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1. 发明申请

WO2016177766A1 PLASMA IMPEDANCE MATCHING UNIT, SYSTEM FOR SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD, AND METHOD OF SUPPLYING RF POWER TO A PLASMA LOAD 审中-公开
标题翻译：等离子体阻抗匹配单元，用于将射频功率提供给等离子体负载的系统以及向等离子体负载提供射频功率的方法
公开(公告)号：WO2016177766A1
公开(公告)日：2016-11-10
申请号：PCT/EP2016/059970
申请日：2016-05-04
申请人： TRUMPF HUETTINGER SP. Z O. O.
发明人： GLAZEK, Wojciech , BUGYI, Rafal
IPC分类号： H01J37/32 , H03H7/38
CPC分类号： H01J37/32183 , H01J37/32174 , H01J37/32926 , H01J37/32935 , H01J37/3299 , H03H7/38
摘要： A plasma impedance matching unit (13) for a plasma power supply system (10, 100) comprises a. a first power connector (40) for coupling the matching unit (13) to a power source (11), b. a second power connector (41) for coupling the matching unit (13) to a plasma load (20), c. a data link interface (45) for directly coupling the impedance matching unit (13) to another plasma impedance matching unit (14) of the plasma power supply system (10, 100) via a data link (48), d. a controller (42) configured to control the matching unit (13) in order to match the impedance from the first power connector (40) to the impedance at the second power connector (41), wherein e. the controller (42) is configured to operate as a master for at least one other impedance matching unit (14) and/or at least one RF power source (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100), wherein the controller (42) communicates via the data link interface (45) with the other impedance matching unit(s) (14) and/or RF power source(s) (11, 12) of the plasma power supply system (10, 100).
摘要翻译：一种用于等离子体供电系统（10,100）的等离子体阻抗匹配单元（13）包括a。 b）用于将匹配单元（13）耦合到电源（11）的第一电源连接器（40），b。用于将匹配单元（13）耦合到等离子体负载（20）的第二电源连接器（41），c。数据链路接口（45），用于经由数据链路（48）将阻抗匹配单元（13）直接耦合到等离子体供电系统（10,100）的另一个等离子体阻抗匹配单元（14）。控制器（42），被配置为控制所述匹配单元（13），以便将来自所述第一电源连接器（40）的阻抗与所述第二电源连接器（41）处的阻抗相匹配，其中e。控制器（42）被配置为作为用于等离子体供电系统（10,100）的至少一个其它阻抗匹配单元（14）和/或至少一个RF电源（11,12）的主站，其中控制器（42）经由数据链路接口（45）与等离子体供电系统（10,100）的另一个阻抗匹配单元（14）和/或RF电源（11,12）进行通信）。

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