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51. 发明专利

TW200951333A 電磁閥审中-公开
简体标题：电磁阀
公开(公告)号：TW200951333A
公开(公告)日：2009-12-16
申请号：TW098110473
申请日：2009-03-30
申请人：國立大學法人東北大學 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 西野功二 , 谷川毅 , 山路道雄 , 池田信一 , 土肥亮介
IPC分类号： F16K
CPC分类号： F16K31/0658 , F16K31/0675 , H01F7/1816 , H01F2007/1822
摘要：提供一種將進行驅動之專用電源小型化並謀求了省空間化之電磁閥。提供一種可瞬間進行開閉之電磁閥，其特徵為：係將具備有低直流內部電阻以及低等效串聯電阻之電性雙層電容器作為動力電源。電性雙層電容器，係為單胞之電性特性為靜電電容1~5F、額定電壓2.1~2.7V、直流內部電阻0.01~0.1Ω、且在1KHz下之等效串聯電阻為0.03~0.09Ω者，並具備有由比表面積為1~500m 2 /g之玻璃碳所成的分極性電極。
简体摘要：提供一种将进行驱动之专用电源小型化并谋求了省空间化之电磁阀。提供一种可瞬间进行开闭之电磁阀，其特征为：系将具备有低直流内部电阻以及低等效串联电阻之电性双层电容器作为动力电源。电性双层电容器，系为单胞之电性特性为静电电容1~5F、额定电压2.1~2.7V、直流内部电阻0.01~0.1Ω、且在1KHz下之等效串联电阻为0.03~0.09Ω者，并具备有由比表面积为1~500m 2 /g之玻璃碳所成的分极性电极。

52. 发明专利

TWI474865B 氣化器有权
简体标题：气化器
公开(公告)号：TWI474865B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481

53. 发明专利

TWI322342B 墊片型流孔組件及使用該墊片型流孔組件的壓力式流量控制裝置有权
简体标题：垫片型流孔组件及使用该垫片型流孔组件的压力式流量控制设备
公开(公告)号：TWI322342B
公开(公告)日：2010-03-21
申请号：TW095118127
申请日：2006-05-22
申请人：富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：大見忠弘 , 西野功二 , 土肥亮介 , 池田信一 , 永瀨正明 , 平田薰 , 杉田勝幸 , 篠原努 , 廣瀨隆 , 今井智一 , 吉田俊英 , 田中久士
IPC分类号： G05D , F16K
CPC分类号： F16K27/003 , F16L55/02718 , G01F1/36 , G01F15/001 , G01F15/005 , G05D7/0635
摘要：本發明的目的在於：在不必分解、組裝壓力式流量控制裝置的狀況下，藉由簡單地更換其流孔組件，而可輕易地執行控制流量的切換。
為達成上述目的，本發明是在具備流體供給用配管之連接部的入口側安裝用塊體(39)、與具備流體取出用配管之連接部的出口側安裝用塊體(43)之間，配設壓力式流量控制装置(A)之控制閥(2)的閥體(23)，藉由可各自分解地將該閥體(23)的流體入口側、與上述入口側安裝用塊體(39)的流體出口側；及上述閥體(23)的流體出口側、與上述出口側安裝用塊體(43)的流體入口側連結成氣密狀，而形成可供通過上述控制閥(2)之氣體流通的流路，並可自由裝卸地將壓力式流量控制裝置(A)的墊片型流孔組件(38)插入固定於設在上述閥體(23)之出口側的墊片型流孔組件插入孔(42c)、與設在出口側安裝用塊體(43)之流體入口側的墊片型流孔組件插入孔(43b)之間的構造。【創作特點】本發明，是解決傳統流孔組件及使用流孔組件的壓力式流量控制裝置中上述問題的發明，所謂傳統流孔組件及使用流孔組件的壓力式流量控制裝置的問題是指：(1)無法輕易地使用薄流孔組件板來製造具有特定孔徑及形態之穩定的流孔組件；(2)熔接型的流孔組件容易因熱應力而產生流孔的變形或流孔組件板的裂痕；(3)此外，在採用流孔組件的壓力式流量控制裝置中，無法僅變更流量運算迴路的變換率k，來對應流量範為的大幅擴大；(4)傳統的流孔組件更換方式，除了流孔組件的更換所需的步驟過於煩瑣之外，還具有外部洩漏的可能性高之類的問題，本發明可採用極薄的流孔組件板來獲得高精度且穩定的流量特性，並能簡單地朝流體通路內插入固定而在無洩漏的狀態下形成挾持固定，不僅如此，本發明的目的是提供一種：價格低廉且容易製造的流孔組件及使用該流孔組件的壓力式流量控制裝置，並且即使從工廠出貨之後，在現場也能更換流孔組件8而簡單且迅速地改變流量範圍(range)，不會形成來自於流孔組件8的外部洩漏，進而可大幅提高流量控制精度的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置。
申請專利範圍第1項之發明的墊片型流孔組件，其發明的基本構成是形成：將具備嵌合用突部(38a1)的流孔組件基座(38a)與具備嵌合用凹部(38b1)的流孔組件基座(38b)加以組合，並藉由將嵌合用突部(38a1)壓入嵌合用凹部(38b1)，而使並將流孔組件板(38c)於嵌合用突部(38a1)與嵌合用凹部(38b1)之間被挾持成氣密狀，並將兩流孔組件基座(38a)，(38b)的兩端面(38a3)，(38b3)作為墊片的密封面。
申請專利範圍第2項之發明的壓力式流量控制裝置，其發明的基本構成是形成：是具備控制閥、壓力檢測器、流孔組件、流量運算迴路及運算控制迴路的壓力式流量控制裝置(A)，其中上述的流孔組件為申請專利範圍第1項所記載的墊片型流孔組件。
申請專利範圍第3項的發明，如申請專利範圍第2項的壓力式流量控制裝置，其中形成壓力式流量控制裝置(A)的控制閥的閥體(23)是由：具有流體流動通路(40a)的入口側塊體(40)；和具備閥座(2b)的中央塊體(41)；及具備出口側流體通路(42a)的出口側塊體(42)連結成氣密狀所構成。
申請專利範圍第4項的發明，如申請專利範圍第3項的壓力式流量控制裝置，其中構成壓力式流量控制裝置(A)之流孔組件的設置位置，是設在控制閥之中央塊體(41)的流體出口側、與出口側安裝用塊體(42)的流體入口側之間。
申請專利範圍第5項之發明的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置，其發明的基本構成是形成：在具備流體供給用配管之連接部的入口側安裝用塊體39、與具備流體取出用配管之連接部的出口側安裝用塊體43之間配設壓力式流量控制裝置A之控制閥2的閥體23，藉由可各自分解地將該閥體23的流體入口側、與上述入口側安裝用塊體39的流體出口側；及上述閥體23的流體出口側、與上述出口側安裝用塊體43的流體入口側連結成氣密狀，而形成可供通過上述控制閥2之氣體形成流通的流路，並可自由裝卸地將壓力式流量控制裝置A的墊片型流孔組件38插入固定於設在上述閥體23之出口側的墊片型流孔組件插入孔42c、與設在出口側安裝用塊體43之流體入口側的墊片型流孔組件插入孔43b之間，上述墊片型流孔組件38，將具備嵌合用突部38a1的流孔組件基座38a；及具備嵌合用凹部38b1的流孔組件基座38b加以組合，並藉由將嵌合用突部38a1壓入嵌合用凹部38b1，而使流孔組件板38c於嵌合用突部38a1與嵌合用凹部38b1之間被挾持成氣密狀。
申請專利範圍第6項的發明，如申請專利範圍第5項的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置，其中形成壓力式流量控制裝置A之控制閥2的閥體23是由：具有流體流動通路40a的入口側塊體40；和具備閥座2b的中央塊體41；及具備出口側流體通路42a的出口側塊體42連結成氣密狀所構成。
申請專利範圍第7項的發明，如申請專利範圍第6項的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置，其中在中央塊體41設置可供壓力式流量控制裝置A之壓力檢測器6插入固定的壓力檢測器插入孔41e。
本發明申請專利範圍第1項的墊片型流孔組件38，由於是構成使流孔組件板38c嵌合於兩流孔組件基座38a、38b之間並緊密接合成氣密狀，因此即使是極薄的金屬板或者金屬薄膜，也能不產生變形地挾持於兩流孔組件基座38a、38b之間。
如此一來，藉由可使用具有更高精度之流孔的流孔組件板38c，並將兩流孔組件基座的外側端作為密封面來利用，故可使流孔組件38本身作為墊片而緊密地朝管路等鎖入固定。
本發明之申請專利範圍第2項的壓力式流量控制裝置，由於採用申請專利範圍第1項的墊片型流孔組件38，故可達成流孔組件38本身的高精度化，並可趨近完美地達成確保流孔組件38於安裝時的氣密性及防止變形。
在本發明之申請專利範圍第5項的流孔組件交換型壓力式流量控制裝置中，由於可極為輕易地執行流孔組件的更換，並可趨近完美地確保流孔組件38於安裝時的氣密性及防止變形，因此可執行高精度的流量控制控制。
简体摘要：本发明的目的在于：在不必分解、组装压力式流量控制设备的状况下，借由简单地更换其流孔组件，而可轻易地运行控制流量的切换。为达成上述目的，本发明是在具备流体供给用配管之连接部的入口侧安装用块体(39)、与具备流体取出用配管之连接部的出口侧安装用块体(43)之间，配设压力式流量控制装置(A)之控制阀(2)的阀体(23)，借由可各自分解地将该阀体(23)的流体入口侧、与上述入口侧安装用块体(39)的流体出口侧；及上述阀体(23)的流体出口侧、与上述出口侧安装用块体(43)的流体入口侧链接成气密状，而形成可供通过上述控制阀(2)之气体流通的流路，并可自由装卸地将压力式流量控制设备(A)的垫片型流孔组件(38)插入固定于设在上述阀体(23)之出口侧的垫片型流孔组件插入孔(42c)、与设在出口侧安装用块体(43)之流体入口侧的垫片型流孔组件插入孔(43b)之间的构造。【创作特点】本发明，是解决传统流孔组件及使用流孔组件的压力式流量控制设备中上述问题的发明，所谓传统流孔组件及使用流孔组件的压力式流量控制设备的问题是指：(1)无法轻易地使用薄流孔组件板来制造具有特定孔径及形态之稳定的流孔组件；(2)熔接型的流孔组件容易因热应力而产生流孔的变形或流孔组件板的裂痕；(3)此外，在采用流孔组件的压力式流量控制设备中，无法仅变更流量运算回路的变换率k，来对应流量范为的大幅扩大；(4)传统的流孔组件更换方式，除了流孔组件的更换所需的步骤过于烦琐之外，还具有外部泄漏的可能性高之类的问题，本发明可采用极薄的流孔组件板来获得高精度且稳定的流量特性，并能简单地朝流体通路内插入固定而在无泄漏的状态下形成挟持固定，不仅如此，本发明的目的是提供一种：价格低廉且容易制造的流孔组件及使用该流孔组件的压力式流量控制设备，并且即使从工厂出货之后，在现场也能更换流孔组件8而简单且迅速地改变流量范围(range)，不会形成来自于流孔组件8的外部泄漏，进而可大幅提高流量控制精度的流孔组件交换型压力式流量控制设备。申请专利范围第1项之发明的垫片型流孔组件，其发明的基本构成是形成：将具备嵌合用突部(38a1)的流孔组件基座(38a)与具备嵌合用凹部(38b1)的流孔组件基座(38b)加以组合，并借由将嵌合用突部(38a1)压入嵌合用凹部(38b1)，而使并将流孔组件板(38c)于嵌合用突部(38a1)与嵌合用凹部(38b1)之间被挟持成气密状，并将两流孔组件基座(38a)，(38b)的两端面(38a3)，(38b3)作为垫片的密封面。申请专利范围第2项之发明的压力式流量控制设备，其发明的基本构成是形成：是具备控制阀、压力检测器、流孔组件、流量运算回路及运算控制回路的压力式流量控制设备(A)，其中上述的流孔组件为申请专利范围第1项所记载的垫片型流孔组件。申请专利范围第3项的发明，如申请专利范围第2项的压力式流量控制设备，其中形成压力式流量控制设备(A)的控制阀的阀体(23)是由：具有流体流动通路(40a)的入口侧块体(40)；和具备阀座(2b)的中央块体(41)；及具备出口侧流体通路(42a)的出口侧块体(42)链接成气密状所构成。申请专利范围第4项的发明，如申请专利范围第3项的压力式流量控制设备，其中构成压力式流量控制设备(A)之流孔组件的设置位置，是设在控制阀之中央块体(41)的流体出口侧、与出口侧安装用块体(42)的流体入口侧之间。申请专利范围第5项之发明的流孔组件交换型压力式流量控制设备，其发明的基本构成是形成：在具备流体供给用配管之连接部的入口侧安装用块体39、与具备流体取出用配管之连接部的出口侧安装用块体43之间配设压力式流量控制设备A之控制阀2的阀体23，借由可各自分解地将该阀体23的流体入口侧、与上述入口侧安装用块体39的流体出口侧；及上述阀体23的流体出口侧、与上述出口侧安装用块体43的流体入口侧链接成气密状，而形成可供通过上述控制阀2之气体形成流通的流路，并可自由装卸地将压力式流量控制设备A的垫片型流孔组件38插入固定于设在上述阀体23之出口侧的垫片型流孔组件插入孔42c、与设在出口侧安装用块体43之流体入口侧的垫片型流孔组件插入孔43b之间，上述垫片型流孔组件38，将具备嵌合用突部38a1的流孔组件基座38a；及具备嵌合用凹部38b1的流孔组件基座38b加以组合，并借由将嵌合用突部38a1压入嵌合用凹部38b1，而使流孔组件板38c于嵌合用突部38a1与嵌合用凹部38b1之间被挟持成气密状。申请专利范围第6项的发明，如申请专利范围第5项的流孔组件交换型压力式流量控制设备，其中形成压力式流量控制设备A之控制阀2的阀体23是由：具有流体流动通路40a的入口侧块体40；和具备阀座2b的中央块体41；及具备出口侧流体通路42a的出口侧块体42链接成气密状所构成。申请专利范围第7项的发明，如申请专利范围第6项的流孔组件交换型压力式流量控制设备，其中在中央块体41设置可供压力式流量控制设备A之压力检测器6插入固定的压力检测器插入孔41e。本发明申请专利范围第1项的垫片型流孔组件38，由于是构成使流孔组件板38c嵌合于两流孔组件基座38a、38b之间并紧密接合成气密状，因此即使是极薄的金属板或者金属薄膜，也能不产生变形地挟持于两流孔组件基座38a、38b之间。如此一来，借由可使用具有更高精度之流孔的流孔组件板38c，并将两流孔组件基座的外侧端作为密封面来利用，故可使流孔组件38本身作为垫片而紧密地朝管路等锁入固定。本发明之申请专利范围第2项的压力式流量控制设备，由于采用申请专利范围第1项的垫片型流孔组件38，故可达成流孔组件38本身的高精度化，并可趋近完美地达成确保流孔组件38于安装时的气密性及防止变形。在本发明之申请专利范围第5项的流孔组件交换型压力式流量控制设备中，由于可极为轻易地运行流孔组件的更换，并可趋近完美地确保流孔组件38于安装时的气密性及防止变形，因此可运行高精度的流量控制控制。

54. 发明专利

TWI403657B 調整閥裝置失效
简体标题：调整阀设备
公开(公告)号：TWI403657B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW099107631
申请日：2010-03-16
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 谷川毅 , TANIGAWA, TSUYOSHI , 金子裕是 , KANEKO, HIROSHI , 八木靖司 , YAGI, YASUSHI , 小野裕司 , ONO, YUJI , 大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI
IPC分类号： F16K31/122 , F16K51/02 , C23C14/24
CPC分类号： F16K31/126 , F16K31/1268 , F16K41/10

55. 发明专利

TW201103865A 產生水分用反應爐失效
简体标题：产生水分用反应炉
公开(公告)号：TW201103865A
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：TW099112973
申请日：2010-04-23
申请人：富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：大見忠弘 , 川田幸司 , 池田信一 , 森本明弘 , 皆見幸男 , 平尾圭志 , 坂本信治 , 北野真史
IPC分类号： C01B , B01J , H01L
CPC分类号： B01J23/63 , B01J12/007 , B01J23/42 , B01J35/023 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , C01B5/00
摘要：本發明的課題在於提供一種產生水分用反應爐，其係藉由對具有鉑觸媒層的反應爐內供給氫氣與氧氣，使進行催化反應，而不使燃燒，在比氫氣和氧氣之著火點低的催化反應溫度使產生高純度的水分之產生水分用反應爐，其中對於設置在母材與鉑觸媒層之間的障壁層，可長期間維持鉑觸媒層的高附著力。本發明的解決手段為具有：設有氣體入口及水分出口的反應爐本體，在前述反應爐本體的內壁面之至少一部分上所成膜的Y2O3障壁層，及在該Y2O3障壁層上的至少一部分上所成膜的鉑觸媒層。前述Y2O3障壁層的膜厚較佳為50nm～5μm。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种产生水分用反应炉，其系借由对具有铂触媒层的反应炉内供给氢气与氧气，使进行催化反应，而不使燃烧，在比氢气和氧气之着火点低的催化反应温度使产生高纯度的水分之产生水分用反应炉，其中对于设置在母材与铂触媒层之间的障壁层，可长期间维持铂触媒层的高附着力。本发明的解决手段为具有：设有气体入口及水分出口的反应炉本体，在前述反应炉本体的内壁面之至少一部分上所成膜的Y2O3障壁层，及在该Y2O3障壁层上的至少一部分上所成膜的铂触媒层。前述Y2O3障壁层的膜厚较佳为50nm～5μm。

56. 发明专利

TWI451030B 調整閥裝置失效
简体标题：调整阀设备
公开(公告)号：TWI451030B
公开(公告)日：2014-09-01
申请号：TW099138276
申请日：2010-11-08
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：金子裕是 , KANEKO, HIROSHI , 八木靖司 , YAGI, YASUSHI , 小野裕司 , ONO, YUJI , 谷川毅 , TANIKAWA, TSUYOSHI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO
IPC分类号： F16K31/126
CPC分类号： F16K31/126 , F16K1/34 , F16K25/005 , Y10T137/776

57. 发明专利

TWI441994B 電磁閥有权
简体标题：电磁阀
公开(公告)号：TWI441994B
公开(公告)日：2014-06-21
申请号：TW098110473
申请日：2009-03-30
申请人：國立大學法人東北大學 , NATIONAL UNIVERSITY CORPORATION TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 谷川毅 , TANIGAWA, TSUYOSHI , 山路道雄 , YAMAJI, MICHIO , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE
IPC分类号： F16K31/02
CPC分类号： F16K31/0658 , F16K31/0675 , H01F7/1816 , H01F2007/1822

58. 发明专利

TW201321079A 氣化器审中-公开
简体标题：气化器
公开(公告)号：TW201321079A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： [課題]提供一種可使氣化器內的壓力的行動安定的氣化器。[解決手段]本發明之氣化器係具備有：具備流入口及流出口的腔室；將該腔室內加熱的加熱裝置；被設在該腔室內，將該腔室內的液體材料區分成複數劃區的間隔壁構造體(13)；及被設在間隔壁構造體(13)的下部，容許以間隔壁構造體(13)所被區分的各劃區間的液體流通的液體流通部(20)，前述間隔壁構造體係具有格子狀、蜂巢狀、網孔狀、或管狀的間隔壁。
简体摘要： [课题]提供一种可使气化器内的压力的行动安定的气化器。[解决手段]本发明之气化器系具备有：具备流入口及流出口的腔室；将该腔室内加热的加热设备；被设在该腔室内，将该腔室内的液体材料区分成复数划区的间隔壁构造体(13)；及被设在间隔壁构造体(13)的下部，容许以间隔壁构造体(13)所被区分的各划区间的液体流通的液体流通部(20)，前述间隔壁构造体系具有格子状、蜂嵌套、网孔状、或管状的间隔壁。

59. 发明专利

TW432267B 壓力式流量控制裝置之孔口阻塞偵知方法及偵知裝置有权
简体标题：压力式流量控制设备之孔口阻塞侦知方法及侦知设备
公开(公告)号：TW432267B
公开(公告)日：2001-05-01
申请号：TW088114058
申请日：1999-08-17
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 加賀爪哲 , 廣瀨潤 , 西野功二 , 池田信一 , 山路道雄 , 土肥亮介
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/0396 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761 , Y10T137/8326
摘要：本發明有關於壓力式流量控制裝置之孔口阻塞偵知方法及該孔口阻塞偵知裝置。
(課題)本發明係利用孔口之流量控制裝置中，不需要分解之下藉由上游側壓力之檢出而實施孔口之阻塞之偵知(檢出)由而延長流量控制裝置之壽命及提高安全性。
(解決手段)將上游側壓力P1保持於下游側壓力P2之約2倍以上而將下游側之流量QvC以QvC=KP1(K:常數)來計算，而以此計算流量QvC與設定流量Qs之相差訊號QvY來實施控制閥(CV)之開閉控制之流量控制裝置中，其特徵為，由:記憶了該在孔口(2)沒有阻塞之條件下，由高設定流量QvSH切換至低設定流量QvSL而所測定之上游側壓力P1之基準壓力減衰數據Y(t)之記憶裝置 M，及在孔口(2)之實際條件下由高設定量量QvSH而切換至低設定流量QvSL以資測定上游側壓力P1之壓力減衰數據P(t)之上述壓力檢出器(14);及將壓力減衰數據P(t)與基準壓力減衰數據Y(t)實施對比計算之中央計算處理裝置ＣＰＵ；以及當壓力減衰數據P(t）之自基準壓力減衰數據Y（t)而離開有規定度以上時,即據以告知有阻塞之警報電路(４６)構成孔口阻塞偵出裝置。（選擇圖）第l圖。
简体摘要：本发明有关于压力式流量控制设备之孔口阻塞侦知方法及该孔口阻塞侦知设备。 (课题)本发明系利用孔口之流量控制设备中，不需要分解之下借由上游侧压力之检出而实施孔口之阻塞之侦知(检出)由而延长流量控制设备之寿命及提高安全性。 (解决手段)将上游侧压力P1保持于下游侧压力P2之约2倍以上而将下游侧之流量QvC以QvC=KP1(K:常数)来计算，而以此计算流量QvC与设置流量Qs之相差信号QvY来实施控制阀(CV)之开闭控制之流量控制设备中，其特征为，由:记忆了该在孔口(2)没有阻塞之条件下，由高设置流量QvSH切换至低设置流量QvSL而所测定之上游侧压力P1之基准压力减衰数据Y(t)之记忆设备 M，及在孔口(2)之实际条件下由高设置量量QvSH而切换至低设置流量QvSL以资测定上游侧压力P1之压力减衰数据P(t)之上述压力检出器(14);及将压力减衰数据P(t)与基准压力减衰数据Y(t)实施对比计算之中央计算处理设备ＣＰＵ；以及当压力减衰数据P(t）之自基准压力减衰数据Y（t)而离开有规定度以上时,即据以告知有阻塞之警报电路(４６)构成孔口阻塞侦出设备。（选择图）第l图。

60. 发明专利

TW552491B 改良型壓力式流量控制裝置有权
简体标题：改良型压力式流量控制设备
公开(公告)号：TW552491B
公开(公告)日：2003-09-11
申请号：TW091135458
申请日：2002-12-06
申请人：富士金股份有限公司 , 東京威力科創股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 乾秀二郎 , 酒井泰治 , 植山將宜 , 杉山一彥 , 宇野富雄 , 池田信一 , 西野功二 , 中村修 , 土肥亮介 , 松本薦諮
IPC分类号： G05D
CPC分类号： G05D7/0635 , Y10T137/7759 , Y10T137/7761
摘要：本發明之技術課題為開發非臨界領域中確立高精度匹配壓縮性流體的實際流量的實驗流量式，使用此流量式高精度進行流量控制的改良型壓力式流量控制裝置。
本發明之解決手段在於提供一種改良型壓力式流量控制裝置，其以QC=KP2m(P1-P2)n表示非臨界領域(非音速域)中壓縮性流體的實驗流量式，以此QC=KP2m(P1-P2)n(K為比例常數，m及n為常數)計算通過孔口4的流體流量，同正確且高速地將流量控制於指定流量。又提供一種改良型壓力式流量控制裝置，其經常將上游側壓力P1及下游側壓力P2所得壓力比P2/P1=r與臨界值rc比較，在臨界條件(r≦rc)下以QC=KP1，在非臨界條件(r>rc)下以 Qc=KP2m(P1-P2)n運算流量，可一面對應流體的所有條件，一面正確且高速地將流量控制於指定流量。
简体摘要：本发明之技术课题为开发非临界领域中确立高精度匹配压缩性流体的实际流量的实验流量式，使用此流量式高精度进行流量控制的改良型压力式流量控制设备。本发明之解决手段在于提供一种改良型压力式流量控制设备，其以QC=KP2m(P1-P2)n表示非临界领域(非音速域)中压缩性流体的实验流量式，以此QC=KP2m(P1-P2)n(K为比例常数，m及n为常数)计算通过孔口4的流体流量，同正确且高速地将流量控制于指定流量。又提供一种改良型压力式流量控制设备，其经常将上游侧压力P1及下游侧压力P2所得压力比P2/P1=r与临界值rc比较，在临界条件(r≦rc)下以QC=KP1，在非临界条件(r>rc)下以 Qc=KP2m(P1-P2)n运算流量，可一面对应流体的所有条件，一面正确且高速地将流量控制于指定流量。

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