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1. 发明申请

WO2007031182A1 MIKROLITHOGRAPHISCHE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND VERFAHREN ZUR EINSTELLUNG EINER OPTISCHEN ABBILDUNGSEIGENSCHAFT DERSELBEN 审中-公开
标题翻译：用于设置相同的光学图像FEATURE微光刻投射曝光设备和方法
公开(公告)号：WO2007031182A1
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/EP2006/008328
申请日：2006-08-25
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BUECHELE, Joachim , MUEHLPFORDT, Annette
发明人： BACK, Stephan , SOYEZ, Guido , BUECHELE, Joachim , MUEHLPFORDT, Annette
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70516 , G03F7/70258 , G03F7/70341
摘要： Ein Verfahren zur Einstellung einer optischen Abbildungseigenschaft in einer mikrolithographischen Projektionsbelichtungsanlage, mit der sich eine Maske (22) auf ein eine lichtempfindliche Oberfläche (38) aufweisendes Substrat (36) abbilden lässt, wobei das Substrat in einer Richtung quer zu einer optischen Achse (32) relativ zu einem Projektionsobjektiv (34) schrittweise bewegt werden kann, weist die Schritte auf : Einbringen eines Immersionsmediums unter einem vorbestimmten Druck und/oder einer vorbestimmten Flussrate in mindestens einen ersten Zwischenraum (50) , wobei der mindestens eine erste Zwischenraum - entlang der optischen Achse gesehen - innerhalb einem Beleuchtungssystem (12) und/oder dem Projektionsobjektiv und/oder zwischen dem Beleuσhtungssystem und der Maske und/oder der Maske und dem Projektionsobjektiv und/oder dem Projektionsobjektiv und dem Substrat angeordnet wird; und Überwachen eines Ist-Drucks und/oder einer Ist-Flussrate des Immersionsmediums auf Abweichung von dem vorbestimmten Druck und/oder der vorbestimmten Flussrate.
摘要翻译：一种用于在微光刻投射曝光设备调整的光学成像特性的方法与表现出的感光表面（38）衬底（36）的掩模（22）可以被成像，其中所述衬底在一个方向上横向于光轴（32）相对于投影透镜（34）能够被移动一步一步包括以下步骤：以预定的压力和/或在至少一个第一间隙（50）以预定的流量，其中，所述至少一个第一空间下引入浸没介质 - 沿着光轴可见 - 被定位的照明系统（12）和/或投射物镜和/或之间的Beleushtungssystem和掩模和/或掩模和投影物镜和/或投射物镜和所述基板内; 和监测实际的压力和/或从规定的压力和/或所述预定流率的液浸介质的实际流率的偏差。

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