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1. 发明专利

TWI474865B 氣化器有权
简体标题：气化器
公开(公告)号：TWI474865B
公开(公告)日：2015-03-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481

2. 发明专利

TW201321079A 氣化器审中-公开
简体标题：气化器
公开(公告)号：TW201321079A
公开(公告)日：2013-06-01
申请号：TW101127599
申请日：2012-07-31
申请人：國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY , 富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 白井泰雪 , SHIRAI, YASUYUKI , 永瀨正明 , NAGASE, MASAAKI , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 土肥亮介 , DOHI, RYOUSUKE , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI
IPC分类号： B01J7/00
CPC分类号： C23C16/4481
摘要： [課題]提供一種可使氣化器內的壓力的行動安定的氣化器。[解決手段]本發明之氣化器係具備有：具備流入口及流出口的腔室；將該腔室內加熱的加熱裝置；被設在該腔室內，將該腔室內的液體材料區分成複數劃區的間隔壁構造體(13)；及被設在間隔壁構造體(13)的下部，容許以間隔壁構造體(13)所被區分的各劃區間的液體流通的液體流通部(20)，前述間隔壁構造體係具有格子狀、蜂巢狀、網孔狀、或管狀的間隔壁。
简体摘要： [课题]提供一种可使气化器内的压力的行动安定的气化器。[解决手段]本发明之气化器系具备有：具备流入口及流出口的腔室；将该腔室内加热的加热设备；被设在该腔室内，将该腔室内的液体材料区分成复数划区的间隔壁构造体(13)；及被设在间隔壁构造体(13)的下部，容许以间隔壁构造体(13)所被区分的各划区间的液体流通的液体流通部(20)，前述间隔壁构造体系具有格子状、蜂嵌套、网孔状、或管状的间隔壁。

3. 发明专利

TW201103865A 產生水分用反應爐失效
简体标题：产生水分用反应炉
公开(公告)号：TW201103865A
公开(公告)日：2011-02-01
申请号：TW099112973
申请日：2010-04-23
申请人：富士金股份有限公司 , 國立大學法人東北大學
发明人：大見忠弘 , 川田幸司 , 池田信一 , 森本明弘 , 皆見幸男 , 平尾圭志 , 坂本信治 , 北野真史
IPC分类号： C01B , B01J , H01L
CPC分类号： B01J23/63 , B01J12/007 , B01J23/42 , B01J35/023 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , C01B5/00
摘要：本發明的課題在於提供一種產生水分用反應爐，其係藉由對具有鉑觸媒層的反應爐內供給氫氣與氧氣，使進行催化反應，而不使燃燒，在比氫氣和氧氣之著火點低的催化反應溫度使產生高純度的水分之產生水分用反應爐，其中對於設置在母材與鉑觸媒層之間的障壁層，可長期間維持鉑觸媒層的高附著力。本發明的解決手段為具有：設有氣體入口及水分出口的反應爐本體，在前述反應爐本體的內壁面之至少一部分上所成膜的Y2O3障壁層，及在該Y2O3障壁層上的至少一部分上所成膜的鉑觸媒層。前述Y2O3障壁層的膜厚較佳為50nm～5μm。
简体摘要：本发明的课题在于提供一种产生水分用反应炉，其系借由对具有铂触媒层的反应炉内供给氢气与氧气，使进行催化反应，而不使燃烧，在比氢气和氧气之着火点低的催化反应温度使产生高纯度的水分之产生水分用反应炉，其中对于设置在母材与铂触媒层之间的障壁层，可长期间维持铂触媒层的高附着力。本发明的解决手段为具有：设有气体入口及水分出口的反应炉本体，在前述反应炉本体的内壁面之至少一部分上所成膜的Y2O3障壁层，及在该Y2O3障壁层上的至少一部分上所成膜的铂触媒层。前述Y2O3障壁层的膜厚较佳为50nm～5μm。

4. 发明专利

TWI419837B 產生水分用反應爐失效
简体标题：产生水分用反应炉
公开(公告)号：TWI419837B
公开(公告)日：2013-12-21
申请号：TW099112973
申请日：2010-04-23
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED , 國立大學法人東北大學 , TOHOKU UNIVERSITY
发明人：大見忠弘 , OHMI, TADAHIRO , 川田幸司 , KAWADA, KOJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU , 森本明弘 , MORIMOTO, AKIHIRO , 皆見幸男 , MINAMI, YUKIO , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI , 坂本信治 , SAKAMOTO, NOBUHARU , 北野真史 , KITANO, MASAFUMI
IPC分类号： C01B5/00 , B01J23/42 , B01J19/00 , H01L21/02
CPC分类号： B01J23/63 , B01J12/007 , B01J23/42 , B01J35/023 , B01J37/0225 , B01J37/0244 , C01B5/00

5. 发明专利

TW369453B 鎖緊裝置失效
简体标题：锁紧设备
公开(公告)号：TW369453B
公开(公告)日：1999-09-11
申请号：TW086104442
申请日：1997-04-08
申请人：大見忠弘 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 小島徹哉 , 山路道雄 , 出田英二 , 平尾圭志 , 福田浩幸 , 篠原努
IPC分类号： B23P
摘要：提供一種可消除僅以規定角度一點一點地依順序旋轉螺紋構件之麻煩作業或單邊鎖緊，同時可將複數之螺紋構件以適當的鎖緊扭矩予以鎖緊之鎖緊裝置。
鎖緊裝置1，係具備有：以嵌合於螺紋構件44之扳手部8前端所具有二支旋轉軸6；將各旋轉軸6以個別驅動之馬達3；以及分別檢出各螺紋構件44之鎖緊扭矩並依據此檢出值使鎖緊能適當地實行而控制馬達3之控制部9。在控制部9，係判定每一螺紋構件44之鎖緊扭矩是否在規定範圍內以及各各螺紋構件44間之鎖聚扭矩差是否在規定內。
简体摘要：提供一种可消除仅以规定角度一点一点地依顺序旋转螺纹构件之麻烦作业或单边锁紧，同时可将复数之螺纹构件以适当的锁紧扭矩予以锁紧之锁紧设备。锁紧设备1，系具备有：以嵌合于螺纹构件44之扳手部8前端所具有二支旋转轴6；将各旋转轴6以个别驱动之马达3；以及分别检出各螺纹构件44之锁紧扭矩并依据此检出值使锁紧能适当地实行而控制马达3之控制部9。在控制部9，系判定每一螺纹构件44之锁紧扭矩是否在规定范围内以及各各螺纹构件44间之锁聚扭矩差是否在规定内。

6. 发明专利

TWI671426B 流體控制裝置有权
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TWI671426B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW107125646
申请日：2018-07-25
申请人：日商富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 中谷貴紀 , NAKATANI, TAKATOSHI , 中辻景介 , NAKATSUJI, KEISUKE , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI , 皆見幸男 , MINAMI, YUKIO , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： C23C16/448 , C23C16/52 , H01L21/31

7. 发明专利

TW201631299A 液面計及液體原料氣化供給裝置审中-公开
简体标题：液面计及液体原料气化供给设备
公开(公告)号：TW201631299A
公开(公告)日：2016-09-01
申请号：TW104137016
申请日：2015-11-10
申请人：富士金股份有限公司 , FUJIKIN INCORPORATED
发明人：日高敦志 , HIDAKA, ATSUSHI , 永瀬正明 , NAGASE, MASAAKI , 平田薰 , HIRATA, KAORU , 山下哲 , YAMASHITA, SATORU , 平尾圭志 , HIRAO, KEIJI , 西野功二 , NISHINO, KOUJI , 池田信一 , IKEDA, NOBUKAZU
IPC分类号： G01F23/22 , C23C16/455 , B01J4/00 , H01L21/31
CPC分类号： C23C16/45561 , B01J4/00 , C23C16/448 , C23C16/4481 , G01F23/22 , G01F23/247 , G01F23/26 , H01L21/31 , H01L21/67248
摘要：提供可在由液相切換成氣相的感測時間減少流量依存性，並且縮短感測時間的液面計及液體原料氣化供給裝置。具備有：貯留液體原料的腔室(2)；收容有用以感測腔室(2)內的液面(L1)的測溫電阻體的至少一支保護管(3)；及控制由腔室(2)流出的氣體流量來進行供給的流量控制裝置(4)，保護管(3)以水平方向被插入在腔室(2)的側壁(2a)而予以固定。
简体摘要：提供可在由液相切换成气相的传感时间减少流量依存性，并且缩短传感时间的液面计及液体原料气化供给设备。具备有：贮留液体原料的腔室(2)；收容有用以传感腔室(2)内的液面(L1)的测温电阻体的至少一支保护管(3)；及控制由腔室(2)流出的气体流量来进行供给的流量控制设备(4)，保护管(3)以水平方向被插入在腔室(2)的侧壁(2a)而予以固定。

8. 发明专利

TW354821B 流體聯接器失效
简体标题：流体联接器
公开(公告)号：TW354821B
公开(公告)日：1999-03-21
申请号：TW086115019
申请日：1997-10-14
申请人：富士金股份有限公司
发明人：平尾圭志
IPC分类号： F17D , F16L , H01L
CPC分类号： F16L23/032 , F16L23/16 , F16L23/18 , Y10S285/917
摘要：在各聯接器構件的接合端面，設收納填隙物及機緣的凹處，在凹處的底面中央部，設具有填隙物押壓用環狀突起於先端的機緣保持用圓筒部。填隙物係，由小徑部及外徑比此更大的大徑部所構成。扣緣係，裝設於填隙物的小徑部擋接的聯接器構件之扣緣保持用圓筒部。
简体摘要：在各联接器构件的接合端面，设收纳填隙物及机缘的凹处，在凹处的底面中央部，设具有填隙物押压用环状突起于先端的机缘保持用圆筒部。填隙物系，由小径部及外径比此更大的大径部所构成。扣缘系，装设于填隙物的小径部挡接的联接器构件之扣缘保持用圆筒部。

9. 发明专利

TW553900B 產生供給水分裝置及產生水分用反應爐有权
简体标题：产生供给水分设备及产生水分用反应炉
公开(公告)号：TW553900B
公开(公告)日：2003-09-21
申请号：TW089115809
申请日：2000-08-05
申请人：富士金股份有限公司 , 大見忠弘
发明人：大見忠弘 , 池田信一 , 皆見幸男 , 川田幸司 , 米華克典 , 本井傳晃央 , 平井暢 , 森本明弘 , 成相敏郎 , 平尾圭志 , 田口將暖 , 中村修 , 瑪儂哈魯拉魯休雷司他
IPC分类号： C01B
CPC分类号： B01J3/006 , B01J7/00 , B01J12/007 , C01B5/00
摘要：本發明之目的在於提供一種減壓型產生供給水分裝置，藉由將水分氣體減壓供給(例如數Torr)將水分產生用反應爐之內壓保持於較高，而可防止氫之自然引燃，具有安全性；本發明之目的又在提供一種產生水分用反應爐，藉由將產生水分反應爐高效率地冷卻，同在不增大反應爐之尺寸下，大幅增大產生水分量。
為此，本發明之減壓型產生供給水分裝置，係由：自氫及氧以觸媒反應產生水分氣體之產生水分用反應爐，以及設於該產生水分用反應爐的下游側之減壓機構所構成；其特徵在於：藉由該減壓機構將水分氣體減壓供給至下游側，並將反應爐內之內壓保持於較高。
又本發明之散熱式產生水分用反應爐，係由：組合入口側爐本體部件及出口側爐本體部件而形成內部空間之反應爐本體，密接於上述爐本體部件外壁面之散熱片基板，以及立設於該散熱片基板之多數個散熱用散熱片所構成，藉由上述散熱用散熱片，將產生之熱強制放射而令反應爐低溫化。又，將散熱用散熱片作防蝕鋁加工而增大熱放射率，使放射效率更為增大。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种减压型产生供给水分设备，借由将水分气体减压供给(例如数Torr)将水分产生用反应炉之内压保持于较高，而可防止氢之自然引燃，具有安全性；本发明之目的又在提供一种产生水分用反应炉，借由将产生水分反应炉高效率地冷却，同在不增大反应炉之尺寸下，大幅增大产生水分量。为此，本发明之减压型产生供给水分设备，系由：自氢及氧以触媒反应产生水分气体之产生水分用反应炉，以及设于该产生水分用反应炉的下游侧之减压机构所构成；其特征在于：借由该减压机构将水分气体减压供给至下游侧，并将反应炉内之内压保持于较高。又本发明之散热式产生水分用反应炉，系由：组合入口侧炉本体部件及出口侧炉本体部件而形成内部空间之反应炉本体，密接于上述炉本体部件外壁面之散热片基板，以及立设于该散热片基板之多数个散热用散热片所构成，借由上述散热用散热片，将产生之热强制放射而令反应炉低温化。又，将散热用散热片作防蚀铝加工而增大热放射率，使放射效率更为增大。

10. 发明专利

TW517140B 流體控制裝置失效
简体标题：流体控制设备
公开(公告)号：TW517140B
公开(公告)日：2003-01-11
申请号：TW087112834
申请日：1998-08-04
申请人：大見忠弘 , 富士金股份有限公司
发明人：大見忠弘 , 皆見幸男 , 森本明弘 , 池田信一 , 平尾圭志 , 廣瀨隆 , 山路道雄
IPC分类号： F15B , F17D
CPC分类号： F16K27/003 , Y10T137/87684
摘要：一種流體控制裝置，具備第一通路並與此連接且由流體控制用機器使末端部被封閉的第二通路，構成第二通路積存流體的狀態在第一通路流動不同的流體。然後，第一通路由上游部及與此大致以直角狀連接的下游部構成，第二通路設置成從第一通路之上游部末端增長於其延長線上。(選擇圖)第1圖
简体摘要：一种流体控制设备，具备第一通路并与此连接且由流体控制用机器使末端部被封闭的第二通路，构成第二通路积存流体的状态在第一通路流动不同的流体。然后，第一通路由上游部及与此大致以直角状连接的下游部构成，第二通路设置成从第一通路之上游部末端增长于其延长在线。(选择图)第1图

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