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热词
    • 84. 发明公开
    • 하드디스크 드라이브 및 상기 하드디스크 드라이브의미디어 테스트 방법
    • 硬盘驱动器的硬盘驱动器和介质测试方法
    • KR1020080060629A
    • 2008-07-02
    • KR1020060134966
    • 2006-12-27
    • 삼성전자주식회사
    • 이영석
    • G11B20/18
    • A hard disk drive and a media test method of the hard disk drive are provided to progress the test in the unskewed area so as to screen defects of the medium effectively by reading the data stored in a continued area from a first test start point based on a first index mark and judging whether the medium is defective in the continued area. A hard disk drive(100) comprises at least one disk(10), and a microprocessor(115). The microprocessor senses an index mark from at least one first track, reads the data stored in a predetermined continued area from a first test start point determined according to the index mark, and judging whether the media is defective at the continued area from the first test start point based on the read result. The microprocessor determines the first test start point by dividing the first track. The data stored in a buffer(113) is stored in a data area of the disk through a hard disk controller(111), an R/W channel circuit(117), a pre-amplifier(119), and a magnetic head(121).
    • 提供了硬盘驱动器的硬盘驱动器和媒体测试方法,用于在非限制区域中进行测试,以便通过从第一测试起始点读取存储在连续区域中的数据来有效地屏蔽介质的缺陷,基于 第一指标标记,并判断介质是否在持续区域有缺陷。 硬盘驱动器(100)包括至少一个盘(10)和微处理器(115)。 微处理器从至少一个第一磁道感测到索引标记,从根据索引标记确定的第一测试起始点读取存储在预定的连续区域中的数据,并且从第一测试中判断介质是否在连续区域有缺陷 基于读取结果的起点。 微处理器通过划分第一轨道来确定第一测试起始点。 存储在缓冲器(113)中的数据通过硬盘控制器(111),R / W通道电路(117),前置放大器(119)和磁头(113)存储在盘的数据区域 121)。
    • 85. 发明公开
    • 반도체 포토 스피너 설비
    • 制造半导体器件的设备
    • KR1020070057373A
    • 2007-06-07
    • KR1020050116758
    • 2005-12-02
    • 삼성전자주식회사
    • 이주원김지기박연학이영석이현훈장영철
    • H01L21/027
    • Semiconductor photo spinner equipment is provided to reduce a time required for measuring a thickness of photoresist formed on a wafer which is rotated by a spin chuck in real time. A spin coater applies photoresist onto a waver, and a baking unit bakes the photoresist applied on the spin coater. A wafer edge exposing unit has a spin chuck(214) rotating the wafer with the photoresist baked by the baking unit, and an exposing part(212) exposing an edge of the wafer rotated by the spin chuck. A thickness measuring unit(270) is provided on one side of the wafer edge exposing unit to measure a thickness of the photoresist formed on the water rotated by the spin chuck.
    • 提供半导体光电旋转设备以减少测量由旋转卡盘实时旋转的晶片上形成的光致抗蚀剂所需的时间。 旋转涂布机将光致抗蚀剂施加到摇摆器上,并且烘烤单元将施加在旋涂机上的光致抗蚀剂烘烤。 晶片边缘曝光单元具有旋转卡盘(214),其旋转晶片与由烘焙单元烘烤的光致抗蚀剂;以及曝光部分(212),暴露由旋转卡盘旋转的晶片的边缘。 厚度测量单元(270)设置在晶片边缘曝光单元的一侧,以测量由旋转卡盘旋转的水上形成的光刻胶的厚度。
    • 86. 发明授权
    • 더미패턴이 구비된 퓨즈패턴을 포함하는 반도체 장치
    • 半导体装置包括具有虚拟图案的熔丝
    • KR100722306B1
    • 2007-05-28
    • KR1020000076329
    • 2000-12-14
    • 삼성전자주식회사
    • 방광규이영석최호정
    • H01L21/82
    • 본 발명은 퓨즈패턴(Fuse pattern)을 포함하는 반도체 장치(Semiconductor device)에 관한 것으로, 더욱 구체적으로는 퓨즈패턴 내의 임의의 퓨즈(Fuse)에 대하여 레이저(Laser)를 조사할 때 인접 퓨즈가 손상되는 것을 방지할 수 있도록 하는 것을 특징으로 하는 더미패턴(Dummy pattern)이 구비된 퓨즈패턴을 포함하는 반도체 장치에 관한 것이며, 이를 위하여 집적회로가 형성된 반도체 기판과 반도체 기판 위로 적층된 층간절연막과 층간절연막 위에 소정의 간격으로 형성된 다수의 퓨즈들을 포함하는 퓨즈패턴 및 퓨즈패턴 위로 형성된 퓨즈 보호막을 포함하는 반도체 장치에 있어서, 층간절연막과 반도체 기판의 경계면에서 층간절연막의 표면을 기준으로 각 퓨즈로부터 약 45°경사진 부분에 대응되어 더미패턴이 더 포함된 것을 특징으로 하는 반도체 장치의 구조를 개시하며, 이러한 구조적 특징을 통하여 레이저 빔의 세기를 크게 한 경우에도 인접 퓨즈의 손상을 방지할 수 있으며, 또한 퓨즈들 사이의 간격이 좁아지게 되어도 인접 퓨즈의 손상을 방지할 수 있어 결국 퓨즈패턴 및 반도체 장치의 크기를 최소화 할 수 있는 등의 이점을 갖는다.
      반도체 장치(Semiconductor device), 퓨즈(Fuse), 더미패턴(Dummy pattern), 레이저 빔(Laser beam), 크랙(Crack)