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11. 发明申请

WO2010149487A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD 审中-公开
标题翻译：用于在物体场中成像的成像光学系统和用于照射对象场的照明光学系统
公开(公告)号：WO2010149487A2
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/057971
申请日：2010-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0663 , G02B27/0905 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.
摘要翻译：成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面（11）中的物场（9）成像为图像平面（14）中的图像场（13）。至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。对象字段的长宽比（x / y）大于1，对象字段的最小和最大横向维度的比值小于0.9。在另一方面，对象字段（9）和/或图像字段（13）偏离镜像对称字段形式。用于照明物场（9）的照明光学系统（10）具有引导照明光（3）的部件，其被设计成照射相应形成的物体场（9）。结果是成像光学系统，照明光学系统和配备有其的投影曝光系统，在成像光学系统成像的场上考虑对成像误差的校正的增加的需求。

12. 发明申请

WO2012034995A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM 审中-公开
标题翻译：成像光学系统
公开(公告)号：WO2012034995A2
公开(公告)日：2012-03-22
申请号：PCT/EP2011/065823
申请日：2011-09-13
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B13/08 , G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B5/09 , G02B13/08 , G02B17/0663 , G02B26/0833 , G03F7/70058 , G03F7/701 , G03F7/702 , G03F7/70216
摘要： An imaging optical system (9) for a projection exposure system has at least one anamorphically imaging optical element (M1 to M6). This allows a complete illumination of an image field in a first direction with a large object-side numerical aperture in this direction, without the extent of the reticle to be imaged having to be enlarged and without a reduction in the throughput of the projection exposure system occurring.
摘要翻译：用于投影曝光系统的成像光学系统（9）具有至少一个变形成像光学元件（M1至M6）。这允许在该方向上对具有大的物体侧数值孔径的第一方向上的图像场进行完全照明，而不需要扩大要成像的标线片的范围，并且不会降低投影曝光系统的吞吐量发生。

13. 发明申请

WO2011032813A1 MIRROR FOR USE IN A MICROLITHOGRAPHY PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：用于微观投影曝光装置的镜子
公开(公告)号：WO2011032813A1
公开(公告)日：2011-03-24
申请号：PCT/EP2010/062426
申请日：2010-08-26
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ROCKTAESCHEL, Martin , ENKISCH, Hartmut , STICKEL, Franz-Josef , NATT, Oliver , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
发明人： ROCKTAESCHEL, Martin , ENKISCH, Hartmut , STICKEL, Franz-Josef , NATT, Oliver , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
IPC分类号： G02B5/08
CPC分类号： G03F7/70958 , G02B5/0833 , G03F7/70191 , G03F7/70308 , G03F7/70316
摘要： The invention relates to a mirror for use in a microlithography projection exposure apparatus, comprising a substrate and a reflective coating, wherein the reflective coating itself in turn comprises a first group of layers and a second group of layers. In this case, the second group of layers is arranged between the substrate and the first group of layers. Furthermore, both the first group of layers and the second group of layers comprise a plurality of alternating first and second layers arranged one above another, wherein the first layers comprise a first material, the refractive index of which for radiation having a wavelength in the range of 5-30 nm is greater than the refractive index of a second material, which the second layers comprise. In this case, the first group of layers is configured in such a way that it comprises a number of layers that is greater than 20, such that, upon irradiation with radiation having a wavelength in the range of 5-30 nm, less than 20% of the radiation reaches the second group of layers, and wherein the second group of layers has a layer thickness variation for the correction of the surface form of the mirror. What is thereby achieved is that the second group of layers, which has a layer thickness variation for the correction of the surface form of the mirror, does not significantly affect the reflectivity properties of the mirror.
摘要翻译：本发明涉及一种用于微光刻投影曝光设备的反射镜，其包括基底和反射涂层，其中反射涂层本身又包括第一组层和第二组层。在这种情况下，第二组层布置在衬底和第一组层之间。此外，第一组层和第二组层都包括多个彼此排列的交替的第一和第二层，其中第一层包括第一材料，其第一材料的折射率用于具有在该范围内的波长的辐射 5-30nm的厚度大于第二层包含的第二材料的折射率。在这种情况下，第一组层被配置成使得其包括大于20的多个层，使得当辐射具有5-30nm的波长的辐射时，小于20 辐射的百分比达到第二组层，并且其中第二组层具有用于校正反射镜的表面形式的层厚度变化。由此实现的是，具有用于校正反射镜的表面形式的层厚度变化的第二组层不会显着影响反射镜的反射性质。

14. 发明申请

WO2017029383A1 EUV-LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN 审中-公开
标题翻译： EUV光刻系统和方法
公开(公告)号：WO2017029383A1
公开(公告)日：2017-02-23
申请号：PCT/EP2016/069658
申请日：2016-08-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WOLF, Alexander , HARTJES, Joachim , GRUNER, Toralf , GOLDE, Daniel , MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06
CPC分类号： G03F7/70308 , G02B17/0647 , G03F7/70033 , G03F7/70233 , G03F7/7025
摘要： Es wird offenbart eine EUV-Lithographieanlage (100) mit einem Projektionssystem (104), in welchem ein optisches System (138) angeordnet ist, wobei das optische System (13) aufweist: eine Obskurationsblende (200) zum Blockieren zumindest eines Bereichs (204) eines Strahlengangs (206), und eine Manipulationseinrichtung (202) zum Verschieben und/oder Verkippen der Obskurationsblende (200).
摘要翻译：它公开了一种具有投影系统（104），其中光学系统被布置（138），EUV光刻设备（100），其中所述光学系统（13），包括：用于封闭至少一个区域的遮蔽（200）（204）的光束路径（206），和用于移动和/或遮蔽（200）的倾斜的操作装置（202）。

15. 发明申请

WO2016012426A1 VERFAHREN ZUM DREIDIMENSIONALEN VERMESSEN EINES 3D-LUFTBILDES EINER LITHOGRAFIEMASKE 审中-公开
标题翻译：方法3D图像AIR刻掩模的三维测度
公开(公告)号：WO2016012426A1
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：PCT/EP2015/066605
申请日：2015-07-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MATEJKA, Ulrich , HUSEMANN, Christoph , RUOFF, Johannes , PERLITZ, Sascha , MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/08 , G02B5/00 , G03F1/00 , G21K7/00
CPC分类号： G02B17/0647 , G02B5/005 , G02B13/08 , G02B17/0828 , G02B17/0848 , G02B21/04 , G02B21/361 , G02B27/0927 , G02B27/0988 , G02B27/2292 , G03F1/84 , G06T3/0093 , G06T3/40 , G06T7/0004 , G06T7/11 , G06T7/60 , G06T11/60 , G06T2200/04 , G06T2207/10032 , G06T2207/20048 , G06T2207/20076 , G06T2207/30148 , G21K7/00
摘要： Bei einem Verfahren zum dreidimensionalen Vermessen eines 3D- Luftbildes im Bereich um eine Bildebene bei der Abbildung einer Lithografiemaske (5), die in einer Objektebene (4) angeordnet ist, wird ein wählbares Abbildungsmaßstab-Verhältnis in zueinander senkrechten Richtungen (x, y) berücksichtigt. Hierzu wird eine elektromagnetische Wellenfront von Abbildungslicht (1) nach dessen Wechselwirkung mit der Lithografiemaske (5) rekonstruiert. Eine Beeinflussungsgröße, die dem Abbildungsmaßstab-Verhältnis entspricht, wird einbezogen. Schließlich wird das unter Einbeziehung der Beeinflussungsgröße gemessene 3D-Luftbild ausgegeben. Es resultiert ein Vermessungsverfahren, mit dem auch Lithografiemasken vermessen werden können, die zur Verwendung mit einer anomorphotischen Projektionsoptik bei der Projektionsbelichtung optimiert sind.
摘要翻译：在用于在光刻掩模（5），其被布置在物平面（4）的成像的图像平面周围的区域中的3D空间图像的三维测量的方法，在相互垂直的方向（x，y）的一个可选成像比例是考虑到，为此目的，成像光（1）的其与光刻掩模（5）相互作用后的电磁波前重构。对应于成像比例比的影响变量是包括在内。最后，测量考虑到干扰变量的3D空间图像被输出。其结果是与甚至光刻掩模可以被测量的测量方法，其用于与在所述投射曝光一个anomorphotischen投影光学系统进行了优化。

16. 发明申请

WO2016012425A9 ABBILDENDE OPTIK FÜR EIN METROLOGIESYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG EINER LITHOGRAPHIEMASKE 审中-公开
公开(公告)号：WO2016012425A9
公开(公告)日：2016-01-28
申请号：PCT/EP2015/066604
申请日：2015-07-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： RUOFF, Johannes , MÜLLER, Ralf , BEDER, Susanne , MATEJKA, Ulrich , MANN, Hans-Jürgen , NEUMANN, Jens Timo
IPC分类号： G02B17/08 , G02B5/00
摘要： Eine abbildende Optik (40) dient innerhalb eines Metrologiesystems zur Untersuchung einer Lithographiemaske. Die Lithographiemaske ist in einem Objektfeld (3) der abbildenden Optik anordenbar. Das Objektfeld (3) ist durch zwei aufeinander senkrecht stehende Objektfeld-Koordinaten (x, y) aufgespannt. Die abbildende Optik (40) hat eine Aperturblende (42), deren Aspektverhältnis in Richtung der beiden Objektfeld-Koordinaten sich von 1 unterscheidet. Es resultiert eine abbildende Optik, die für die Untersuchung von Lithographiemasken, die für die Projektionsbelichtung mit anamorphotischer Projektionsoptik ausgelegt sind, genutzt werden kann.

17. 发明申请

WO2014139867A1 MAGNIFYING IMAGING OPTICAL UNIT AND EUV MASK INSPECTION SYSTEM WITH SUCH AN IMAGING OPTICAL UNIT 审中-公开
标题翻译：使用这种成像光学单元放大成像光学单元和EUV屏蔽检查系统
公开(公告)号：WO2014139867A1
公开(公告)日：2014-09-18
申请号：PCT/EP2014/054414
申请日：2014-03-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G01N21/8806 , G01N21/95 , G01N2201/06113 , G01N2201/068 , G02B17/0605 , G02B17/0657 , G02B17/0663 , G02B17/0694
摘要： A magnifying imaging optical unit (7) serves for inspecting lithography masks which are used in EUV projection exposure. The imaging optical unit (7) comprises at least two mirrors (M1 to M4) which can be displaced relative to one another for changing a magnification value. According to a further aspect, a magnifying imaging optical unit (7) comprises at least one mirror (M1 to M4) and a magnification value, which can be changed by displacement of at least two mirrors (M1 to M4) relative to one another. Here, the magnification value can be changed between a minimum magnification value, which is greater than 100, and a maximum magnification value, which is greater than 200. An imaging optical unit emerges, which can be adapted to, in particular, mask structures with different sizes.
摘要翻译：放大成像光学单元（7）用于检查在EUV投影曝光中使用的光刻掩模。成像光学单元（7）包括至少两个可相对于彼此移位以改变放大值的反射镜（M1至M4）。根据另一方面，放大成像光学单元（7）包括至少一个反射镜（M1至M4）和放大值，其可以通过至少两个反射镜（M1至M4）相对于彼此的位移而改变。这里，可以在大于100的最小倍率值与大于200的最大倍率值之间改变放大率值。成像光学单元出现，特别是可适用于具有不同尺寸

18. 发明授权

EP2191332B1 PROJECTION OBJECTIVE HAVING MIRROR ELEMENTS WITH REFLECTIVE COATINGS 失效转让
标题翻译：与反射涂层的反射镜元件投影镜头
公开(公告)号：EP2191332B1
公开(公告)日：2013-05-29
申请号：EP07801766.2
申请日：2007-08-20
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： CHAN, Danny , MANN, Hans-Jürgen , MIGURA, Sascha
IPC分类号： G03F7/20 , G02B17/06 , G21K1/06 , G02B13/14 , G02B5/08 , B82Y10/00
CPC分类号： G03F7/70308 , B82Y10/00 , G02B5/0891 , G02B13/143 , G02B17/0663 , G03F7/70233 , G21K1/062 , G21K2201/067

19. 发明公开

EP2446313A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD 审中-公开
标题翻译：光学成像系统对画面中FRAME用于照明物场的物场的图示和光学照明系统
公开(公告)号：EP2446313A2
公开(公告)日：2012-05-02
申请号：EP10730395.0
申请日：2010-06-08
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0663 , G02B27/0905 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.
摘要翻译：计划成像光学系统具有的反射镜的复数，一个图像在哪个图像中的物体领域，在物体平面成的像场英寸这些反射镜中的至少一个的反射面被配置为自由面不能由旋转对称函数描述。物场具有的纵横比大于1的最小值和所述物场的最大横向尺寸的比率可以小于0.9。

20. 发明授权

EP2598931B1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 有权
公开(公告)号：EP2598931B1
公开(公告)日：2020-12-02
申请号：EP10740596.1
申请日：2010-07-30
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20

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