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51. 发明公开

KR1020140147707A 감광성 레지스트 재료용 현상액 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 有权
标题翻译：感光材料和图案处理的开发者
公开(公告)号：KR1020140147707A
公开(公告)日：2014-12-30
申请号：KR1020140073051
申请日：2014-06-16
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 하타케야마준 , 오하시마사키
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/039 , G03F7/038 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , G03F7/2053 , G03F7/2059 , G03F7/2065 , G03F7/322 , G03F7/38 , G03F7/0381 , G03F7/0392 , H01L21/0273 , Y10S430/1055
摘要： Provided is a developer solution for photosensitive resist material including ammoniumhydroxide represented by chemical formula (1). (R^1 is an alkyl group, an alkenyl group, an alkynyl group, an aryl group, an aralkyl group, an arylalkenyl group, a heterocyclic group or NR_2 group, where such groups can be combined. R^2 is a hydrogen atom or a methyl group, R^3 is a methylene group or an ethylene group, R^4-R^6 are an alkyl group or a benzyl group, X is an oxygen atom, a sulfur atom, an ester group, a thioester group or a NH group) By performing development using the developer solution of the present invention, the expansion of the photosensitive resist material, particularly, a chemically amplified positive resist material of a resist layer during developing may be restrained, and the generation of pattern collapse or bridge defects may be restrained, thereby obtaining a pattern having little edge roughness.
摘要翻译：提供了包含由化学式（1）表示的氢氧化铵的光敏抗蚀剂材料的显影剂溶液。（R 1是烷基，烯基，炔基，芳基，芳烷基，芳基烯基，杂环基或NR 2基，其中这些基团可以结合，R 2是氢原子或甲基，R 3是亚甲基或亚乙基，R 4 -R 6是烷基或苄基，X是氧原子，硫原子，酯基，硫酯基或NH基）通过使用本发明的显影剂溶液进行显影，可以抑制显影期间光敏抗蚀剂材料，特别是抗蚀剂层的化学放大的正性抗蚀剂材料的膨胀，并且产生图案塌陷或可以抑制桥接缺陷，从而获得具有很小边缘粗糙度的图案。

52. 发明公开

KR1020140145085A 감광성 레지스트 재료용 현상액 및 이것을 이용한 패턴 형성 방법 审中-实审
标题翻译：感光材料和图案处理的开发者
公开(公告)号：KR1020140145085A
公开(公告)日：2014-12-22
申请号：KR1020140070802
申请日：2014-06-11
申请人： 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤
发明人： 하타케야마준 , 오하시마사키
IPC分类号： G03F7/32 , G03F7/039 , G03F7/038 , C08F2/48 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/32 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2037 , G03F7/2039 , G03F7/2053 , G03F7/2059 , G03F7/2065 , G03F7/26 , G03F7/322 , G03F7/38 , C08F2/48 , G03F7/0381 , G03F7/0392 , H01L21/0273
摘要： Provided is a developer solution for a photosensitive resist material including cyclic ammoniumhydroxide represented by chemical formula (1). (R^1 and R^2 are a linear, branched or cyclic alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or an alkenyl group or an alkynyl group having 2 to 10 carbon atoms, R^3 is a methylene group, an ethylene group, -O-CH_2-, -S-CH_2- or -NH-CH_2-.) By performing development using the developer solution of the present invention, the expansion of the photosensitive resist material, particularly, a chemically amplified positive resist material of a resist layer during developing may be restrained, and the generation of pattern collapse or bridge defects may be restrained, thereby obtaining a pattern having little edge roughness.
摘要翻译：提供了一种用于由化学式（1）表示的环状氢氧化铵的感光性抗蚀剂材料的显影剂溶液。（R 1和R 2是具有1至6个碳原子的直链，支链或环状烷基或具有2至10个碳原子的烯基或炔基，R 3是亚甲基，亚乙基， -O-CH 2 - ，-S-CH 2 - 或-NH-CH 2 - 。）通过使用本发明的显影剂溶液进行显影，光敏抗蚀剂材料的膨胀，特别是抗蚀剂的化学放大的正性抗蚀剂材料可以抑制显影期间的层，并且可以抑制图案塌陷或桥接缺陷的产生，从而获得具有较小边缘粗糙度的图案。

53. 发明公开

KR1020130054366A 페놀 수지 조성물 그리고 경화 릴리프 패턴 및 반도체의 제조 방법 无效
标题翻译：酚醛树脂组合物，以及生产固化垫片和半导体的方法
公开(公告)号：KR1020130054366A
公开(公告)日：2013-05-24
申请号：KR1020137006499
申请日：2011-09-12
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 사사키다카히로 , 리준
IPC分类号： C08L65/00 , C08L25/02 , C08L61/34 , G03F7/004
CPC分类号： G03F7/004 , C08G61/02 , C08G2261/3424 , C08K5/42 , C08L61/34 , G03F7/0236 , G03F7/038 , H01L21/30 , H01L29/06 , C08L61/06 , G03F7/0047 , G03F7/0381 , G03F7/20
摘要： Provided is a photopolymer composition for a semiconductor element surface protective film or an interlayer insulating film, in which a solution of the photopolymer composition comprises 100 parts by mass of (A) a phenolic resin having a biphenyldiyl structure in a main chain of the resin; 1 to 30 parts by mass of (B) a photo acid-generating agent; and 1 to 60 parts by mass of (C) a compound that can be reacted with ingredient (A) by means of an acid generated from the photo acid-generating agent or heat.

54. 发明公开

KR1020100107409A 알칼리 가용성 수지 및 그 제조방법, 및 알칼리 가용성 수지를 사용한 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译： ALKALI可溶树脂，其制备方法和含有它的感光树脂组合物
公开(公告)号：KR1020100107409A
公开(公告)日：2010-10-05
申请号：KR1020100026141
申请日：2010-03-24
申请人： 신닛테츠 수미킨 가가쿠 가부시키가이샤
发明人： 콘노타카시 , 야마다히로아키
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/038 , G03F7/00 , G02F1/1335
CPC分类号： G03F7/027 , G02F1/133514 , G03F7/0007 , G03F7/0381 , Y10S430/1055
摘要： PURPOSE: An alkali soluble resin, a producing method thereof, and a photoresist resin composition material using thereof are provided to secure the high solubility for an alkaline developer, and to perform a proper photo-curing process for the irradiation of ultraviolet rays or electronic beams. CONSTITUTION: An alkali soluble resin is marked with chemical formula 1, and includes a polymerizable unsaturated group and a carboxyl group inside the molecule. In the chemical formula 1, W is a bisphenol derivative marked with chemical formula 2. Y is a tetravalent carboxyclic acid moiety. In the chemical formula 2, R1~R4 are a hydrogen atom, an alkyl group with 1~6 carbons, a halogen atom, or a phenyl group, respectively.
摘要翻译：目的：提供碱溶性树脂及其制造方法以及使用其的光致抗蚀剂树脂组合物材料，以确保对碱性显影剂的高溶解度，并对紫外线或电子束的照射进行适当的光固化处理。构成：碱溶性树脂用化学式1表示，在分子内包含聚合性不饱和基团和羧基。在化学式1中，W是具有化学式2的双酚衍生物.Y是四价羧酸部分。在化学式2中，R 1〜R 4分别是氢原子，碳原子数1〜6的烷基，卤素原子或苯基。

55. 发明公开

KR1020150117567A 포지티브형 감광성 수지 조성물, 감광성 수지막, 및 이를 이용한 표시 소자 无效
标题翻译：正性感光树脂组合物，感光树脂膜和使用其的显示装置
公开(公告)号：KR1020150117567A
公开(公告)日：2015-10-20
申请号：KR1020140043252
申请日：2014-04-10
申请人： 제일모직주식회사
发明人： 김상수 , 강진희 , 김용태 , 노건배 , 백재열 , 유한성 , 이범진 , 이상행 , 이종화 , 이진영
IPC分类号： G03F7/039 , G03F7/021 , G03F7/075 , G03F7/038
CPC分类号： C09D171/00 , C08G69/32 , C08G73/1039 , C08G73/1053 , C08G73/1071 , C08G73/14 , C09D133/00 , C09D177/10 , C09D179/08 , G03F7/0392 , G03F7/021 , G03F7/0381 , G03F7/075 , C08K5/42
摘要： (A) 하기화학식 1로표시되는반복단위를포함하는알칼리가용성수지; (B) 감광성디아조퀴논화합물; 및 (C) 용매를포함하는포지티브형감광성수지조성물, 감광성수지막및 이를포함하는표시소자에관한것이다. [화학식 1](상기화학식 1에서, 각치환기는명세서에정의된바와같다.)
摘要翻译：本发明涉及正型感光性树脂组合物，感光性树脂膜及包含该感光性树脂组合物的显示装置。该组合物包含：（A）含有由化学式1表示的重复单元的碱溶性树脂; （B）光敏重氮醌化合物; 和（C）溶剂。在化学式1中，每个取代基与说明书中所定义的相同。

56. 发明公开

KR1020140104898A 감광성 조성물, 수지 조성물, 경화막 및 그의 제조 방법 그리고 전자 부품 有权
标题翻译：光敏组合物，树脂组合物，固化膜及其制造方法和电子元件
公开(公告)号：KR1020140104898A
公开(公告)日：2014-08-29
申请号：KR1020130163538
申请日：2013-12-26
申请人： 제이에스알 가부시끼가이샤
发明人： 사쿠라이토모히코 , 하나무라마사아키
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/023 , G03F7/40
CPC分类号： G03F7/0226 , C08F8/12 , C09D125/18 , G03F7/0236 , G03F7/0381 , G03F7/0387 , G03F7/40 , G03F7/023 , Y10S430/1055 , C08F212/14 , C08F212/08 , C08F2220/325
摘要： The objective of the present invention is to improve the curing properties of a resin composition and a photosensitive composition appropriately used for forming a surface passivation layer and an insulating interlayer included in an electronic part and the like, and to decrease internal stress remaining in a substrate when a cured layer is formed on the substrate using the compositions. A photosensitive composition includes (A) a resin containing a phenolic hydroxide group, (B1) a cross-linking agent containing at least two oxazoline groups, (B2) a cross-linking agent containing at least two groups represented by -CH_2OR (where R is a hydrogen atom, a C1-C10 alkyl group or acetyl group), and (C) a photosensitive acid generator.
摘要翻译：本发明的目的是提高树脂组合物和适合用于形成包含在电子部件等中的表面钝化层和绝缘中间层的光敏组合物的固化性能，并降低残留在基材中的内应力当使用组合物在基材上形成固化层时。感光性组合物包括（A）含有氢氧化酚基团的树脂，（B1）含有至少两个恶唑啉基团的交联剂，（B2）含有由-CH 2 OR表示的至少两个基团的交联剂（其中R 是氢原子，C1-C10烷基或乙酰基），和（C）光敏酸产生剂。

57. 发明授权

KR101322389B1 네가티브-형 감광성 수지 조성물 有权
标题翻译：负型型感光树脂组合物
公开(公告)号：KR101322389B1
公开(公告)日：2013-10-29
申请号：KR1020060020181
申请日：2006-03-02
申请人： 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨
发明人： 아라오케이 , 노무라마코토
IPC分类号： G03F7/004
CPC分类号： G03F7/0382 , G03F7/0381
摘要： 실리콘 웨이퍼 또는 인쇄 배선판상에 층간 유전층을 형성하는데 사용될 수 있는 네가티브-형 감광성 수지 조성물이 제공된다. 이 조성물은 비닐페놀 수지, 비페닐-페놀 수지 및 에폭시-함유 물질을 포함한다. 또한 이러한 조성물을 사용하여 패턴화 유전체 필름을 형성하는 방법이 제공된다. 수지 조성물은, 예를 들어 층간 유전층으로서 웨이퍼-레벨 칩-스케일 패키지 및 LSI 제조에 사용될 수 있다.
없음

58. 发明公开

KR1020110035528A 포지티브 포토레지스트 조성물 无效
标题翻译：一个积极的光电组成
公开(公告)号：KR1020110035528A
公开(公告)日：2011-04-06
申请号：KR1020090093295
申请日：2009-09-30
申请人： 동우 화인켐 주식회사
发明人： 이은상 , 임민주 , 진성열 , 김성현
IPC分类号： G03F7/023 , G03F7/039 , G03F7/038 , C08F2/48
CPC分类号： G03F7/023 , C08F2/48 , G03F7/0381 , G03F7/0385 , G03F7/0392 , Y10S430/1055
摘要： PURPOSE: A positive photo-resist composition is provided to overcome the damage of substrates and metal films in a four masks-based dry etching process by forming patterns into a nearly vertical shape. CONSTITUTION: A positive photo-resist composition includes an alkaline soluble resin, a photo-resist agent, an additive containing a compound represented by chemical formula 1, and a solvent. In the chemical formula 1, R1, R2, and R3 are respectively H or a group represented by chemical formula 2. The alkaline soluble resin is a novolak resin. The photo-resist agent is the ester compound of a phenolic compound containing hydroxyl group and a quinone diazide sulfonic acid compound. The solvent is one or more, or two or more selected from a group including glycol ether ester, glycol ether, ester, ketone, and cyclic ester.
摘要翻译：目的：提供正型光致抗蚀剂组合物，以通过将图案形成几乎垂直的形状来克服基于四个基于掩模的干蚀刻工艺中的基板和金属膜的损伤。构成：正型光致抗蚀剂组合物包括碱溶性树脂，光致抗蚀剂，含有由化学式1表示的化合物的添加剂和溶剂。在化学式1中，R1，R2和R3分别为H或由化学式2表示的基团。碱溶性树脂是酚醛清漆树脂。光致抗蚀剂是含羟基的酚类化合物和醌二叠氮磺酸化合物的酯化合物。溶剂是选自包括乙二醇醚酯，二醇醚，酯，酮和环酯的一个或多个或两个或更多个。

59. 发明公开

KR1020170123352A 페놀 수지 조성물 그리고 경화 릴리프 패턴 및 반도체의 제조 방법 审中-实审
标题翻译：酚醛树脂组合物和固化浮雕图案以及制造半导体的方法
公开(公告)号：KR1020170123352A
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：KR1020177031042
申请日：2011-09-12
申请人： 아사히 가세이 이-매터리얼즈 가부시키가이샤
发明人： 사사키다카히로 , 리준
IPC分类号： C08L65/00 , C08L61/34 , C08L25/02 , C08G61/02 , C08K5/42 , G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/038 , H01L21/30 , H01L29/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/004 , C08G61/02 , C08G2261/3424 , C08K5/42 , C08L61/34 , G03F7/0236 , G03F7/038 , H01L21/30 , H01L29/06 , C08L61/06 , C08L65/00 , C08L25/02 , G03F7/0047 , G03F7/0381
摘要： 용제중에이하의성분 : 주사슬에비페닐디일구조를갖는페놀수지 (A) : 100 질량부 ; 광산발생제 (B) : 1 ∼ 30 질량부 ; 및상기광산발생제 (B) 로부터발생한산, 또는열에의해, 상기 (A) 성분과반응할수 있는화합물 (C) : 1 ∼ 60 질량부를함유하는반도체소자표면보호막또는층간절연막용의감광성수지조성물이제공된다.
摘要翻译：溶剂中的以下组分：主链中具有联苯二基结构的酚醛树脂（A）：100质量份; 光酸产生剂（B）：1至30质量份; 和通过酸，或热量从（B）中产生的光酸产生剂，其中，成分（A），并且可以在反应（C）化合物：（重量）的表面保护膜或层间绝缘膜的感光性树脂组合物的从1到含有60份的半导体器件它提供。

60. 发明公开

KR1020140007799A 감광성 수지 조성물, 패턴 구조물, 표시 장치 및 격벽 审中-实审
标题翻译：感光树脂组合物，图案结构，显示装置和分隔壁
公开(公告)号：KR1020140007799A
公开(公告)日：2014-01-20
申请号：KR1020137010425
申请日：2011-10-24
申请人： 스미또모 가가꾸 가부시키가이샤
发明人： 가지따니,마사루 , 무라까미,모또히꼬 , 미끼,마사유끼
IPC分类号： G03F7/038 , G03F7/004 , C08F220/06 , G02B5/20
CPC分类号： G03F7/0382 , G02B5/201 , G02F1/133516 , G03F7/0046 , C08F220/06 , G02B5/20 , G03F7/038 , G03F7/0381 , G03F7/0385
摘要： 본 발명은 발액성, 내열성 및 내용제성이 우수하고, 패턴 형성부 이외의 부위에 감광성 수지 조성물이 잔사로서 남지 않으며, 패턴 형성이 가능한 네가티브형의 감광성 수지 조성물을 제공한다. 본 발명의 감광성 수지 조성물은 알칼리 가용성 수지 (A), 불소계 발액제 (B), 가교제 (C) 및 산 발생제 (D)를 포함하는 네가티브형 감광성 수지 조성물이고, 불소계 발액제 (B)가 탄소 원자수 4 내지 6의 플루오로알킬기를 갖는 불포화 화합물 유래의 구조 단위를 포함하는 부가 중합체이고, 불소계 발액제 (B)의 첨가 비율이 조성물 중 전체 고형분에 대하여 0.01 내지 1.0 중량％이다.

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