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    • 24. 发明申请
    • VERFAHREN ZUM ERFASSEN VON STRÖMEN IN EINEM HALBLEITERBAUELEMENT MIT EINEM MULTI-ZELLEN-STROMSENSOR
    • 一种用于在半导体元件检测中流保证的多单元功率传感器
    • WO2003043086A2
    • 2003-05-22
    • PCT/DE2002/003870
    • 2002-10-11
    • ROBERT BOSCH GMBHFEILER, WolfgangQU, Ning
    • FEILER, WolfgangQU, Ning
    • H01L27/02
    • H01L29/7815G01R19/0092H01L29/7803
    • Die Erfindung schafft ein Verfahren zum Erfassen von Strömen in einem Halbleiterbauelement (100), wobei mindestens eine Stromsensorzelle (101) in einem aktiven Bereich (102) eines Halbleiterbauelements (100) angeordnet wird, wobei die mindestens eine Stromsensorzelle (101) an vorgebbaren lokalen Stellen in dem Halbleiterbauelement positionierbar ist, eine erste Source-Anschlusseinheit (111) der Stromsensorzelle (101) mit einem Bondanschluss (203) über Leiterbahnen (204) verbunden wird, mindestens ein Strom von einem Substrat (104) des Halbleiterbauelements (100) über die mindestens eine Stromsensorzelle (101), die erste Source-Anschlusseinheit (111) und ein Sensorwiderstandselement (113) zu einem Masseanschluss (116) durchgeleitet wird, und mindestens ein durch die mindestens eine Stromsensorzelle fließender Strom durch Abgreifen eines dem Strom entsprechenden Spannungsabfalls über dem Sensorwiderstandselement (113) erfasst wird.
    • 本发明提供一种用于在半导体器件(100)检测电流的方法,所述半导体器件(100)的有源区(102)的至少一个电流传感器单元(101)中,所述预定的本地地点的至少一个电流传感器单元(101) 在该半导体器件可以被定位,第一源极端子单元(111),电流传感器单元(101),以经由导体的接合端子(203)(204)经由至少连接到所述半导体器件(100)的衬底(104)中的至少一个流 电流传感器单元(101),第一源极端子单元(111)和传感器电阻元件(113)与接地端子(116)被传递,以及至少一个(由流经分接一个对应于在传感器电阻元件上的电压降的至少一个电流传感器单元电流 113)被检测到。
    • 27. 发明申请
    • METHODS AND APPARATUSES FOR USER-VERIFIABLE TRUSTED PATH IN THE PRESENCE OF MALWARE
    • 用于恶意软件存在的用户可验证路由的方法和设备
    • WO2011037665A2
    • 2011-03-31
    • PCT/US2010/040334
    • 2010-06-29
    • CARNEGIE MELLON UNIVERSITYMCCUNE, Jonathan, M.PERRIG, Adrian, M.DATTA, AnupamGILGOR, Virgil DorinQU, Ning
    • MCCUNE, Jonathan, M.PERRIG, Adrian, M.DATTA, AnupamGILGOR, Virgil DorinQU, Ning
    • G06F21/24
    • G06F21/57G06F21/85
    • An apparatus and method for establishing a trusted path (152) between a user interface (150) and a trusted executable (312), wherein the trusted path (152) includes a hypervisor (316) and a driver shim (314). The method includes measuring (710) an identity of the hypervisor; comparing (712) the measurement of the identity of the hypervisor with a policy for the hypervisor; measuring (714) an identity of the driver shim; comparing (716) the measurement of the identity of the driver shim with a policy for the driver shim; measuring (718) an identity of the user interface; comparing (720) the measurement of the identity of the user interface with a policy for the user interface; and providing (722) a human-perceptible indication of whether the identity of the hypervisor, the identity of the driver shim, and the identity of the user interface correspond with the policy for the hypervisor, the policy for the driver shim, and the policy for the user interface, respectively.
    • 一种用于在用户接口(150)和可信任可执行程序(312)之间建立可信路径(152)的装置和方法,其中所述可信路径(152)包括管理程序(316)和驱动器垫片(314)。 该方法包括测量(710)管理程序的身份; 比较(712)管理程序的身份的测量与管理程序的策略; 测量(714)驾驶员垫片的身份; 将(716)驾驶员垫片的身份测量与驾驶员垫片的策略进行比较; 测量(718)用户界面的身份; 将用户界面的身份的测量与用户界面的策略进行比较(720); 以及提供(722)关于管理程序的身份,驱动程序垫片的身份以及用户界面的身份是否符合管理程序的策略,驱动程序垫片的策略以及策略(722)的人为可察觉的指示 分别用于用户界面。
    • 28. 发明申请
    • AUTOMATED WORM LINE
    • WO2019234653A1
    • 2019-12-12
    • PCT/IB2019/054678
    • 2019-06-05
    • DERKS, LouQU, Ning
    • DERKS, LouQU, Ning
    • C05F17/00C05F17/02
    • The invention relates to an automated worm line. The automated worm line (200) comprises a container station (10), one or more container conveyors (14), an organic material station (20), one or more organic material conveyors (24), for feeding organic material to empty containers (12a) to fill them with a defined amount of organic material, a worm filling station (30), one or more worm conveyors (34) for conveying worms to an organic material filled container (12b) to fill them of working worms (400a), a transfer station (50) for transferring organic material filled containers (12b) from the worm line, a storage station (60) for organic material filled containers (12b) where the filled containers (12b) are stored to for a time sufficient for the working worms (400a) to work the organic material, before being transferred back onto the worm line, a container emptying station (70), where the filled containers (12b) are emptied, a separating station, where worms are separated from compost and working worms are separated from worms for harvesting, one or more compost conveyors (74) for conveying the emptied worms (400) and worm compost (300) from the container emptying station (70) to the separating station (80), a worm collecting station (90), a compost collecting station (100); and one or more worm compost conveyors (84) to convey the worm compost (300) for collecting. It also relates to a method for the production of worms and worm compost.
    • 29. 发明申请
    • HOCHSPANNUNGS-TRENCH-JUNCTION-BARRIER-SCHOTTKYDIODE MIT P-SCHICHTEN UNTER DEM SCHOTTKY-KONTAKT
    • 肖特基P层肖特基接触在高电压沟槽结势垒
    • WO2014195131A1
    • 2014-12-11
    • PCT/EP2014/060400
    • 2014-05-21
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • QU, NingGOERLACH, Alfred
    • H01L29/872H01L29/06
    • H01L29/872H01L29/0619
    • Die Erfindung betrifft eine Schottkydiode, aufweisend ein n + -Substrat (10), eine n-Epischicht (20), die eine Dicke ( D_epi ) aufweist, mindestens zwei in die n-Epischicht (20) eingebrachte Gräben (70), die jeweils eine Breite ( Wt )und eine Tiefe ( Dt ) aufweisen, Mesa-Bereiche (80) zwischen benachbarten Gräben (70), wobei die Mesa-Bereiche jeweils eine Breite ( Wm ) aufweisen, eine einen ohmschen Kontakt bildende und als Kathodenelektrode dienende erste Metallschicht (60) an der Rückseite (R) der Schottkydiode sowie eine einen ohmschen Kontakt zu den Gräben (70) und einen Schottky- Kontakt zu der n-Epischicht (20) bildende und als Anodenelektrode dienende zweite Metallschicht (50) an der Vorderseite (V) der Schottkydiode, wobei p-Schichten (90) mit einer Dicke ( D _p )und einer Dotierkonzentration ( N _p )direkt unter dem Schottky-Kontakt angeordnet sind, die zusammen mit der zweiten Metallschicht (50) und der n-dotierten Epischicht (20) ein Schottky-Kontaktsystem bilden.
    • 本发明涉及一种肖特基二极管,包括具有引入至少两个在n外延层(20)的沟槽(70)的厚度(D_epi)的n +型衬底(10),一个n外延层(20),每一个都具有 宽度(w)和深度(DT),其台面区(80)相邻沟槽之间(70),所述台面区每个具有的宽度的欧姆接触形成和作为阴极电极的第一金属层(WM)( 60)(在后侧R)的肖特基二极管和欧姆接触,以在沟槽(70)和一个肖特基接触形成并作为在所述前侧的阳极电极的第二金属层(50)(V n型外延层(20)的) 肖特基二极管,其特征在于,具有厚度和掺杂浓度(N _p)p-层(90)(_p D)是下肖特基接触直接设置的,其与所述第二金属层(50)和n型掺杂的外延层一起(20 )形成肖特基接触系统。
    • 30. 发明申请
    • MOS-FELDEFFEKTTRANSISTOR UND VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG
    • MOS场效应晶体管及其制造方法
    • WO2014183897A1
    • 2014-11-20
    • PCT/EP2014/054643
    • 2014-03-11
    • ROBERT BOSCH GMBH
    • QU, NingTRAUTMANN, AchimGRIEB, Michael
    • H01L29/417H01L29/78H01L29/10
    • H01L29/7813H01L21/046H01L21/049H01L21/26513H01L29/1095H01L29/1608H01L29/41766H01L29/4236H01L29/66068H01L29/66734
    • Erfindungsgemäß werden ein Substrat für einen Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor und ein Metall-Oxid-Halbleiter-Feldeffekttransistor zur Verfügung gestellt. Das Substrat umfasst: eine n-dotierte epitaktische Driftzone (10), eine auf der Driftzone angeordnete p - -dotierte epitaktische erste Schicht (20), eine auf der ersten Schicht angeordnete hoch n-dotierte zweite Schicht (20) und einen durch p + -Implantation gebildeten Anschluss (41), wobei die erste Schicht (20) in elektrischem Kontakt mit dem Anschluss (41) steht und lateral zwischen dem Anschluss (41) und einem Graben angeordnet ist, wobei der Graben in der Driftzone, in derersten Schicht (20) und in der zweiten Schicht (30) gebildet ist. Das Substrat ist dadurch gekennzeichnet, dass eine Implantationstiefe (P) der p + -Implantation mindestens so groß ist wie eine Tiefe des Grabens. Die tiefe p + -Implantation kann benachbarte Gräben so separieren, dass ein Feld nicht mehr an ein Gate-Oxid angreifen kann, da es um das Gate-Oxid herumgeleitet wird.
    • 根据本发明,提供了用于MOSFET的衬底,和一个MOSFET。 所述衬底包括:n掺杂外延漂移区域(10),设置装置在所述漂移区域p - 掺杂的外延第一层(20),设置在所述第一层(20)和a至p +上的高n掺杂的第二层 - (41)形成的植入连接,其中所述第一层(20)与所述端子(41)和沟槽之间的端子(41)和横向的电接触,所述漂移区的沟槽,(在第一层20 形成),并在所述第二层(30)。 基板的特征在于,在p +注入的注入深度(P)是至少为沟槽的深度一样大。 深p +植入物可以在相邻的沟槽,分离,使得一个字段不能在栅极氧化作用,因为它是围绕栅极氧化物引导。