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41. 发明公开

KR1020070038800A 대기압 플라즈마 샤워유닛 이를 이용한 와이어본딩 장치 및방법 失效
标题翻译：采用大气压等离子淋浴器的引线键合设备和方法
公开(公告)号：KR1020070038800A
公开(公告)日：2007-04-11
申请号：KR1020050094093
申请日：2005-10-07
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 유영종 , 백종문 , 이해룡 , 엄동진 , 이근호
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/3065 , H01L21/60
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32009 , H01J37/3255 , H01J2237/335 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/78 , H01L24/85 , H01L2224/451 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/78 , H01L2224/85013 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01033 , H01L2924/01082 , H01L2924/3025 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H01L2924/00014 , H01L2924/00015
摘要： 본 발명은, 대기압 플라즈마 샤워유닛 및 이를 이용하는 와이어본딩 장치에 관한 것으로서, 플라즈마를 샤워식으로 처리대상물(특히, 칩 실장 기판)에 방출하는 구조로 이루어져서, 이송수단 위에서 이동하는 처리대상물의 플라즈마 세정에 매우 유리하며, 기생방전 등에 의한 온도 상승과 같은 종래기술의 문제점을 해결한 대기압 플라즈마 샤워유닛을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 유전체 상에 패턴전극이 형성되어 이루어지며, 상기 패턴전극에 고전압이 인가될 때 활성화되는 활성전극부와; 상기 활성전극부와의 사이에서 플라즈마를 발생시키도록 배치되며, 발생된 플라즈마를 외부로 방출하기 위한 다수의 플라즈마홀이 형성된 접지전극부를; 포함하는 대기압 플라즈마 샤워유닛을 개시한다.
와이어본딩, 샤워유닛, 패턴전극, 활성전극부, 유전체, 전극쉴드, 플라즈마
摘要翻译：等离子体处理装置及使用其的引线接合装置技术领域本发明涉及一种大气等离子体喷淋装置及使用其的引线接合装置，更具体地，本发明的目的是提供一种大气压等离子体喷淋装置，它非常有利并且解决了现有技术中由于寄生放电引起的温度升高等问题。

42. 发明公开

KR1020070012933A 분사식 플라즈마 처리장치 有权
标题翻译：注射式等离子体处理装置
公开(公告)号：KR1020070012933A
公开(公告)日：2007-01-30
申请号：KR1020050067186
申请日：2005-07-25
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 심연근 , 백종문 , 김동훈 , 이해룡 , 이근호
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/42
CPC分类号： H01J37/3244 , H01J37/32009 , H01J37/32458 , H01J37/32541 , H01J37/32724 , H05H1/24
摘要： An injection type plasma processing apparatus is provided to reduce an unnecessary consumption of reaction gas and transfer the reaction gas to a plasma generating area quickly by making a gas injection unit of a gas supply unit connect with the plasma generating area directly. In an injection type plasma processing apparatus, a power electrode plate(20) is provided in a reaction chamber(10) when a dielectric substance(24) is formed. A ground electrode plate(40) forms a plasma(P) between the ground electrode plate and the power electrode plate(20) when an AC power is applied to the power electrode plate(20), comprises a portion of the wall of the reaction chamber(10), and includes a plurality of holes(42). A gas supply unit(50) sprays the plasma(P) outside through the holes(42) of the ground electrode plate(40) by injecting a reaction gas to the reaction chamber(10) and injects the reaction gas to a plasma generating area(PA) directly by placing a gas injection unit(52) on the plasma generating area(PA) between the power electrode plate(20) and the ground electrode plate(40).
摘要翻译：提供一种注射型等离子体处理装置，用于减少反应气体的不必要的消耗，并且通过使气体供给单元的气体注入单元直接与等离子体产生区域连接，将反应气体快速地传递到等离子体产生区域。在注射型等离子体处理装置中，当形成电介质（24）时，在反应室（10）中设置电源极板（20）。接地电极板（40）在向功率电极板（20）施加交流电力时，在接地电极板和电力电极板（20）之间形成等离子体（P），包括一部分反应壁（10），并且包括多个孔（42）。气体供给单元（50）通过将反应气体注入到反应室（10）中，通过接地电极板（40）的孔（42）向外喷射等离子体（P），并将反应气体喷射到等离子体产生区域（PA）直接通过在电力电极板（20）和接地电极板（40）之间的等离子体产生区域（PA）上放置气体注入单元（52）。

43. 发明授权

KR100481492B1 미세아크 방지형 플라즈마 형성장치 및 형성방법 有权
标题翻译：微弧保护型等离子体形成装置和成形方法
公开(公告)号：KR100481492B1
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：KR1020040027742
申请日：2004-04-22
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 백종문 , 심연근 , 이기훈 , 김동훈 , 이해룡 , 이근호
IPC分类号： H05H1/26
摘要： A plasma formation apparatus for preventing a fine arc and a method for forming plasma using the same are provided to control completely a fine arc streamer causing a defect of a processing target by using an electrode structure having holes. A high-voltage electrode is used for receiving AC power. A dielectric is located on the high-voltage electrode. A grounding electrode includes a plurality of holes for injecting plasma generated between the high-voltage electrode and the grounding electrode. The grounding electrode is formed at a predetermined position apart from the high-voltage electrode. A frame includes the high-voltage electrode and the grounding electrode. A reaction gas implantation part implants a reaction gas for generating the plasma between the high-voltage electrode and the grounding electrode.

44. 发明公开

KR1020040026790A 박판형 대기압 플라즈마 전극 无效
标题翻译：薄膜型大气压等离子体电极
公开(公告)号：KR1020040026790A
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：KR1020020058357
申请日：2002-09-26
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 이기훈 , 이해룡 , 백종문
IPC分类号： H05H1/26
摘要： PURPOSE: A thin film type atmospheric pressure plasma electrode is provided to drastically improve the problems of the thermal loss and the discharge instability by completely joining the metal electrode to the dielectric layer using the sintering ceramic on metal(SCOM) technology. CONSTITUTION: A thin film type atmospheric pressure plasma electrode includes a pair of metal electrodes(2) and at least one dielectric layer(1). The dielectric layer(1) is formed between the pair of metal electrodes(2). The thin film type atmospheric pressure plasma electrode is characterized in that the joining between the planar metal electrodes and the dielectric layer is realized by using the sintering ceramic on metal(SCOM) technology.
摘要翻译：目的：提供薄膜型大气压等离子体电极，通过使用金属烧结陶瓷（SCOM）技术将金属电极完全接合到电介质层，大大改善了热损失和放电不稳定性的问题。构成：薄膜型大气压等离子体电极包括一对金属电极（2）和至少一个电介质层（1）。介电层（1）形成在一对金属电极（2）之间。薄膜型大气压等离子体电极的特征在于，通过使用金属烧结陶瓷（SCOM）技术实现平面金属电极和电介质层之间的接合。

45. 发明公开

KR1020040026773A 전압배열형 전극을 이용한 표면처리용 대기압 플라즈마장치 失效
标题翻译：通过使用电压布置型电极进行表面处理的大气压等离子体设备
公开(公告)号：KR1020040026773A
公开(公告)日：2004-04-01
申请号：KR1020020058333
申请日：2002-09-26
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 백종문 , 이해룡 , 이기훈 , 이근호
IPC分类号： H05H1/26
摘要： PURPOSE: An atmospheric pressure plasma apparatus for a surface treatment by using a voltage arrangement type electrode is provided to drastically reduce the voltage required for the discharge by controlling the distance between the electrodes and the order of the arrangement. CONSTITUTION: An atmospheric pressure plasma apparatus for a surface treatment by using a voltage arrangement type electrode includes a high voltage electrode(10), a ground electrode(9) and a power supplying block. The power supplying block supplies the power to the high voltage electrode(10). The atmospheric pressure plasma apparatus is characterized in that it includes the voltage arrangement type electrode which is designed as a single unit by alternatively applying to the high voltage electrode(10) and the ground electrode(9) in order to discharge the atmospheric pressure plasma.
摘要翻译：目的：提供一种通过使用电压排列型电极进行表面处理的大气压等离子体装置，通过控制电极之间的距离和排列顺序，大大降低放电所需的电压。构成：通过使用电压配置型电极进行表面处理的大气压等离子体装置包括高压电极（10），接地电极（9）和供电块。供电块向高压电极（10）供电。大气压等离子体装置的特征在于，其包括通过交替地施加到高压电极（10）和接地电极（9）而设计为单个单元的电压排列型电极，以便排出大气压等离子体。

46. 发明授权

KR100980027B1 플라즈마를 이용하는 인라인 금형 세정장치 및 세정방법 有权
标题翻译：在线式清洁装置和使用等离子体的方法
公开(公告)号：KR100980027B1
公开(公告)日：2010-09-06
申请号：KR1020080047110
申请日：2008-05-21
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 이해룡 , 유영종 , 박남규 , 민홍기
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/56
CPC分类号： H01L21/67028 , H01J37/32366 , H01J37/32605 , H01J2237/335
摘要： 여기에서는, 반도체 몰딩 장비에 설치된 상부 금형과 하부 금형 중 적어도 하나의 금형을 인라인 방식으로 플라즈마 세정하는 인라인 금형 세정장치가 개시된다. 개시된 인라인 금형 세정장치는, 상부 금형과 하부 금형 중 적어도 하나의 금형과 합치될 때 챔버를 형성하고, 상기 챔버 내에 플라즈마를 발생시키도록 구성된 세정모듈과, 상기 세정모듈을 출발위치로부터 상기 상부 금형과 상기 하부 금형 사이의 세정 대기 위치로 이송시키는 이송유닛을 포함하되, 상기 세정모듈은, 상기 세정 대기 위치에서, 상기 하부 금형에 의해 들어올려져 상기 상부 금형과 합치된다.
인라인, 금형, 세정모듈, 플라즈마, 양방향, 일방향, 챔버, 몰딩, 승강유닛

47. 发明授权

KR100788505B1 분사식 플라즈마 처리장치 有权
标题翻译：注射式等离子体处理装置
公开(公告)号：KR100788505B1
公开(公告)日：2007-12-24
申请号：KR1020050067186
申请日：2005-07-25
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 심연근 , 백종문 , 김동훈 , 이해룡 , 이근호
IPC分类号： H05H1/34 , H05H1/42
摘要： 본 발명은, 분사식 플라즈마 처리장치에 관한 것으로서, 상압 조건에서 유전막 방전(DBD; Dielectric Barrier Discharge)으로 형성된 플라즈마를 처리대상물을 향해 분사하는 방식으로, 다양한 면적, 다양한 크기, 그리고 다양한 형상을 갖는 처리대상물을 미세아크 스트리머에 의한 손상 없이 처리할 수 있되, 반응가스를 플라즈마 발생영역으로 신속하게 그리고 큰 손실 없이 공급할 수 있는 분사식 플라즈마 처리장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
이를 위해, 본 발명에 따른 분사식 플라즈마 처리장치는, 유전체가 형성된 채 반응챔버에 제공되는 전원전극판과, 상기 전원전극판에 교류전력이 인가될 때 상기 전원전극판과의 사이에서 플라즈마를 형성하되, 상기 반응챔버의 벽 일부를 구성하고, 다수의 홀이 형성된 접지전극판과, 상기 반응챔버 내로 반응가스를 주입하여 반응챔버 내의 플라즈마를 상기 접지전극판의 홀들을 통해 외부로 분사시키되, 전원전극판과 접지전극판 사이의 플라즈마 발생영역에 마련되는 가스주입부를 구비하여, 상기 플라즈마 발생영역을 향해 반응가스를 직접적으로 주입하는 가스공급유닛을 포함하는 것을 특징으로 한다.
분사식, 플라즈마, 전원전극판, 유전체, 접지전극판, 홀, 가스공급유닛

48. 发明授权

KR100771509B1 복합전원을 이용한 대기압 플라즈마 발생장치 및 방법 失效
标题翻译：使用复合电源产生大气压等离子体的装置和方法
公开(公告)号：KR100771509B1
公开(公告)日：2007-10-30
申请号：KR1020050085425
申请日：2005-09-13
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 심연근 , 홍정미 , 김정순 , 이해룡 , 김주완 , 김동훈 , 정재명
IPC分类号： H05H1/30 , H05H1/34
摘要： 본 발명은, 복합전원을 이용한 대기압 플라즈마 발생장치 및 방법에 관한 것으로서, 하나의 활성전극이 고전압의 전력을 인가받아 접지전극과의 사이에 플라즈마를 점화, 생성하고, 그 후, 먼저 생성된 플라즈마를 시드(seed)로 하여 나머지 다른 활성전극이 전력을 인가받아 고밀도의 플라즈마를 접지전극과의 사이에 생성시킬 있는 대기압 플라즈마 발생장치의 제공을 그 목적으로 한다.
이를 위해, 본 발명은 반응기체 존재 하에 플라즈마를 발생시키는 대기압 플라즈마 발생장치를 개시한다. 본 발명에 따른 대기압 플라즈마 발생장치는, 접지전극과; 서로 다른 전압 및 주파수 대역을 갖는 제 1 및 제 2 전원과; 상기 제 1 전원으로부터 전력을 인가받아, 상기 접지전극과의 사이에서 플라즈마를 점화, 생성시키는 제 1 활성전극과; 상기 제 2 전원으로부터 전력을 인가받고 상기 제 1 활성전극 부근에서 생성된 플라즈마를 시드(seed)로 하여 상기 접지전극 사이에 플라즈마를 발생시키는 제 2 활성전극을; 포함하는 것을 특징으로 한다.
복합전원, 활성전극, RF, MF, 플라즈마, 반응기체, 접지전극

49. 发明授权

KR100746698B1 이중주파수를 이용한 플라즈마 처리장치 및 방법 有权
标题翻译：使用双频和等离子体处理方法的等离子体处理装置
公开(公告)号：KR100746698B1
公开(公告)日：2007-08-07
申请号：KR1020050085422
申请日：2005-09-13
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 김덕재 , 이해룡 , 오정근 , 권호상 , 이근호
IPC分类号： H01L21/3065
CPC分类号： H01L21/02057 , G03F7/168 , H01J37/32155 , H01J37/3244 , H01J37/32458 , H01L24/85 , H01L2224/85009 , H01L2924/00014 , H01L2924/01079 , H01L2224/48 , H01L2224/45015 , H01L2924/207 , H01L2224/45099
摘要： 본 발명은, 이중주파수를 이용한 플라즈마 처리장치 및 방법에 관한 것으로서, 매거진 주위의 시스(sheath) 영역에서 이온 집중으로 야기되는 블로킹 현상을 이중주파수의 이용을 통해 제어하여, 매거진 내로의 이온 확산율을 높이고, 이에 따라, 매거진 내 처리대상물에 대한 플라즈마 처리 효율을 크게 향상시킨 이중주파수를 이용한 플라즈마 처리장치를 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은 매거진에 수납된 처리대상물들을 플라즈마 처리하는 플라즈마 처리장치를 개시한다. 본 발명에 따른 플라즈마 처리장치는, 매거진이 장입된 상태로 밀폐되는 반응챔버와; 상기 매거진과 이격된 채로 상기 반응챔버 내에 배치되며, RF 전원에 연결되어 셀프 바이어스를 유도하는 제 1 전극과; 상기 매거진과 접촉한 채로 상기 RF 전원보다 낮은 주파수의 전원에 연결되어, 상기 제 1 전극과의 사이에 플라즈마 발생영역을 형성하는 한편, (-) 전위에서는 상기 매거진을 향해 이온을 끌어당기고, (+) 전위에서는 상기 매거진으로부터 이온을 밀어내도록 작용하는 제 2 전극을; 포함한다.
플라즈마, RF, MF, 전극, 매거진, 셀프 바이어스, 이중주파수

50. 发明授权

KR100708212B1 대기압 플라즈마 샤워유닛 이를 이용한 와이어본딩 장치 및방법 失效
标题翻译：大气压力等离子体淋浴房和电线接合装置及使用相同单元的方法
公开(公告)号：KR100708212B1
公开(公告)日：2007-04-16
申请号：KR1020050094093
申请日：2005-10-07
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 유영종 , 백종문 , 이해룡 , 엄동진 , 이근호
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/3065 , H01L21/60
CPC分类号： H01J37/32825 , H01J37/32009 , H01J37/3255 , H01J2237/335 , H01L24/45 , H01L24/48 , H01L24/78 , H01L24/85 , H01L2224/451 , H01L2224/48091 , H01L2224/48227 , H01L2224/78 , H01L2224/85013 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01033 , H01L2924/01082 , H01L2924/3025 , H05H1/2406 , H05H2001/2418 , H01L2924/00014 , H01L2924/00015
摘要： 본 발명은, 대기압 플라즈마 샤워유닛 및 이를 이용하는 와이어본딩 장치에 관한 것으로서, 플라즈마를 샤워식으로 처리대상물(특히, 칩 실장 기판)에 방출하는 구조로 이루어져서, 이송수단 위에서 이동하는 처리대상물의 플라즈마 세정에 매우 유리하며, 기생방전 등에 의한 온도 상승과 같은 종래기술의 문제점을 해결한 대기압 플라즈마 샤워유닛을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.
전술한 목적을 달성하기 위해, 본 발명은, 유전체 상에 패턴전극이 형성되어 이루어지며, 상기 패턴전극에 고전압이 인가될 때 활성화되는 활성전극부와; 상기 활성전극부와의 사이에서 플라즈마를 발생시키도록 배치되며, 발생된 플라즈마를 외부로 방출하기 위한 다수의 플라즈마홀이 형성된 접지전극부를; 포함하는 대기압 플라즈마 샤워유닛을 개시한다.
와이어본딩, 샤워유닛, 패턴전극, 활성전극부, 유전체, 전극쉴드, 플라즈마
摘要翻译：本发明涉及一种大气压等离子体淋浴器。本发明的目的是提供一种构造成以淋浴方式朝向待处理物体（特别是芯片安装基板）发射等离子体的大气压等离子体淋浴单元对于物体的等离子体清洁是非常有利的待处理，由携带装置承载，并解决现有技术中的问题，例如由于寄生放电引起的温度升高。为了实现该目的，本发明提供了一种大气压等离子体淋浴器单元，其包括在电介质上由图形电极形成的有源电极部分，并且当高电压施加到图案电极时被激活; 以及接地电极部，其被配置为在所述有源电极部和所述接地电极部之间产生等离子体，并形成有多个等离子体孔，所述等离子体向外发射。

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