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41. 发明专利

TW201306117A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201306117A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101121076
申请日：2012-06-13
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：基村雅洋 , KIMURA, MASAHIRO , 尾辻正幸 , OTSUJI, MASAYUKI
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/02057 , H01L21/31111 , H01L21/6708 , H01L21/6719 , H01L21/67207
摘要：基板處理方法包含自基板除去不要物之除去步驟以及與除去步驟並行之蒸發步驟。前述除去步驟藉由將含氟化氫之HF蒸汽以及含水可溶解而沸點較水低之溶劑之溶劑蒸汽供給至基板，蝕刻除去前述不要物。前述蒸發步驟蒸發前述基板上之前述溶劑。
简体摘要：基板处理方法包含自基板除去不要物之除去步骤以及与除去步骤并行之蒸发步骤。前述除去步骤借由将含氟化氢之HF蒸汽以及含水可溶解而沸点较水低之溶剂之溶剂蒸汽供给至基板，蚀刻除去前述不要物。前述蒸发步骤蒸发前述基板上之前述溶剂。

42. 发明专利

TW201303987A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201303987A
公开(公告)日：2013-01-16
申请号：TW101110532
申请日：2012-03-27
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：田中孝佳 , TANAKA, TAKAYOSHI , 山川真衣 , YAMAKAWA, MAI , 山口貴大 , YAMAGUCHI, TAKAHIRO
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/02052 , H01L21/67051 , H01L21/67057
摘要：一種基板處理裝置，其包括：基板保持單元，其水平地保持基板；液滴噴嘴，其生成噴附至藉由上述基板保持單元保持之基板之上表面內之噴射區域的處理液之液滴；及保護液噴嘴，其以使保護上述基板之保護液沿保持於上述保持單元上之基板之上表面流向上述噴射區域之側的方式，向上述基板之上表面傾斜地吐出保護液，從而於上述噴射區域由保護液之液膜覆蓋之狀態下使處理液之液滴撞擊至上述噴射區域。
简体摘要：一种基板处理设备，其包括：基板保持单元，其水平地保持基板；液滴喷嘴，其生成喷附至借由上述基板保持单元保持之基板之上表面内之喷射区域的处理液之液滴；及保护液喷嘴，其以使保护上述基板之保护液沿保持于上述保持单元上之基板之上表面流向上述喷射区域之侧的方式，向上述基板之上表面倾斜地吐出保护液，从而于上述喷射区域由保护液之液膜覆盖之状态下使处理液之液滴撞击至上述喷射区域。

43. 发明专利

TW201300962A 描繪裝置及描繪方法审中-公开
简体标题：描绘设备及描绘方法
公开(公告)号：TW201300962A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW101107323
申请日：2012-03-05
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 , DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：西川貴之 , NISHIKAWA, TAKAYUKI
IPC分类号： G03F7/20
摘要：本發明係關於一種描繪裝置，其確實排除由空間光調變器予以反射之無助於描繪之光對周邊構件賦予之熱影響而擔保較高的描繪精度。光學單元之拾取頭部具備空間光調變器，其使自雷射振盪器出射之光空間調變，而使有助於圖案的描繪之必要光L1與無助於圖案的描繪之無用光L0於互不相同之方向反射。光學單元進而具備：第2遮斷板232，其使必要光L1通過並遮斷無用光L0；及冷卻部，其冷卻第2遮斷板232。於第2遮斷板232之包含無用光L0的入射區域之對象區域部分，形成使所入射之光漫反射之漫反射面42。
简体摘要：本发明系关于一种描绘设备，其确实排除由空间光调制器予以反射之无助于描绘之光对周边构件赋予之热影响而担保较高的描绘精度。光学单元之十取头部具备空间光调制器，其使自激光振荡器出射之光空间调制，而使有助于图案的描绘之必要光L1与无助于图案的描绘之无用光L0于互不相同之方向反射。光学单元进而具备：第2遮断板232，其使必要光L1通过并遮断无用光L0；及冷却部，其冷却第2遮断板232。于第2遮断板232之包含无用光L0的入射区域之对象区域部分，形成使所入射之光漫反射之漫反射面42。

44. 发明专利

TW200937135A 圖案描繪裝置及圖案描繪方法 PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD 审中-公开
简体标题：图案描绘设备及图案描绘方法 PATTERN DRAWING APPARATUS AND PATTERN DRAWING METHOD
公开(公告)号：TW200937135A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097145261
申请日：2008-11-21
申请人：大日本網屏製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：井上正雄 INOUE, MASAO , 小八木康幸 KOYAGI, YASUYUKI
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：本發明之目的在於:即便在將具有複數個描繪對象區域之基板作為對象時亦能減少曝光掃描之次數,又,本發明之目的在於:在感光材料上簡易地描繪複數種類之規則性圖案或幅寬。當曝光頭30a~30d分別自第1掃描區域As1至第4掃描區域As4進行曝光掃描時,預先於光罩上形成具有對照各掃描區域內之描繪對象區域之寬度各個之寬度的單位圖案群SLG。其結果,即便於一個掃描區域As內包含一個描繪對象區域At之一部分時,亦無需如先前般使用各種各樣的機構來進行調整,又,即便於一個掃描區域內包含相鄰之兩個描繪對象區域各自之一部分(即一個掃描區域內包含整個間隙區域)時,亦無需對同一掃描區域進行兩次曝光掃描。
简体摘要：本发明之目的在于:即便在将具有复数个描绘对象区域之基板作为对象时亦能减少曝光扫描之次数,又,本发明之目的在于:在感光材料上简易地描绘复数种类之守则性图案或幅宽。当曝光头30a~30d分别自第1扫描区域As1至第4扫描区域As4进行曝光扫描时,预先于光罩上形成具有对照各扫描区域内之描绘对象区域之宽度各个之宽度的单位图案群SLG。其结果,即便于一个扫描区域As内包含一个描绘对象区域At之一部分时,亦无需如先前般使用各种各样的机构来进行调整,又,即便于一个扫描区域内包含相邻之两个描绘对象区域各自之一部分(即一个扫描区域内包含整个间隙区域)时,亦无需对同一扫描区域进行两次曝光扫描。

45. 发明专利

TWI313494B 基板處理裝置及其處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 有权
简体标题：基板处理设备及其处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TWI313494B
公开(公告)日：2009-08-11
申请号：TW095130497
申请日：2006-08-18
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：福井克洋 FUKUI, KATSUHIRO , 廣江敏朗 HIROE, TOSHIO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67126
摘要：本發明揭示一種基板處理裝置,在將基板載入一室時,與一基板固持零件整合形成之一框架零件係插入該室與一蓋之間,從而密封該室之內部。在將該等基板卸載至該室上時,令該室及該蓋直接接觸,從而密封該室之內部。因此,在將該等基板載入該室時以及在將該等基板卸載至該室上時,可滿意地密封該室之內部。
简体摘要：本发明揭示一种基板处理设备,在将基板加载一室时,与一基板固持零件集成形成之一框架零件系插入该室与一盖之间,从而密封该室之内部。在将该等基板卸载至该室上时,令该室及该盖直接接触,从而密封该室之内部。因此,在将该等基板加载该室时以及在将该等基板卸载至该室上时,可满意地密封该室之内部。

46. 发明专利

TW200924858A 塗佈裝置 LIQUID MATERIAL APPLYING APPARATUS 审中-公开
简体标题：涂布设备 LIQUID MATERIAL APPLYING APPARATUS
公开(公告)号：TW200924858A
公开(公告)日：2009-06-16
申请号：TW097106432
申请日：2008-02-25
申请人：大日本斯克琳製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：小瀨弘和 HIROKAZU OZE , 上野雅敏 MASATOSHI UENO
IPC分类号： B05C , B05D , B05B , H05B
摘要：塗佈裝置(1)係一邊從複數個噴嘴(17)連續地吐出有機EL液,一邊使塗佈頭(14)在主掃描方向上移動,藉此在測試塗佈單元(2)之2個測試塗佈平台部(21)上,分別對保持於膠帶保持部上的樹脂膠帶之測試塗佈面塗佈有機EL液。然後,根據由CCD相機(13)所取得的測試塗佈面上之有機EL液圖案之影像來檢測噴嘴間距,並根據檢測結果,利用間距調整機構(3)來調整複數個噴嘴(17)於副掃描方向上的間距。藉此,可高精度地調整塗佈裝置(1)之複數個噴嘴(17)於副掃描方向上之間距,而無需於基板(9)上塗佈有機EL液。
简体摘要：涂布设备(1)系一边从复数个喷嘴(17)连续地吐出有机EL液,一边使涂布头(14)在主扫描方向上移动,借此在测试涂布单元(2)之2个测试涂布平台部(21)上,分别对保持于胶带保持部上的树脂胶带之测试涂布面涂布有机EL液。然后,根据由CCD相机(13)所取得的测试涂布面上之有机EL液图案之影像来检测喷嘴间距,并根据检测结果,利用间距调整机构(3)来调整复数个喷嘴(17)于副扫描方向上的间距。借此,可高精度地调整涂布设备(1)之复数个喷嘴(17)于副扫描方向上之间距,而无需于基板(9)上涂布有机EL液。

47. 发明专利

TWI309063B 基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TWI309063B
公开(公告)日：2009-04-21
申请号：TW095128573
申请日：2006-08-04
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：我孫子良隆 ABIKO, YOSHITAKA , 廣江敏朗 HIROE, TOSHIO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67057
摘要：本發明係關於一種基板處理裝置,其在一局部形成於一腔室內之化學溶液處理室中進行一化學溶液處理。在該化學溶液處理期間,該基板處理裝置密封該化學溶液處理室,且量測化學溶液處理室內之壓力,且基於一量測値控制化學溶液處理室內之壓力。在無關於該基板處理裝置之所在環境下,可將化學溶液處理室控制至一預定壓力。該基板處理裝置亦允許對於區域之最小所需量之有效壓力控制。
简体摘要：本发明系关于一种基板处理设备,其在一局部形成于一腔室内之化学溶液处理室中进行一化学溶液处理。在该化学溶液处理期间,该基板处理设备密封该化学溶液处理室,且量测化学溶液处理室内之压力,且基于一量测値控制化学溶液处理室内之压力。在无关于该基板处理设备之所在环境下,可将化学溶液处理室控制至一预定压力。该基板处理设备亦允许对于区域之最小所需量之有效压力控制。

48. 发明专利

TWI307528B 阻劑去除方法及阻劑去除裝置 RESIST REMOVING METHOD AND RESIST REMOVING APPARATUS 有权
简体标题：阻剂去除方法及阻剂去除设备 RESIST REMOVING METHOD AND RESIST REMOVING APPARATUS
公开(公告)号：TWI307528B
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：TW095131358
申请日：2006-08-25
申请人：大日本斯克琳製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：和田昌之 MASAYUKI WADA
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/02057 , G03F7/423 , H01L21/02063 , H01L21/67051 , H01L21/6708
摘要：本發明的阻劑去除方法,對基板表面供應硫酸與過氧化氫水,而從該基板表面上將阻劑去除。然後,對基板表面供應過氧化氫水,而從基板表面上將硫酸排除。
简体摘要：本发明的阻剂去除方法,对基板表面供应硫酸与过氧化氢水,而从该基板表面上将阻剂去除。然后,对基板表面供应过氧化氢水,而从基板表面上将硫酸排除。

49. 发明专利

TW200901303A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW200901303A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097107925
申请日：2008-03-06
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：富藤幸雄 TOMIFUJI, YUKIO , 中田宏幸 NAKATA, HIROYUKI , 松下佳彥 MATSUSHITA, YOSHIHIKO
IPC分类号： H01L
摘要：本發明提供一種基板處理裝置,其防止附著於噴嘴構件之處理液滴下至基板上。該基板處理裝置1具有:液刀16,其對搬送中之基板S之上表面,自該基板S之搬送方向之上游側朝下游側斜向噴出清洗液;以及氣體噴射手段,其具備朝該液刀16噴射空氣之空氣噴嘴32。而且,該基板處理裝置1構成為:根據控制器40之控制,當液刀16之下方沒有基板S時,自上述空氣噴嘴32朝液刀16噴射空氣。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备,其防止附着于喷嘴构件之处理液滴下至基板上。该基板处理设备1具有:液刀16,其对搬送中之基板S之上表面,自该基板S之搬送方向之上游侧朝下游侧斜向喷出清洗液;以及气体喷射手段,其具备朝该液刀16喷射空气之空气喷嘴32。而且,该基板处理设备1构成为:根据控制器40之控制,当液刀16之下方没有基板S时,自上述空气喷嘴32朝液刀16喷射空气。

50. 发明专利

TW200900684A 缺陷檢查裝置、圖形描繪裝置、圖形描繪系統及儲存缺陷檢查程式之記錄媒體 DEFECT INSPECTION APPARATUS, PATTERN DRAWING APPARATUS, PATTERN DRAWING SYSTEM AND RECORDING MEDIUM STORING DEFECT INSPECTION PROGRAM 审中-公开
简体标题：缺陷检查设备、图形描绘设备、图形描绘系统及存储缺陷检查进程之记录媒体 DEFECT INSPECTION APPARATUS, PATTERN DRAWING APPARATUS, PATTERN DRAWING SYSTEM AND RECORDING MEDIUM STORING DEFECT INSPECTION PROGRAM
公开(公告)号：TW200900684A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097102547
申请日：2008-01-23
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：山田亮 YAMADA, RYO , 古川至 FURUKAWA, ITARU , 北村清志 KITAMURA, KIYOSHI , 中井一博 NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： G01N
摘要：本發明以簡易之結構提供一種可於執行描繪前檢測供作圖形描繪之運行長度資料缺陷之技術。本發明分別取得輸入CAD資料D1與藉由將該輸入CAD資料D1予以RIP處理而取得之運行長度資料D2。而後,對輸入CAD資料D1與運行長度資料D2中之至少一方的資料,執行特定之變換處理,整理成相互可比較之資料形成後,比較兩資料,檢測有差異之區域作為運行長度資料D2中之缺陷區域。
简体摘要：本发明以简易之结构提供一种可于运行描绘前检测供作图形描绘之运行长度数据缺陷之技术。本发明分别取得输入CAD数据D1与借由将该输入CAD数据D1予以RIP处理而取得之运行长度数据D2。而后,对输入CAD数据D1与运行长度数据D2中之至少一方的数据,运行特定之变换处理,整理成相互可比较之数据形成后,比较两数据,检测有差异之区域作为运行长度数据D2中之缺陷区域。

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