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51. 发明专利

TWI416742B 形成太陽能電池之選擇性發射極的方法及擴散裝置有权
简体标题：形成太阳能电池之选择性发射极的方法及扩散设备
公开(公告)号：TWI416742B
公开(公告)日：2013-11-21
申请号：TW098127059
申请日：2009-08-12
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD
发明人：許閏成 , HUH, YUNSUNG , 朴勝一 , PARK, SEUNGIL , 李萬根 , LEE, MANGEUN
IPC分类号： H01L31/0224 , H01L31/18 , H01L21/24
CPC分类号： Y02P70/521

52. 发明专利

TWI413204B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI413204B
公开(公告)日：2013-10-21
申请号：TW099115090
申请日：2010-05-12
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD.
发明人：李昇垣 , LEE, SEUNG-WON
IPC分类号： H01L21/677

53. 发明专利

TWI395067B 感光液塗敷裝置有权
简体标题：感光液涂敷设备
公开(公告)号：TWI395067B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：TW098118526
申请日：2009-06-04
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD.
发明人：李焌碩 , LEE, JUN-SEOK , 姜智銀 , KANG, JI-EUN
IPC分类号： G03F7/16 , B05C5/02 , B05C9/08

54. 发明专利

TWI386968B 一種等離子化學反應器有权
简体标题：一种等离子化学反应器
公开(公告)号：TWI386968B
公开(公告)日：2013-02-21
申请号：TW097144639
申请日：2008-11-19
申请人： DMS有限公司 , DMS CO., LTD
发明人：蔡煥國 , CHAE, HWANKOOK , 李東錫 , LEE, DONGSEOK , 文熙錫 , MOON, HEESEOK , 朴根周 , PARK, KUNJOO , 金起鉉 , KIM, KEEHYUN , 李元默 , LEE, WEONMOOK
IPC分类号： H01J37/32 , H01L21/3065 , C23F1/00
CPC分类号： C23C16/4583 , C23C16/505 , H01J37/32009 , H01J37/32082

55. 发明专利

TWI314670B 於基板上形成微細圖案的裝置 APPARATUS FOR FORMING FINE PATTERN ON SUBSTRATE 有权
简体标题：于基板上形成微细图案的设备 APPARATUS FOR FORMING FINE PATTERN ON SUBSTRATE
公开(公告)号：TWI314670B
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：TW094145252
申请日：2005-12-20
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：李永哲 LEE, YOUNG-CHUL , 朴庸碩 PARK, YONG-SEOK , 許經憲 HEO, KYOUNG-HEON , 周蓮 JU, YEON
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要：一種形成微細圖案的裝置,它包括:帶有預定處理空間的腔室;使用浮力來支撐上面形成了感光有機層的基板的支撐台;與所述支撐台相隔開,用於在基板的有機層上壓印預處理圖案以區分蝕刻及非蝕刻區域的模版;用於驅動所述支撐台朝向模版,使模版上形成的圖案可以形成於基板有機層上的驅動單元。
简体摘要：一种形成微细图案的设备,它包括:带有预定处理空间的腔室;使用浮力来支撑上面形成了感光有机层的基板的支撑台;与所述支撑台相隔开,用于在基板的有机层上压印预处理图案以区分蚀刻及非蚀刻区域的模版;用于驱动所述支撑台朝向模版,使模版上形成的图案可以形成于基板有机层上的驱动单元。

56. 发明专利

TW200924013A 一種等離子化學反應器 A PLASMA CHEMICAL REACTOR 审中-公开
简体标题：一种等离子化学反应器 A PLASMA CHEMICAL REACTOR
公开(公告)号：TW200924013A
公开(公告)日：2009-06-01
申请号：TW097144639
申请日：2008-11-19
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD
发明人：蔡煥國 CHAE, HWANKOOK , 李東錫 LEE, DONGSEOK , 文熙錫 MOON, HEESEOK , 朴根周 PARK, KUNJOO , 金起鉉 KIM, KEEHYUN , 李元默 LEE, WEONMOOK
IPC分类号： H01J , H01L , C23F
CPC分类号： C23C16/4583 , C23C16/505 , H01J37/32009 , H01J37/32082
摘要：本發明提供一種等離子化學反應器。所述的反應器包括一個為等離子體反應提供一個空間的反應室;和一個一端與反應室壁面相連,另一端支撐一塊基板使基板能夠設置於反應室內中間部位,且安裝後能夠進行高度調節使基板保持一個水平狀態的陰極組。
简体摘要：本发明提供一种等离子化学反应器。所述的反应器包括一个为等离子体反应提供一个空间的反应室;和一个一端与反应室壁面相连,另一端支撑一块基板使基板能够设置于反应室内中间部位,且安装后能够进行高度调节使基板保持一个水平状态的阴极组。

57. 发明专利

TW200845182A 蝕刻氣體控制系統 ETCHING GAS CONTROL SYSTEM 失效
简体标题：蚀刻气体控制系统 ETCHING GAS CONTROL SYSTEM
公开(公告)号：TW200845182A
公开(公告)日：2008-11-16
申请号：TW097114125
申请日：2008-04-18
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：朴根周 PARK, KUN JOO , 蔡煥國 CHAE, HWAN KOOK , 李炳日 LEE, BYOUNGIL , 金起鉉 KIM, KEE HYUN , 李元默 LEE, WEON MOOK
IPC分类号： H01L , B05B
CPC分类号： G05D11/132 , H01L21/67069 , H01L21/67253
摘要：茲提供一蝕刻氣體控制系統,此系統包括一氣體注射器、一氣體供應管、一流量比控制器、及一氣體供應單元。該氣體注射器係安裝在一容室內,並供應氣體至容室內部。該氣體注射器包括一安裝於容室頂部之頂部注射器,及一安裝於容室一側之側部注射器。該氣體供應管與該氣體注射器連接,並供應氣體至該氣體注射器。該流量比控制器與該氣體供應管連接,並控制氣體之供應。該氣體供應單元則供應氣體至該流量比控制器。
简体摘要：兹提供一蚀刻气体控制系统,此系统包括一气体注射器、一气体供应管、一流量比控制器、及一气体供应单元。该气体注射器系安装在一容室内,并供应气体至容室内部。该气体注射器包括一安装于容室顶部之顶部注射器,及一安装于容室一侧之侧部注射器。该气体供应管与该气体注射器连接,并供应气体至该气体注射器。该流量比控制器与该气体供应管连接,并控制气体之供应。该气体供应单元则供应气体至该流量比控制器。

58. 发明专利

TW200829338A 流體噴射裝置 APPARATUS FOR JETTING FLUID 审中-公开
简体标题：流体喷射设备 APPARATUS FOR JETTING FLUID
公开(公告)号：TW200829338A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096142825
申请日：2007-11-13
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：孫賢鎬 SON, HYUN-HO , 金植 KIM, CHUL-SIK
IPC分类号： B05B
摘要：本發明揭示了一種在進行平板顯示面板用基板之製造製程中的蝕刻(etching)或剝離(strip)作業時,可向基板均勻供給蝕刻用流體或剝離用流體的流體噴射裝置。這種流體噴射裝置包括:具有作業空間的作業槽;用於噴射流體的噴嘴;相隔配置在該作業空間的多個噴射管;與該噴射管相連接且藉由連桿運動而使該噴嘴的噴射角度發生變化的動力傳遞機構;以及為使該動力傳遞機構進行連桿運動而產生動力的驅動源。
简体摘要：本发明揭示了一种在进行平板显示皮肤用基板之制造制程中的蚀刻(etching)或剥离(strip)作业时,可向基板均匀供给蚀刻用流体或剥离用流体的流体喷射设备。这种流体喷射设备包括:具有作业空间的作业槽;用于喷射流体的喷嘴;相隔配置在该作业空间的多个喷射管;与该喷射管相连接且借由连杆运动而使该喷嘴的喷射角度发生变化的动力传递机构;以及为使该动力传递机构进行连杆运动而产生动力的驱动源。

59. 发明专利

TW200823959A 螢光燈製造裝置及利用該裝置的外部電極製造方法 APPARATUS FOR MANUFACTURING FLUORESCENT LAMP AND EXTERNAL ELECTRODE MAKING METHOD USING THE SAME 失效
简体标题：萤光灯制造设备及利用该设备的外部电极制造方法 APPARATUS FOR MANUFACTURING FLUORESCENT LAMP AND EXTERNAL ELECTRODE MAKING METHOD USING THE SAME
公开(公告)号：TW200823959A
公开(公告)日：2008-06-01
申请号：TW096137026
申请日：2007-10-03
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：金成海 KIM, SUNG-HAE , 金聖中 KIM, SUNG-JUNG , 全範洙 JEON, BEOM-SOO
IPC分类号： H01J
摘要：本發明涉及一種螢光燈製造裝置,具體涉及一種易於形成外部電極,尤其可大幅提高外部電極焊接品質的螢光燈製造裝置。所述螢光燈製造裝置包括:工作台,其設有工作面;玻璃管固定裝置,其在所述工作面上以豎立狀態可分離地固定多個螢光燈玻璃管;驅動裝置,其用於沿著所述工作面向兩個以上方向移動所述玻璃管固定裝置;加蓋裝置,其設置於所述工作面上,並具備放置多個電極帽的托盤,其用於將所述電極帽分別加蓋於螢光燈玻璃管的兩端;預熱裝置,其通過加熱部件對所述螢光燈玻璃管中已加蓋電極帽的端部進行加熱,以進行預熱作業;浸漬裝置,其具備盛有焊料液的浸漬槽,並通過將螢光燈玻璃管的加蓋端部浸漬在焊料液中的浸漬方式進行焊接。
简体摘要：本发明涉及一种萤光灯制造设备,具体涉及一种易于形成外部电极,尤其可大幅提高外部电极焊接品质的萤光灯制造设备。所述萤光灯制造设备包括:工作台,其设有工作面;玻璃管固定设备,其在所述工作面上以竖立状态可分离地固定多个萤光灯玻璃管;驱动设备,其用于沿着所述工作面向两个以上方向移动所述玻璃管固定设备;加盖设备,其设置于所述工作面上,并具备放置多个电极帽的托盘,其用于将所述电极帽分别加盖于萤光灯玻璃管的两端;预热设备,其通过加热部件对所述萤光灯玻璃管中已加盖电极帽的端部进行加热,以进行预热作业;浸渍设备,其具备盛有焊料液的浸渍槽,并通过将萤光灯玻璃管的加盖端部浸渍在焊料液中的浸渍方式进行焊接。

60. 发明专利

TW200810841A 狹縫式塗敷裝置 SLIT COATER 审中-公开
简体标题：狭缝式涂敷设备 SLIT COATER
公开(公告)号：TW200810841A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096114384
申请日：2007-04-24
申请人： DMS有限公司 DMS CO., LTD.
发明人：金銀洙 KIM, EUN SOO , 姜智銀 KANG, JI-EUN , 吳相澤 OH, SANG-TAEK
IPC分类号： B05C , G03F
摘要：本發明涉及一種狹縫式塗敷裝置,其適用於在平板顯示器用基板上塗敷照相平版印刷用光致抗蝕劑等感光液的塗敷作業,且可簡單除去不均勻地附著在噴嘴噴出口上的感光液。包括:工作臺,其工作面上進行對基板的塗敷作業;具有狹縫式噴出口的噴嘴本體,其固定在工作臺的一側,對基板塗敷感光液;清洗輥輪,具有圓筒形清洗部件,且以橫穿噴出口切開方向的方式位於所述噴嘴本體的下方;第一驅動部,用於向某一方向轉動清洗輥輪,使清洗部件以其軸線為中心而旋轉;第二驅動部,用於移動清洗輥輪,使清洗輥輪在第一驅動部的作用下旋轉的同時,沿噴出口的切開方向移動;第三驅動部,其與第一驅動部及第二驅動部相連動,使清洗輥輪向正交於噴出口狹縫的方向而移動。
简体摘要：本发明涉及一种狭缝式涂敷设备,其适用于在平板显示器用基板上涂敷照相平版印刷用光致抗蚀剂等感光液的涂敷作业,且可简单除去不均匀地附着在喷嘴喷出口上的感光液。包括:工作台,其工作面上进行对基板的涂敷作业;具有狭缝式喷出口的喷嘴本体,其固定在工作台的一侧,对基板涂敷感光液;清洗辊轮,具有圆筒形清洗部件,且以横穿喷出口切开方向的方式位于所述喷嘴本体的下方;第一驱动部,用于向某一方向转动清洗辊轮,使清洗部件以其轴线为中心而旋转;第二驱动部,用于移动清洗辊轮,使清洗辊轮在第一驱动部的作用下旋转的同时,沿喷出口的切开方向移动;第三驱动部,其与第一驱动部及第二驱动部相连动,使清洗辊轮向正交于喷出口狭缝的方向而移动。

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