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1. 发明专利

KR102231371B1 KR102231371B1 - Cold plasma generating apparatus and multi-cold plasma generator comprising the same 有权
公开(公告)号：KR102231371B1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020200010243A
申请日：2020-01-29
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 포스텔 올리비아
IPC分类号： H05H1/46
CPC分类号： H05H1/46 , H05H2001/4607 , H05H2245/1225
摘要： 본 발명은 콜드 플라즈마의 점화(초기 방전)를 효율적으로 구현할 수 있고, 공동 임피던스의 매칭을 용이하게 행할 수 있으며, 나아가 다중 플라즈마 어레이 구성에서 단일 파워서플라이를 통해 복수의 플라즈마 소스에 균등한 파워 분배가 가능하고 유효 플라즈마 볼륨을 증대시킬 수 있어 살균 처리와 관련된 용도에 최적화 되는 콜드 플라즈마 발생장치 및 이를 포함하는 다중 콜드 플라즈마 어레이 장치에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 일단에 방출구멍이 형성되는 장치 하우징; 상기 장치 하우징의 길이방향 센터라인을 따라 구비되는 전도성 재질의 중앙 컨덕터; 상기 장치 하우징의 일측에 구비되어 상기 장치 하우징의 공동으로 플라즈마 가스가 유입되도록 연결되는 니플 부재; 상기 중앙 컨덕터의 일측에 직교되는 방향으로 일체로 연장 형성되고, 마이크로웨이브 제너레이터의 마이크로웨이브를 상기 중앙 컨덕터로 전달하도록 구비되는 마이크로웨이브 전달 부재; 및 상기 장치 하우징의 타단부에 구비되되 마이크로웨이브 반사를 최소화하고 마이크로웨이브 소스에 대한 공동 임피던스를 매칭시키기 위하여 상기 장치 하우징의 공동에서 상기 중앙 컨덕터의 노출 길이가 조절되도록 하는 임피던스매칭 조절부재;를 포함하는 것을 특징으로 하는 콜드 플라즈마 소스장치가 제공된다.

2. 发明申请

WO2009142400A2 플라즈마를 이용하는 인라인 금형 세정장치 및 세정방법 审中-公开
标题翻译：在线清洁装置和使用等离子体的清洁方法
公开(公告)号：WO2009142400A2
公开(公告)日：2009-11-26
申请号：PCT/KR2009/002327
申请日：2009-05-01
申请人： 주식회사 피에스엠 , 이근호 , 이해룡 , 유영종 , 박남규 , 민홍기
发明人： 이근호 , 이해룡 , 유영종 , 박남규 , 민홍기
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67028 , H01J37/32366 , H01J37/32605 , H01J2237/335
摘要： 여기에서는, 반도체 몰딩 장비에 설치된 상부 금형과 하부 금형 중 적어도 하나의 금형을 인라인 방식으로 플라즈마 세정하는 인라인 금형 세정장치가 개시된다. 개시된 인라인 금형 세정장치는, 상부 금형과 하부 금형 중 적어도 하나의 금형과 합치될 때 챔버를 형성하고, 상기 챔버 내에 플라즈마를 발생시키도록 구성된 세정모듈과, 상기 세정모듈을 출발위치로부터 상기 상부 금형과 상기 하부 금형 사이의 세정 대기 위치로 이송시키는 이송유닛을 포함하되, 상기 세정모듈은, 상기 세정 대기 위치에서, 상기 하부 금형에 의해 들어올려져 상기 상부 금형과 합치된다.
摘要翻译：公开了一种用于等离子体清洗的在线模具清洁装置，其以直线方式设置在半导体模制装置中的上模和下模中的至少一个。所公开的在线模具清洁装置包括：清洁模块，其构造成当与上模和下模中的至少一个配合时形成室，并在室内产生等离子体; 以及传送单元，用于将清洁模块从起始位置传送到上模和下模之间的清洁备用位置，其中在清洁待机位置，清洁模块通过下模抬起并与上模。

3. 发明申请

WO2009088233A2 수지 몰딩 장비의 인라인 금형 장치 审中-公开
标题翻译：树脂模具设计的在线模具设备
公开(公告)号：WO2009088233A2
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：PCT/KR2009/000098
申请日：2009-01-08
申请人： 주식회사 피에스엠 , 김덕재 , 이해룡 , 이근호
发明人： 김덕재 , 이해룡 , 이근호
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C33/72 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01L21/67028 , H01L21/67173
摘要： 수지 몰딩 장비에 설치된 금형을 인라인 방식으로 플라즈마 세정하는 인라인 금형 세정장치가 개시된다. 개시된 인라인 금형 세정장치는, 플라즈마 방전을 위한 전극을 오목한 공간 내측에 구비한 세정케이스와, 상기 수지 몰딩 장비 상의 대기 위치로부터 상기 공간이 상기 금형을 덮을 수 있는 세정위치로, 상기 세정케이스를 이송시키도록 구성된 케이스 이송유닛을 포함한다.
摘要翻译：公开了一种在线模具清洁装置，其通过在线方法等离子清洗树脂成形装置中的模具。所公开的在线模具清洁装置包括：清洁盒，其包括用于在凹部内的等离子体放电的电极;以及壳体转移单元，其使清洁盒从树脂成型设备上的等待位置转移到清洁位置，在该清洁位置，可以覆盖模具。

4. 发明授权

KR102231371B1 콜드 플라즈마 발생장치 및 이를 포함하는 다중 콜드 플라즈마 어레이 장치 有权
公开(公告)号：KR102231371B1
公开(公告)日：2021-03-25
申请号：KR1020200010243
申请日：2020-01-29
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 올리비아포스텔
IPC分类号： H05H1/46
摘要： 본발명은콜드플라즈마의점화(초기방전)를효율적으로구현할수 있고, 공동임피던스의매칭을용이하게행할수 있으며, 나아가다중플라즈마어레이구성에서단일파워서플라이를통해복수의플라즈마소스에균등한파워분배가가능하고유효플라즈마볼륨을증대시킬수 있어살균처리와관련된용도에최적화되는콜드플라즈마발생장치및 이를포함하는다중콜드플라즈마어레이장치에관한것이다. 본발명에따르면, 일단에방출구멍이형성되는장치하우징; 상기장치하우징의길이방향센터라인을따라구비되는전도성재질의중앙컨덕터; 상기장치하우징의일측에구비되어상기장치하우징의공동으로플라즈마가스가유입되도록연결되는니플부재; 상기중앙컨덕터의일측에직교되는방향으로일체로연장형성되고, 마이크로웨이브제너레이터의마이크로웨이브를상기중앙컨덕터로전달하도록구비되는마이크로웨이브전달부재; 및상기장치하우징의타단부에구비되되마이크로웨이브반사를최소화하고마이크로웨이브소스에대한공동임피던스를매칭시키기위하여상기장치하우징의공동에서상기중앙컨덕터의노출길이가조절되도록하는임피던스매칭조절부재;를포함하는것을특징으로하는콜드플라즈마소스장치가제공된다.

5. 发明授权

KR101454000B1 플라즈마를 이용한 푸드 파우더 살균장치 有权
标题翻译：食品粉末灭菌设备使用等离子体
公开(公告)号：KR101454000B1
公开(公告)日：2014-10-30
申请号：KR1020120132417
申请日：2012-11-21
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 최철재
IPC分类号： A23L3/005 , A23L3/00
摘要： 플라즈마를 이용한 푸드 파우더 살균장치가 개시된다. 상기 푸드 파우더 살균장치는 인렛라인 상에서 블로워의 출구 측에 설치된 푸드 파우더 공급부와, 상기 인렛라인을 통해 공급된 푸드 파우더를 플라즈마로 살균 처리하는 플라즈마 반응기와, 상기 플라즈마 반응기에서 살균 처리된 푸드 파우더를 수집하는 푸드 파우더 수집통을 포함한다. 상기 플라즈마 반응기는 배기관과 상기 배기관 주위로 나선형 선회기류가 발생되는 반응기통을 포함한다.

6. 发明授权

KR100945895B1 반도체 몰딩 장비의 인라인 금형 세정장치 및 방법 失效
标题翻译：在线清洁装置和半导体成型设备的方法
公开(公告)号：KR100945895B1
公开(公告)日：2010-03-05
申请号：KR1020080047109
申请日：2008-05-21
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 이해룡 , 유영종 , 박남규 , 민홍기
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/56
摘要： 여기에서는, 반도체 몰딩 장비에 설치된 상부 금형과 하부 금형 중 적어도 하나의 금형을 인라인 방식으로 플라즈마 세정하는 인라인 금형 세정장치가 개시된다. 개시된 인라인 금형 세정장치는, 상부 금형과 하부 금형 중 적어도 하나의 금형과 합치될 때 챔버를 형성하고, 상기 챔버 내에 플라즈마를 발생시키도록 구성된 세정모듈과; 상기 세정모듈을 출발위치로부터 상기 상부 금형과 상기 하부 금형 사이의 세정 대기 위치로 이송시키는 이송유닛과; 상기 세정 대기 위치의 상기 세정모듈을 상기 상부 금형 또는 상기 하부 금형과 합치되는 위치로 상기 세정모듈을 승강시키는 승강유닛을 포함한다.
인라인, 금형, 세정모듈, 플라즈마, 양방향, 일방향, 챔버, 몰딩,

7. 发明公开

KR1020080087389A 스크린 인쇄 방법 및 장치 失效
标题翻译：屏幕打印方法和设备
公开(公告)号：KR1020080087389A
公开(公告)日：2008-10-01
申请号：KR1020070029535
申请日：2007-03-27
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 김병국 , 이해룡 , 홍정미 , 유영종 , 백종문
IPC分类号： H05K3/12
CPC分类号： H05K3/1225 , H05K2201/09681 , H05K2203/095
摘要： A screen printing method and a screen printing apparatus are provided to improve uniformity and adhesive property of a pattern by plasma-treating a mask or a transfer substrate. A screen printing method includes the steps of: forming a predetermined pattern on a metal mesh(7) by coating a photosensitive material(9) on the metal mesh; and transferring the pattern to a transfer substrate by discharging a transfer material(10) from the metal mesh through a squeeze(11). The screen printing method includes at least one step of plasma-treating the transfer substrate before transferring the pattern to the transfer substrate and plasma-treating a wire of the metal mesh before coating the photosensitive material on the metal mesh.
摘要翻译：提供丝网印刷方法和丝网印刷装置，以通过等离子体处理掩模或转印基板来改善图案的均匀性和粘合性。丝网印刷方法包括以下步骤：通过在金属网上涂覆感光材料（9），在金属网（7）上形成预定图案; 以及通过挤压（11）从金属网排出转印材料（10）将图案转印到转印基板上。丝网印刷方法包括在将图案转印到转印基板之前对转印基板进行等离子体处理的步骤，以及在金属网上涂覆感光材料之前等离子体处理金属网的金属丝。

8. 发明公开

KR1020070027192A 이동식 금형 세정장치 및 금형 세정방법 失效
标题翻译：使用等离子体的移动式清洁装置和清洁方法
公开(公告)号：KR1020070027192A
公开(公告)日：2007-03-09
申请号：KR1020050082569
申请日：2005-09-06
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 김덕재 , 이해룡 , 오정근 , 이근호 , 김도현
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/56 , H01L23/28
CPC分类号： H01L21/67028 , H01J37/32348 , H01J37/32825 , H01J37/32862 , H01L21/67017 , H01L2924/0002 , H01L2924/00
摘要： A movable mold cleaning apparatus and a mold cleaning method are provided to remove easily resin residues from a cavity of a mold without the separation of the mold using an enhanced frame structure. A movable mold cleaning apparatus includes a frame and an active electrode. The frame(10) has a lower opening portion. The frame is capable of forming a reaction chamber. The active electrode(20) generates plasma in the reaction chamber. The active electrode is applied with power from an external power source. The frame is composed of a box type body frame(12) for installing the active electrode and a frame type attach frame(14) under the box type body frame. A sealing packing is interposed between the attach frame and the body frame.
摘要翻译：提供了可移动的模具清洁装置和模具清洁方法，以便在不使用增强的框架结构分离模具的情况下容易地从模具的空腔移除树脂残余物。一种可移动的模具清洁装置，包括框架和活性电极。框架（10）具有下开口部分。框架能够形成反应室。有源电极（20）在反应室中产生等离子体。有源电极由外部电源供电。框架由用于安装有源电极的盒式主体框架（12）和框架型框架下方的框架式附接框架（14）组成。密封垫片插在连接框架和主体框架之间。

9. 发明公开

KR1020070024204A 마이크로웨이브 플라즈마 방전 시스템 失效
标题翻译：微波等离子放电系统
公开(公告)号：KR1020070024204A
公开(公告)日：2007-03-02
申请号：KR1020050078895
申请日：2005-08-26
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 홍정미 , 이근호 , 최진주 , 김해진
IPC分类号： H05H1/30
CPC分类号： H05H1/46 , H01J37/32229 , H01J37/32247 , H05H2001/4607 , H05H2001/4622 , H05H2001/469
摘要： A microwave plasma electric discharging system is provided to generate a stable and uniform plasma by implementing a stable glow discharge property with a waveguide including a dielectric substance. In a microwave plasma electric discharging system, a microwave generation unit generates a microwave. A waveguide(58) is arranged on a progressing path of the microwave, wherein an outlet unit is formed slantingly. A dielectric substance is formed as a shape corresponding to the waveguide(58) and is inserted into the waveguide(58). And, a plasma generation unit receives the microwave from the waveguide(58) and generates a plasma from a reaction gas.
摘要翻译：提供微波等离子体放电系统，通过用包括电介质的波导实现稳定的辉光放电特性来产生稳定均匀的等离子体。在微波等离子体放电系统中，微波产生单元产生微波。波导（58）布置在微波的进行路径上，其中出口单元倾斜地形成。电介质被形成为与波导（58）对应的形状，并被插入到波导（58）中。并且，等离子体产生单元从波导（58）接收微波并从反应气体产生等离子体。

10. 发明授权

KR101371168B1 통 회전형 플라즈마 처리장치 有权
标题翻译：旋转式等离子体处理装置
公开(公告)号：KR101371168B1
公开(公告)日：2014-03-12
申请号：KR1020120132414
申请日：2012-11-21
申请人： 주식회사 피에스엠
发明人： 이근호 , 최철재
IPC分类号： H05H1/34 , H01L21/20
摘要： Disclosed is a drum-rotating plasma processing device for plasma processing in which a target object including powder or a plurality of granules is efficiently and massively processed. The drum-rotating plasma processing device includes a casing which includes a ground electrode and in which a chamber is formed; a center electrode fixed by being inserted into the chamber through one side of the casing; a plasma processing drum which is stored in the chamber to be in contact with the ground electrode and in which a center electrode is inserted and accommodated when stored in the chamber; a drum rotating unit rotating the plasma processing drum around the center electrode; a gas supply unit supplying reactive gas to the processing drum through a gas supply path formed on the center electrode; and a power supply generating plasma in the processing drum by applying power to the center electrode.
摘要翻译：公开了一种用于等离子体处理的转筒式等离子体处理装置，其中包括粉末或多个颗粒的目标物体被有效和大量地加工。滚筒式等离子体处理装置包括：壳体，其包括接地电极，形成有室; 通过从所述壳体的一侧插入所述腔室而固定的中心电极; 等离子体处理鼓，其被存储在所述室中以与所述接地电极接触，并且当存储在所述室中时插入并容纳中心电极; 鼓旋转单元使等离子体处理鼓围绕中心电极旋转; 气体供给单元，其通过形成在所述中心电极上的气体供给路径向所述处理滚筒供给反应性气体; 以及通过向中心电极施加电力而在处理滚筒中产生等离子体的电源。

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