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1. 发明专利

TWI313494B 基板處理裝置及其處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 有权
简体标题：基板处理设备及其处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TWI313494B
公开(公告)日：2009-08-11
申请号：TW095130497
申请日：2006-08-18
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：福井克洋 FUKUI, KATSUHIRO , 廣江敏朗 HIROE, TOSHIO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67126
摘要：本發明揭示一種基板處理裝置,在將基板載入一室時,與一基板固持零件整合形成之一框架零件係插入該室與一蓋之間,從而密封該室之內部。在將該等基板卸載至該室上時,令該室及該蓋直接接觸,從而密封該室之內部。因此,在將該等基板載入該室時以及在將該等基板卸載至該室上時,可滿意地密封該室之內部。
简体摘要：本发明揭示一种基板处理设备,在将基板加载一室时,与一基板固持零件集成形成之一框架零件系插入该室与一盖之间,从而密封该室之内部。在将该等基板卸载至该室上时,令该室及该盖直接接触,从而密封该室之内部。因此,在将该等基板加载该室时以及在将该等基板卸载至该室上时,可满意地密封该室之内部。

2. 发明专利

TWI309063B 基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 有权
简体标题：基板处理设备及基板处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TWI309063B
公开(公告)日：2009-04-21
申请号：TW095128573
申请日：2006-08-04
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：我孫子良隆 ABIKO, YOSHITAKA , 廣江敏朗 HIROE, TOSHIO
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67034 , H01L21/67057
摘要：本發明係關於一種基板處理裝置,其在一局部形成於一腔室內之化學溶液處理室中進行一化學溶液處理。在該化學溶液處理期間,該基板處理裝置密封該化學溶液處理室,且量測化學溶液處理室內之壓力,且基於一量測値控制化學溶液處理室內之壓力。在無關於該基板處理裝置之所在環境下,可將化學溶液處理室控制至一預定壓力。該基板處理裝置亦允許對於區域之最小所需量之有效壓力控制。
简体摘要：本发明系关于一种基板处理设备,其在一局部形成于一腔室内之化学溶液处理室中进行一化学溶液处理。在该化学溶液处理期间,该基板处理设备密封该化学溶液处理室,且量测化学溶液处理室内之压力,且基于一量测値控制化学溶液处理室内之压力。在无关于该基板处理设备之所在环境下,可将化学溶液处理室控制至一预定压力。该基板处理设备亦允许对于区域之最小所需量之有效压力控制。

3. 发明专利

TW200901303A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW200901303A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097107925
申请日：2008-03-06
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：富藤幸雄 TOMIFUJI, YUKIO , 中田宏幸 NAKATA, HIROYUKI , 松下佳彥 MATSUSHITA, YOSHIHIKO
IPC分类号： H01L
摘要：本發明提供一種基板處理裝置,其防止附著於噴嘴構件之處理液滴下至基板上。該基板處理裝置1具有:液刀16,其對搬送中之基板S之上表面,自該基板S之搬送方向之上游側朝下游側斜向噴出清洗液;以及氣體噴射手段,其具備朝該液刀16噴射空氣之空氣噴嘴32。而且,該基板處理裝置1構成為:根據控制器40之控制,當液刀16之下方沒有基板S時,自上述空氣噴嘴32朝液刀16噴射空氣。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备,其防止附着于喷嘴构件之处理液滴下至基板上。该基板处理设备1具有:液刀16,其对搬送中之基板S之上表面,自该基板S之搬送方向之上游侧朝下游侧斜向喷出清洗液;以及气体喷射手段,其具备朝该液刀16喷射空气之空气喷嘴32。而且,该基板处理设备1构成为:根据控制器40之控制,当液刀16之下方没有基板S时,自上述空气喷嘴32朝液刀16喷射空气。

4. 发明专利

TW200900684A 缺陷檢查裝置、圖形描繪裝置、圖形描繪系統及儲存缺陷檢查程式之記錄媒體 DEFECT INSPECTION APPARATUS, PATTERN DRAWING APPARATUS, PATTERN DRAWING SYSTEM AND RECORDING MEDIUM STORING DEFECT INSPECTION PROGRAM 审中-公开
简体标题：缺陷检查设备、图形描绘设备、图形描绘系统及存储缺陷检查进程之记录媒体 DEFECT INSPECTION APPARATUS, PATTERN DRAWING APPARATUS, PATTERN DRAWING SYSTEM AND RECORDING MEDIUM STORING DEFECT INSPECTION PROGRAM
公开(公告)号：TW200900684A
公开(公告)日：2009-01-01
申请号：TW097102547
申请日：2008-01-23
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：山田亮 YAMADA, RYO , 古川至 FURUKAWA, ITARU , 北村清志 KITAMURA, KIYOSHI , 中井一博 NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： G01N
摘要：本發明以簡易之結構提供一種可於執行描繪前檢測供作圖形描繪之運行長度資料缺陷之技術。本發明分別取得輸入CAD資料D1與藉由將該輸入CAD資料D1予以RIP處理而取得之運行長度資料D2。而後,對輸入CAD資料D1與運行長度資料D2中之至少一方的資料,執行特定之變換處理,整理成相互可比較之資料形成後,比較兩資料,檢測有差異之區域作為運行長度資料D2中之缺陷區域。
简体摘要：本发明以简易之结构提供一种可于运行描绘前检测供作图形描绘之运行长度数据缺陷之技术。本发明分别取得输入CAD数据D1与借由将该输入CAD数据D1予以RIP处理而取得之运行长度数据D2。而后,对输入CAD数据D1与运行长度数据D2中之至少一方的数据,运行特定之变换处理,整理成相互可比较之数据形成后,比较两数据,检测有差异之区域作为运行长度数据D2中之缺陷区域。

5. 发明专利

TW200849349A 基板處理裝置 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS 审中-公开
简体标题：基板处理设备 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS
公开(公告)号：TW200849349A
公开(公告)日：2008-12-16
申请号：TW097102937
申请日：2008-01-25
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：町田英作 MACHIDA, EISAKU
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67276 , H01L21/67161 , H01L21/67745 , Y10T29/41
摘要：本發明提供一種基板處理裝置,其可縮短裝置整體之基板搬運所需的時間。基板傳送機器人12具有兩根搬運臂13a、13b,分別保持1片待處理基板W,將兩片待處理基板W自載具C同時搬運至基板交接部50。又,基板傳送機器人12於兩根搬運臂13a、13b分別保持1片已處理基板W,自基板交接部50同時接收兩片已處理基板W,且同時搬運至載具C。藉由於基板交接部50上設置3處送出載置部SPASS1~SPASS3及3處傳回載置部RPASS1~RPASS3,可利用基板傳送機器人12順利執行兩片同時搬運,而可縮短基板處理裝置1整體之基板搬運所需之時間。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备,其可缩短设备整体之基板搬运所需的时间。基板发送机器人12具有两根搬运臂13a、13b,分别保持1片待处理基板W,将两片待处理基板W自载具C同时搬运至基板交接部50。又,基板发送机器人12于两根搬运臂13a、13b分别保持1片已处理基板W,自基板交接部50同时接收两片已处理基板W,且同时搬运至载具C。借由于基板交接部50上设置3处送出载置部SPASS1~SPASS3及3处传回载置部RPASS1~RPASS3,可利用基板发送机器人12顺利运行两片同时搬运,而可缩短基板处理设备1整体之基板搬运所需之时间。

6. 发明专利

TW200836841A 基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 失效
简体标题：基板处理设备及基板处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TW200836841A
公开(公告)日：2008-09-16
申请号：TW096142589
申请日：2007-11-09
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：岸本卓也 KISHIMOTO, TAKUYA , 宮勝彥 MIYA, KATSUHIKO
IPC分类号： B05C , H01L
CPC分类号： H01L21/6875 , H01L21/6708 , Y10S134/902
摘要：本發明提供一種基板處理裝置及方法,其可從基板之表面周緣部將附著於噴嘴插入孔之處理液之液滴從該噴嘴插入孔排出,而不會受到該液滴所產生之不良影響,而可良好地處理基板之表面周緣部。開口部521之中相對於插入噴嘴插入孔52之噴嘴3位於液噴出方向X側之部位531擴張於液噴出方向X側。因此,移動至噴嘴插入孔52之液滴DL經由擴張部位531而相對於噴嘴3附著於液噴出方向X側之內壁面,亦即傾斜部位532。而且,由於該傾斜部位532設成一面從噴嘴插入孔52之中央部朝向擴張部位531傾斜,一面從基板W之表面中央部側遠離,因此所附著之液滴DL會沿著傾斜部位532而流到液噴出方向X側,從噴嘴插入孔52之開口部521排出。
简体摘要：本发明提供一种基板处理设备及方法,其可从基板之表面周缘部将附着于喷嘴插入孔之处理液之液滴从该喷嘴插入孔排出,而不会受到该液滴所产生之不良影响,而可良好地处理基板之表面周缘部。开口部521之中相对于插入喷嘴插入孔52之喷嘴3位于液喷出方向X侧之部位531扩张于液喷出方向X侧。因此,移动至喷嘴插入孔52之液滴DL经由扩张部位531而相对于喷嘴3附着于液喷出方向X侧之内壁面,亦即倾斜部位532。而且,由于该倾斜部位532设成一面从喷嘴插入孔52之中央部朝向扩张部位531倾斜,一面从基板W之表面中央部侧远离,因此所附着之液滴DL会沿着倾斜部位532而流到液喷出方向X侧,从喷嘴插入孔52之开口部521排出。

7. 发明专利

TW200830387A 基板處理裝置及基板處理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD 审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法 SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND SUBSTRATE PROCESSING METHOD
公开(公告)号：TW200830387A
公开(公告)日：2008-07-16
申请号：TW096131936
申请日：2007-08-28
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：川根旬平 KAWANE, JUMPEI , 鹽田明仁 SHIOTA, AKIHITO , 鈴木聰 SUZUKI, SATOSHI , 山本悟史 YAMAMOTO, SATOSHI
IPC分类号： H01L , B08B
摘要：本發明於使用含有微氣泡或奈米氣泡之處理液之基板處理裝置及基板處理方法中,提供一種可對於基板使微氣泡或奈米氣泡有效地起作用之技術。微氣泡洗淨處理部40可藉由調節注入被壓送之洗淨液中之氮氣之流量,而調節洗淨液中含有之微氣泡之大小。因此,可根據作為去除對象之微粒之大小,大量地供給最佳尺寸之微氣泡,且可對於基板使微氣泡有效地起作用。
简体摘要：本发明于使用含有微气泡或奈米气泡之处理液之基板处理设备及基板处理方法中,提供一种可对于基板使微气泡或奈米气泡有效地起作用之技术。微气泡洗净处理部40可借由调节注入被压送之洗净液中之氮气之流量,而调节洗净液中含有之微气泡之大小。因此,可根据作为去除对象之微粒之大小,大量地供给最佳尺寸之微气泡,且可对于基板使微气泡有效地起作用。

8. 发明专利

TW200821763A 圖案描繪裝置 PATTERN DRAWING APPARATUS 审中-公开
简体标题：图案描绘设备 PATTERN DRAWING APPARATUS
公开(公告)号：TW200821763A
公开(公告)日：2008-05-16
申请号：TW096127323
申请日：2007-07-26
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：生藤邦夫 IKEFUJI, KUNIO , 橫田晃博 YOKOTA, AKIHIRO
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：本發明係提供一種即使於部分的光照射機構發生異常之情形亦可繼續進行描繪處理之圖案描繪裝置。本發明之圖案描繪裝置1,使用CCD攝影機41拍攝複數之光學頭32a、32b、…、32g之照射光,並基於其拍攝結果判定於各光學頭32a、32b、…、32g是否發生異常。然後,圖案描繪裝置1以其他光學頭對判定為異常之光學頭所負責的描繪區域進行補充描繪。因此,即使於部分之光照射機構發生異常之情形亦可繼續進行描繪處理,從而可使裝置之作業率提高。
简体摘要：本发明系提供一种即使于部分的光照射机构发生异常之情形亦可继续进行描绘处理之图案描绘设备。本发明之图案描绘设备1,使用CCD摄影机41拍摄复数之光学头32a、32b、…、32g之照射光,并基于其拍摄结果判定于各光学头32a、32b、…、32g是否发生异常。然后,图案描绘设备1以其他光学头对判定为异常之光学头所负责的描绘区域进行补充描绘。因此,即使于部分之光照射机构发生异常之情形亦可继续进行描绘处理,从而可使设备之作业率提高。

9. 发明专利

TW200818380A 基板處理方法及基板處理裝置失效
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW200818380A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW096123286
申请日：2007-06-27
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：山岡英人 YAMAOKA, HIDETO , 子卓哉 ZUSHI, TAKUYA , 芳谷光明 YOSHITANI, MITSUAKI
IPC分类号： H01L
摘要：本發明提供一種可防止處理不均勻之發生,同時可高效率地對基板進行處理之基板處理方法及基板處理裝置。藉由於顯影處理室(3)中對水平姿勢之基板供給顯影液而實施顯影處理之後,藉由於清洗處理室(4)中對傾斜姿勢之基板(S)供給清洗液而進行清洗處理。此時,於顯影處理之後,於顯影處理室(3)中將基板(S)自水平姿勢變換為臨時傾斜姿勢(斜度小於適用於清洗處理之基板(S)之傾斜姿勢的姿勢),於該臨時傾斜姿勢之狀態下,將基板(S)自顯影處理室(3)搬送至清洗處理室(4)。繼而,於清洗處理室(4)將基板(S)之姿勢自臨時傾斜姿勢變換為正式傾斜姿勢而進行清洗處理。
简体摘要：本发明提供一种可防止处理不均匀之发生,同时可高效率地对基板进行处理之基板处理方法及基板处理设备。借由于显影处理室(3)中对水平姿势之基板供给显影液而实施显影处理之后,借由于清洗处理室(4)中对倾斜姿势之基板(S)供给清洗液而进行清洗处理。此时,于显影处理之后,于显影处理室(3)中将基板(S)自水平姿势变换为临时倾斜姿势(斜度小于适用于清洗处理之基板(S)之倾斜姿势的姿势),于该临时倾斜姿势之状态下,将基板(S)自显影处理室(3)搬送至清洗处理室(4)。继而,于清洗处理室(4)将基板(S)之姿势自临时倾斜姿势变换为正式倾斜姿势而进行清洗处理。

10. 发明专利

TW200817846A 描繪裝置及校準方法审中-公开
简体标题：描绘设备及校准方法
公开(公告)号：TW200817846A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW096121963
申请日：2007-06-15
申请人：大日本網板製造股份有限公司 DAINIPPON SCREEN MFG. CO., LTD.
发明人：谷口慎也 TANIGUCHI, SHINYA , 和田康之 WADA, YASUYUKI , 林秀樹 HAYASHI, HIDEKI , 小八木康幸 KOYAGI, YASUYUKI
IPC分类号： G03F
摘要：本發明提供一種無須於校準攝影機使用高性能之驅動機構,且即便於光照射部與校準攝影機之位置關係產生變化之情形時,亦可於基板上之準確位置進行描繪之圖案描繪裝置以及校準方法。圖案描繪裝置1檢測各校準攝影機41~44相對於自光學頭32照射之脈衝光之相對位置的偏移量,且根據該偏移量而修正基板9之校準量以及基板9之描繪起始位置。因此,即便於自光學頭32照射之脈衝光與各校準攝影機41~44之位置關係產生變化之情形時,亦可一面修正該變化量一面進行描繪處理。因此,圖案描繪裝置1可於基板9上之準確位置進行描繪。
简体摘要：本发明提供一种无须于校准摄影机使用高性能之驱动机构,且即便于光照射部与校准摄影机之位置关系产生变化之情形时,亦可于基板上之准确位置进行描绘之图案描绘设备以及校准方法。图案描绘设备1检测各校准摄影机41~44相对于自光学头32照射之脉冲光之相对位置的偏移量,且根据该偏移量而修正基板9之校准量以及基板9之描绘起始位置。因此,即便于自光学头32照射之脉冲光与各校准摄影机41~44之位置关系产生变化之情形时,亦可一面修正该变化量一面进行描绘处理。因此,图案描绘设备1可于基板9上之准确位置进行描绘。

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