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71. 发明申请

WO2017202767A1 MASCHINE ZUM TRENNENDEN BEARBEITEN EINES PLATTENFÖRMIGEN WERKSTÜCKS UND VERFAHREN ZUM AUSDRÜCKEN EINES FREIGETRENNTEN WERKSTÜCKTEILS 审中-公开
标题翻译：用于分隔平台工件的机器和用于表示已发布的工件部分的方法
公开(公告)号：WO2017202767A1
公开(公告)日：2017-11-30
申请号：PCT/EP2017/062261
申请日：2017-05-22
申请人： TRUMPF WERKZEUGMASCHINEN GMBH + CO. KG
发明人： DEISS, Magnus , EPPERLEIN, Peter , OTTNAD, Jens , SCHMAUDER, Frank , WOLF, Dennis
IPC分类号： B23K7/00 , B23K26/08 , B23K26/38 , B23K26/70 , B23K37/02
CPC分类号： B23K26/083 , B23K7/002 , B23K26/0869 , B23K26/38 , B23K26/702 , B23K37/0288
摘要： Die Erfindung betrifft eine Maschine (1) zum trennenden Bearbeiten eines plattenförmigen Werkstücks (2), mit: einer ersten Bewegungseinrichtung (7) zur Bewegung des Werkstücks (2) in einer ersten Richtung (X), einer zweiten Bewegungseinrichtung (11) zur Bewegung eines Bearbeitungskopfs (9) für die trennende Bearbeitung in einer zweiten Richtung (Y), sowie zwei Werkstückauflageflächen (4, 5) zur Auflage des Werkstücks (2), zwischen denen ein sich entlang der zweiten Richtung (Y) erstreckender Spalt (6) gebildet ist. Die Maschine (1) weist eine Ausdrückeinrichtung (17) mit einem Ausdrückelement (18) auf, wobei das Ausdrückelement (18) zumindest in der zweiten Richtung (Y) innerhalb des Spalts (6) bewegbar ist, um an einer vorgegebenen Ausdrückposition (AP) gegen ein beim trennenden Bearbeiten vom Werkstück (2) freigetrenntes Werkstückteil (20) anzudrücken. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zum Ausdrücken eines insbesondere an einer solchen Maschine (1) freigetrennten Werkstückteils (20).
摘要翻译：
本发明涉及一种机器（1），用于分离加工的板和ouml;形工件导航用途CKS（2），包括：第一运动装置（2）在第一移动工件导航用途CKS（7）方向（X），第二移动装置（11），用于移动的加工头（9）的F导航用途r是分割处理的第二方向（Y）和两个工件导航用途ckauflagefl BEAR表面（4，5），用于支承工件导航用途CKS （2）之间形成沿第二方向（Y）延伸的间隙（6）。所述的机器（1）具有上ckelement（18）一个Expr的导航中使用的Expr的导航用途ckeinrichtung（17），其中，所述Expr的导航用途ckelement（18）至少在所述间隙内的第二方向（Y）（6）是可移动的，以以在分离过程期间将预定表情位置（AP）压靠在与工件（2）分离的工件部分（20）上。本发明还涉及一种用于表现特别在这种机器（1）上自由的工件部件（20）的方法。

72. 发明申请

WO2017162497A1 BEARBEITUNGSMASCHINE ZUM TRENNENDEN BEARBEITEN EINES PLATTENFÖRMIGEN WERKSTÜCKS 审中-公开
标题翻译：加工机床用于分离平台工件
公开(公告)号：WO2017162497A1
公开(公告)日：2017-09-28
申请号：PCT/EP2017/056103
申请日：2017-03-15
申请人： TRUMPF WERKZEUGMASCHINEN GMBH + CO. KG
发明人： AUTENRIETH, Julian , DISTLER, Sebastian , HERZOG, Johannes , OTTNAD, Jens , SAUMER, Katja , SCHNEIDER, Stefan , SCHUHMACHER, Johannes , STEMMLER, Andreas , WANTZEN, Knut
IPC分类号： B23K26/70 , B23K37/04 , B23K26/38
CPC分类号： B23K26/702 , B23K26/38 , B23K37/0408
摘要： Die Erfindung betrifft eine Bearbeitungsmaschine zum trennenden Bearbeiten eines plattenförmigen Materials mit einer Bearbeitungsstation, in der durch einen Bearbeitungskopf die trennende Bearbeitung erfolgt, mit einer Be- und Entladestation (10), die außerhalb der Bearbeitungsstation angeordnet ist und mit zumindest einer Palette (11) zur Aufnahme des plattenförmigen Materials, welche zwischen der Bearbeitungsstation und der Be- und Entladestation (10) verfahrbar ist, wobei die Be- und Entladestation (10) eine mobile Absortiervorrichtung (38) aufweist, die sich zumindest teilweise über die Werkstückauflage (36) erstreckt und zumindest teilweise entlang einer Werkstückauflage (36) der Palette (11) in der Be- und Entladestation (10) verfahrbar ist.
摘要翻译：
本发明涉及的加工机，用于分离加工的板和ouml;形材料与其中的分割处理是通过加工头与外部的装载和卸载站（10）AU ROAD进行处理站处理站以及用于接收板和ouml设有至少一个托盘（11）;形材料，其为加工站和装载和卸载站（10）之间移动，其中，所述装载和卸载站（10）的移动Absortiervorrichtung（38）其至少部分地在工件储存层（36）上延伸并且至少部分地沿装载和卸载工位（10）中的托盘（11）的工件储存层（36）移动，

73. 发明申请

WO2017063662A1 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG VON PLASMA- BZW. LASERPULSEN MITTELS HOCHFREQUENZ-ANREGUNGSPULSEN, INSBESONDERE EIN GASENTLADUNGSLASER, SOWIE STEUEREINHEIT FÜR EINEN HOCHFREQUENZ-ANREGUNGSPULS-GENERATOR 审中-公开
标题翻译：产生等离子体或BZW的方法和装置。激光脉冲高频激励脉冲，尤其是对于高频激励脉冲发生器的气体放电激光和控制单元
公开(公告)号：WO2017063662A1
公开(公告)日：2017-04-20
申请号：PCT/EP2015/073511
申请日：2015-10-12
申请人： TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
发明人： SCHULZ, Robert , BECK, Torsten
IPC分类号： H05H1/46 , H01S3/134 , H01S3/10
CPC分类号： H05H1/46 , H01S3/09702 , H01S3/0971 , H01S3/10038 , H01S3/10046 , H01S3/134 , H01S3/2232
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Erzeugung von Plasma- bzw. Laserpulsen (14) mittels Hochfrequenz-Anregungspulsen (13), wobei zur Erfüllung von Plasma- bzw. Laserpulsvorgaben (11) ein Medium mit Hochfrequenz-Anregungspulsen (13) angeregt wird. Die Hochfrequenz-Anregungspulse (13) werden zumindest teilweise abhängig von einer vorhergehenden Hochfrequenz-Anregung des Mediums festgelegt. Zumindest teilweise erfolgt eine Festlegung der Hochfrequenz-Anregungspulse (13) derart, dass die Hochfrequenz- Anregungspulse (13) umso stärker, insbesondere unter Veränderungen ihrer Start- und/oder Endzeitpunkte, verkürzt werden, je höher eine verbleibende Anregung des Mediums durch die vorhergehende Hochfrequenz-Anregung ist. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Steuereinheit für einen Hochfrequenz- Anregungspuls-Generator, einen Hochfrequenz-Anregungspuls-Generator und eine Vorrichtung zur Erzeugung von Plasma- bzw. Laserpulsen (14) mittels Hochfrequenz-Anregungspulsen (13), insbesondere einen Gasentladungslaser.
摘要翻译：
本发明涉及一种方法，用于通过将射频激励脉冲的装置（13），产生等离子体或激光脉冲（14），其中所述ERF导航用途设置搜索克的离子或激光脉冲规范（11）配有高频的介质 -Anregungspulsen（13）很兴奋。高频激励脉冲（13）至少部分地作为介质的先前高频激励的函数来确定。至少部分地确定的高频激励脉冲的（13）被执行，使得所述射频激励脉冲（13）更ST＆AUML;更强，特别版BEAR改变其开始和/或结束点，导航用途verk;被RZT根据H＆ouml;建立先前的高频激励对介质的剩余激励是。此外，本发明提供了一种用于导航中使用的控制单元关乎为r的射频激励脉冲发生器，高频激励脉冲发生器和用于产生等离子体或激光脉冲（14）的装置由射频激励脉冲的装置（13），特别是气体放电激光器“。 / p>

74. 发明申请

WO2017001603A3 VORRICHTUNG ZUR ERZEUGUNG MEHRERER TAKT- ODER HOCHFREQUENZSIGNALE 审中-公开
公开(公告)号：WO2017001603A3
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：PCT/EP2016/065386
申请日：2016-06-30
申请人： TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG
发明人： GREDE, André , GRUNER, Daniel , BANNWARTH, Armin , BOCK, Christian , HOFSTETTER, Christoph , PENA VIDAL, Alberto , SCHWERG, Nikolai , VOR DEM BROCKE, Manuel , WINTERHALTER, Markus
IPC分类号： G06F1/02 , G06F1/025 , H01J37/32
摘要： Vorrichtung (1) zur Erzeugung mehrerer Takt- oder Hochfrequenzsignale, mit einem Referenzfrequenzerzeuger (2), der an einen Oszillator (3) angeschlossen ist und an seinem Ausgang (5) ein Referenzsignal mit einer Referenzfrequenz fx erzeugt, sowie zumindest einem Signalverarbeitungsbaustein (10-14), insbesondere DDS, der über eine erste Signalleitung (15) mit dem Referenzfrequenzerzeuger (2) verbunden ist und dem das Referenzsignal mit der Referenzfrequenz fx zugeführt wird und der konfiguriert ist, ein Ausgangssignal mit einer Frequenz

75. 发明申请

WO2017001596A1 RICHTKOPPLER 审中-公开
标题翻译：定向耦合器
公开(公告)号：WO2017001596A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：PCT/EP2016/065378
申请日：2016-06-30
申请人： TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG
发明人： GREDE, André , ALT, Alexander , GRUNER, Daniel , SCHWERG, Nikolai , WANGLER, Christian
IPC分类号： H01P5/18
CPC分类号： H01P5/184 , H01P5/185 , H05K1/0237 , H05K2201/09227
摘要： Ein Richtkoppler (1), der zumindest teilweise in einer insbesondere mehrlagigen Leiterkarte (2) ausgebildet ist, mit einer Hauptleitung (3) zur Übertragung einer Leistung und zumindest einer Nebenleitung (6, 7), die in einem Kopplungsbereich mit einem Kopplungsabschnitt (4, 5) parallel und beabstandet zur Hauptleitung (3) angeordnet ist, wobei im Kopplungsbereich die Hauptleitung (3) und/oder die zumindest eine Nebenleitung (6, 7) im Inneren der Leiterkarte (2) angeordnet ist, ist dadurch gekennzeichnet, dass m erste Zusatzkoppelleitungen (12 - 15), m ≥ 1, vorgesehen sind, die einen Kopplungsabschnitt (8 – 11) aufweisen, der parallel und beabstandet zum Kopplungsabschnitt (4, 5) der zumindest einen Nebenleitung (6, 7) verläuft, wobei die ersten Zusatzkoppelleitungen (12 – 15) einen Anschluss (16 – 19) aufweisen, der an der Außenseite der Leiterkarte (2) angeordnet ist zur Verbindung mit Masse oder einer externen Beschaltung.
摘要翻译：一种定向耦合器（1）至少在一个特定的多层电路卡（2）部分地与主线路（3）形成用于发射功率和至少一个次级线（6,7）与连接部（4的耦合部分提供， 5）平行和间隔开的从所述主干线（3）被布置，其中，所述主线路（3）和/或所述至少一个次级线（6,7）被布置在所述耦合区域内的印刷电路板（2）的内部，其特征在于，m个第一附加耦合线（12-15）中，m≥1，条件是一个耦合部分（8-11），其平行并从连结部（4，5）的至少一个次级线（6,7），其中，所述第一辅助耦合线隔开（12-15），其被布置在电路卡（2）的外侧上，用于连接到地面或外部电路的连接（16-19）。

76. 发明申请

WO2017001594A1 HOCHFREQUENZVERSTÄRKERANORDNUNG 审中-公开
标题翻译：高频放大器安排
公开(公告)号：WO2017001594A1
公开(公告)日：2017-01-05
申请号：PCT/EP2016/065376
申请日：2016-06-30
申请人： TRUMPF HÜTTINGER GMBH + CO. KG
发明人： GREDE, André , ALT, Alexander , GRUNER, Daniel , LABANC, Anton
IPC分类号： H03F3/193 , H01J37/32 , H03F3/30
CPC分类号： H01J37/32174 , H03F3/193 , H03F3/3001 , H03F2200/451
摘要： Eine Hochfrequenzverstärkeranordnung (1), die geeignet ist, Ausgangsleistungen ≥ 1kW bei Frequenzen ≥ 2MHz zur Plasmaanregung zu erzeugen, umfasst: a. zwei LDMOS-Transistoren (S1, S2), die mit ihrem Sourceanschluss jeweils mit einem Masseverbindungspunkt (5) verbunden sind, wobei die LDMOS-Transistoren (S1, S2) gleichartig ausgebildet sind und in einer Baugruppe (3) (Package) angeordnet sind, b. eine Leiterkarte (2), die flächig an einer metallischen Kühlplatte (25) anliegt und über mehrere Masseverbindungen (8, 19, 21, 24) mit der mit Masse (26) verbindbaren Kühlplatte (25) verbunden ist, wobei die Baugruppe (3) auf oder an der Leiterkarte (2) angeordnet ist, c. einen Leistungsübertrager (7), dessen Primärwicklung (6) mit den Drainanschlüssen der LDMOS-Transistoren (S1, S2) verbunden ist, d. einen Signalübertrager (10), dessen Sekundärwicklung (13) mit einem ersten Ende über ein oder mehrere resistive Elemente (14) mit dem Gateanschluss (15) des einen LDMOS-Transistors (S1) verbunden ist und mit einem zweiten Ende über ein oder mehrere resistive Elemente (16) mit dem Gateanschluss (17) des anderen LDMOS-Transistors (S2) verbunden ist, wobei jeder Gatenanschluss (15, 17) über zumindest eine spannungsbegrenzende Bauelementanordnung (18, 20, 18', 20') mit Masse (19, 21) verbunden ist.
摘要翻译：其适于产生输出在频率≥2兆赫等离子体激发≥1千瓦，包括高频放大器装置（1）：一。 2个LDMOS晶体管（S1，S2），其具有分别连接到接地连接点（5）它们的源极端子，所述LDMOS晶体管（S1，S2）具有相同的设计和模块（3）中（封装）被布置，湾的印刷电路卡（2），其位于平贴的金属散热板（25）和若干接地连接（8，19，21，24）连接到所述地面（26）的冷却板（25），所述组件（3）被布置在或在印刷电路板（2）中，c。（6）到LDMOS晶体管（S1，S2），D的漏极端子被连接到一个电源变压器（7），其初级绕组。具有通过一个或多个电阻元件（14）的LDMOS晶体管（S1）的栅极端子（15）的第一端的信号变压器（10），其次级绕组（13）通过一个或多个电阻连接到第二端连接的元件（16）连接到其他LDMOS晶体管的栅极端子（17）（S2），通过至少一个限制电压的部件组件（18，20，18”，20' ）到地每一个栅极端子（15，17）（19， 21）。

77. 发明申请

WO2016177766A1 PLASMA IMPEDANCE MATCHING UNIT, SYSTEM FOR SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD, AND METHOD OF SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD 审中-公开
标题翻译：等离子体阻抗匹配单元，用于将射频功率提供给等离子体负载的系统以及向等离子体负载提供射频功率的方法
公开(公告)号：WO2016177766A1
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：PCT/EP2016/059970
申请日：2016-05-04
申请人： TRUMPF HUETTINGER SP. Z O. O.
发明人： GLAZEK, Wojciech , BUGYI, Rafal
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/38
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32174 , H01J37/32926 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H03H7/38
摘要： A plasma impedance matching unit (13) for a plasma power supply system (10, 100) comprises a. a first power connector (40) for coupling the matching unit (13) to a power source (11), b. a second power connector (41) for coupling the matching unit (13) to a plasma load (20), c. a data link interface (45) for directly coupling the impedance matching unit (13) to another plasma impedance matching unit (14) of the plasma power supply system (10, 100) via a data link (48), d. a controller (42) configured to control the matching unit (13) in order to match the impedance from the first power connector (40) to the impedance at the second power connector (41), wherein e. the controller (42) is configured to operate as a master for at least one other impedance matching unit (14) and/or at least one RF power source (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100), wherein the controller (42) communicates via the data link interface (45) with the other impedance matching unit(s) (14) and/or RF power source(s) (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100).
摘要翻译：一种用于等离子体供电系统（10,100）的等离子体阻抗匹配单元（13）包括a。 b）用于将匹配单元（13）耦合到电源（11）的第一电源连接器（40），b。用于将匹配单元（13）耦合到等离子体负载（20）的第二电源连接器（41），c。数据链路接口（45），用于经由数据链路（48）将阻抗匹配单元（13）直接耦合到等离子体供电系统（10,100）的另一个等离子体阻抗匹配单元（14）。控制器（42），被配置为控制所述匹配单元（13），以便将来自所述第一电源连接器（40）的阻抗与所述第二电源连接器（41）处的阻抗相匹配，其中e。控制器（42）被配置为作为用于等离子体供电系统（10,100）的至少一个其它阻抗匹配单元（14）和/或至少一个RF电源（11,12）的主站，其中控制器（42）经由数据链路接口（45）与等离子体供电系统（10,100）的另一个阻抗匹配单元（14）和/或RF电源（11,12）进行通信）。

78. 发明申请

WO2016096900A1 METHOD OF DETECTING AN ARC OCCURRING DURING THE POWER SUPPLY OF A PLASMA PROCESS, CONTROL UNIT FOR A PLASMA POWER SUPPLY, AND PLASMA POWER SUPPLY 审中-公开
标题翻译：在等离子体处理电源期间检测电弧的方法，等离子体电源的控制单元和等离子体电源
公开(公告)号：WO2016096900A1
公开(公告)日：2016-06-23
申请号：PCT/EP2015/079863
申请日：2015-12-15
申请人： TRUMPF HUETTINGER SP. Z O. O.
发明人： GAPIÑSKI, Cezary , GIERALTOWSKI, Andrzej , GRABOWSKI, Adam , LACH, Piotr , ZELECHOWSKI, Marcin
IPC分类号： H01J37/32
CPC分类号： H01J37/32944
摘要： A plasma power supply (10) for supplying a plasma process in a plasma chamber (30) with a power comprises: a. a DC-Source (15); b. an output signal generator (16) connected to the DC source (15); c. a first signal sequence measurement device (20) for measuring a signal sequence present between the DC source (15) and the output signal generator (16); d. a second signal sequence measurement device (18, 19) for measuring a signal sequence present at the output of the output signal generator (16); e. a control unit (14), which is connected to the first and second signal sequence measurement devices (18, 19, 20).
摘要翻译：用于在等离子体室（30）中提供动力的等离子体处理的等离子体电源（10）包括：a。 DC源（15）; 湾连接到DC源（15）的输出信号发生器（16）; C。用于测量存在于DC源（15）和输出信号发生器（16）之间的信号序列的第一信号序列测量装置（20）; 天。第二信号序列测量装置（18,19），用于测量存在于输出信号发生器（16）的输出端的信号序列; 即控制单元（14），其连接到第一和第二信号序列测量装置（18,19,20）。

79. 发明申请

WO2016083298A1 GAS FLOW WITHIN ADDITIVE MANUFACTURING DEVICE 审中-公开
标题翻译：添加剂制造装置中的气体流动
公开(公告)号：WO2016083298A1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：PCT/EP2015/077356
申请日：2015-11-23
申请人： TRUMPF SISMA S.R.L.
发明人： RIVA, Fausto , CANAGLIA, Sergio
IPC分类号： B29C67/00 , B33Y30/00 , B22F3/105
CPC分类号： B22F3/1055 , B22F2003/1056 , B22F2003/1059 , B28B1/001 , B29C64/153 , B29C64/20 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , Y02P10/295
摘要： A device (1) for additive manufacturing of a three-dimensional object from powdered material comprises a main body (11) providing an object forming chamber (13) and, within a front wall (15), an opening (17) for accessing the object forming chamber (13). A work surface (21) delimites the object forming chamber (13) and comprises a build platform section (23 A) for manufacturing thereon the three-dimensional object. The device (1) further comprises a door (31) provided at the front wall (15) and being positionable in a closed state to seal the opening (17) or in an opened state to provide access to the object forming chamber (13). The device (1) further comprises a gas flow system (41) for providing a gas flow (42) across the build platform section (23 A), the gas flow system (41) comprising a first main body section (41 A) extending within the main body (11) and a door section (41B) being part of the door (31), wherein the door section (4 IB) comprises a first opening structure (45 A) arranged to release gas to or to receive gas from above the build platform section (23 A) in the closed state of the door.
摘要翻译：用于从粉末材料添加制造三维物体的装置（1）包括提供物体形成室（13）的主体（11）和在前壁（15）内的用于进入物体形成室的开口（17）物体形成室（13）。工件表面（21）限定物体形成室（13）并且包括用于在其上制造三维物体的构建平台部分（23A）。装置（1）还包括设置在前壁（15）处的门（31）并可处于关闭状态以密封开口（17）或处于打开状态以提供对物体形成室（13）的通路的门（31）。装置（1）还包括用于在构建平台部分（23A）上提供气流（42）的气流系统（41），气流系统（41）包括第一主体部分（41a）在主体（11）内的门部分（41B）和门部（31）的一部分的门部分（41B），其中门部分（41B）包括第一开口结构（45A），其布置成将气体释放到或接收气体在门的关闭状态下的构建平台部分（23A）上方。

80. 发明申请

WO2016079062A1 OPTISCHES SYSTEM ZUR STRAHLFORMUNG 审中-公开
标题翻译：光学系统，光束整形
公开(公告)号：WO2016079062A1
公开(公告)日：2016-05-26
申请号：PCT/EP2015/076707
申请日：2015-11-16
申请人： TRUMPF LASER- UND SYSTEMTECHNIK GMBH
发明人： FLAMM, Daniel , GROSSMANN, Daniel , KAISER, Myriam , KLEINER, Jonas , KUMKAR, Malte
IPC分类号： G02B27/09 , B23K26/064
CPC分类号： B23K26/064 , B23K26/0057 , B23K26/53 , B23K2203/54 , G02B5/1871 , G02B27/0927 , G02B27/0944
摘要： Ein optisches System (1) zur Strahlformung eines Laserstrahls (3) für die Bearbeitung eines insbesondere transparenten Materials (9) durch Modifizieren des Materials (9) in einer in Propagationsrichtung (5) langgezogenen Fokuszone (7) weist ein Strahlformungselement (31) auf, das dazu ausgebildet ist, den Laserstrahl (3) mit einem transversalen Eingangsintensitätsprofil (41) aufzunehmen und dem Laserstrahl (3) einen strahlformenden Phasenverlauf (43) über das transversale Eingangsintensitätsprofil (31) aufzuprägen. Das optische System (1) weist ferner eine Nahfeldoptik (33B) auf, die strahlabwärts mit einem Strahlformungsabstand (Dp) zum Strahlformungselement (31) angeordnet ist und die dazu ausgebildet ist, den Laserstrahl (3) in die Fokuszone (7) zu fokussieren, wobei der aufgeprägte Phasenverlauf (43) derart ist, dass dem Laserstrahl (3) ein virtuelles, vor dem Strahlformungselement (31) liegendes optisches Bild (53) der langgezogenen Fokuszone (7) zugeordnet ist. Des Weiteren entspricht der Strahlformungsabstand (Dp) einer Propagationslänge des Laserstrahls (3), in der der aufgeprägte Phasenverlauf (43) das transversale Eingangsintensitätsprofil (41) in ein transversales Ausgangsintensitätsprofil (51) an der Nahfeldoptik (33B) überführt, welches im Vergleich mit dem Eingangsintensitätsprofil (41) ein außerhalb einer Strahlachse (45) liegendes lokales Maximum (49) aufweist.
摘要翻译：的光学系统（1），用于将激光束（3），用于特定的透明材料（9）的处理的光束整形通过在传播方向在改变材料（9）（5）的细长聚焦区（7）包括一个光束整形元件（31），其适于有横向强度分布输入（41）和激光束接收的激光束（3）（3）具有波束形成相位响应（43）上施加横向强度分布输入端（31）。所述光学系统（1）还包括近场光学（33B），其是与从光束整形元件被设置，其适于将激光束（3）聚焦在聚焦区（7）的光束成形距离（DP）（31）向下辐射，其中，所述压花相位曲线（43）是这样的，所述激光束（3）位于一个虚拟的，在光束成形元件（31）的前面是细长聚焦区的相关的光学图像（53）（7）。此外所对应在上的激光束（3）的传播长度，其中，所述压印相位曲线（43）的波束成形距离（DP）的近场光学（33B）的横向输出强度分布（51）转移到所述横向输入的强度分布（41），其在与比较输入强度轮廓（41）具有一个光轴（45）位于局部最大值（49）的外部。

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