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    • 54. 发明申请
    • OPTOELEKTRONISCHER HALBLEITERCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES SOLCHEN
    • 光电子半导体芯片和方法生产同样
    • WO2009121319A1
    • 2009-10-08
    • PCT/DE2009/000354
    • 2009-03-13
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHENGL, KarlHÖPPEL, LutzRODE, PatrickSABATHIL, Matthias
    • ENGL, KarlHÖPPEL, LutzRODE, PatrickSABATHIL, Matthias
    • H01L33/00H01L29/45H01L21/225
    • H01L33/382H01L33/10H01L33/40H01L33/46H01L33/62H01L2924/0002H01L2924/00
    • Es wird ein optoelektronischer Halbleiterchip angegeben. Der Halbleiterchip weist eine Halbleiterschichtenfolge (2) mit einer zur Strahlungserzeugung vorgesehenen aktiven Schicht (23) zwischen einer Schicht eines ersten Leitfähigkeitstyps (21) und einer Schicht eines zweiten Leitfähigkeitstyps (22) auf. Die Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) ist einer Vorderseite (110) der Halbleiterschichtenfolge (2) benachbart. Die Halbleiterschichtenfolge (2) enthält mindestens eine Ausnehmung (3), die sich von einer der Vorderseite (110) gegenüberliegenden Rückseite (120) der Halbleiterschichtenfolge (2) durch die aktive Schicht (23) hindurch zur Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) erstreckt. Die Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) ist mittels einer ersten elektrischen Anschlussschicht (5), welche die Rückseite (120) der Halbleiterschichtenfolge (2) zumindest stellenweise bedeckt, durch die Ausnehmung (3) hindurch elektrisch angeschlossen. Der Halbleiterchip enthält im Bereich der Ausnehmung (3) eine Übergangsschicht (20), die eine Materialzusammensetzung aus Material der Schicht des ersten Leitfähigkeitstyps (21) und aus Material der ersten elektrischen Anschlussschicht (5) aufweist. Weiter wird ein Verfahren zur Herstellung eines solchen Halbleiterchips angegeben.
    • 提供了一种光电子半导体芯片。 半导体芯片具有预期用于第一导电类型(21)和第二导电类型(22)的层构成的层之间产生辐射活性层(23)的半导体层序列(2)。 第一导电类型(21)的层是相邻的半导体层序列(2)的前侧(110)。 半导体层序列(2)包含通过对第一导电类型(21)的层(3)从通过有源层(23)的半导体层序列(2)的前侧(110)相对的后侧(120)中的一个延伸的至少一个凹部。 由(5)覆盖所述半导体层序列(2)中的至少在通过电连接由凹部(3)所覆盖的地方的背面(120)的第一电连接层的装置中的第一导电类型(21)的层。 该半导体芯片包括具有在所述凹部的区域中的第一导电类型(21)的材料层的材料组成的过渡层(20),(3)和从所述第一电连接层的材料(5)。 此外,被指定用于制造这样的半导体芯片的方法。
    • 60. 发明申请
    • LICHTEMITTIERENDER HALBLEITERCHIP UND VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES LICHTEMITTIERENDEN HALBLEITERCHIPS
    • 发光半导体芯片及用于制造发光半导体芯片的方法
    • WO2017158046A1
    • 2017-09-21
    • PCT/EP2017/056153
    • 2017-03-15
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • HÖPPEL, Lutz
    • H01L33/46H01L33/20H01L33/40
    • Es wird ein lichtemittierender Halbleiterchip angegeben, bei demsich ein Halbleiterkörper (2) zu einer Lichtaustrittsseite (100 a) hin aufweitet, -ein dielektrischer Spiegel (4) an einer der Lichtaustrittsseite (100 a) abgewandten Seite des Halbleiterkörpers (2) angeordnet ist, -ein metallischer Spiegel (7) an der dem Halbleiterkörper (2) abgewandten Seite des dielektrischen Spiegels (4) angeordnet ist, -der metallische Spiegel (7) durch zumindest eine Öffnung (6) im dielektrischen Spiegel (4) den Halbleiterkörper (2) elektrisch kontaktiert, und der dielektrische Spiegel (4) abgesehen von der zumindest einen Öffnung (6) den Halbleiterkörper (2) an seiner der Lichtaustrittsseite (100a) abgewandten Seite vollständig überdeckt.
    • 它是在demsich一个Halbleiterk&OUML所示的发光半导体芯片;主体(2)到光输出侧(100)朝膨胀,(4)从光出射侧的一个背向-a介电镜(100) 在电介质反射镜(4)的背离半导体本体(2)侧的一侧上设置有金属反射镜(7),该金属反射镜(7)至少由一个金属反射镜(7)布置。 在介质镜4中的开口6与半导体本体2电接触,并且介电反射镜4与半导体本体2在其光出射侧的至少一个开口6隔开。 100a)在完全覆盖的另一侧