1) zur Substratoberfläche (3) erfolgt. Somit kann die Substrattemperatur durch eine unabhängige Heizung bzw. Kühlung definiert eingestellt werden. In einer bevorzugten Ausführung der Erfindung kann zusätzlich die Impaktenergie des Beschichtungsmaterials an der Substratoberfläche definiert eingestellt werden. In der Teildampfwolke (2.1), die durch die erste Blende (4.1) entsteht, bilden sich durch die Laufzeitunterschiede unterschiedliche Geschwindigkeitsfraktionen (v, v + &Dgr;v) (2.1.1, 2.1.2, 2.1.3, 2.1.n) der Partikel. Durch die Steuerung der zweiten Blende (4.2) werden nur Partikel mit der gewünschten Impaktenergie, durchgelassen, während der Rest der Partikel an der zweiten Blende (4.2) ausgeblendet wird.