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1. 发明申请

WO2018184720A3 PROJEKTIONSOBJEKTIV, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSVERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2018184720A3
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：PCT/EP2018/000145
申请日：2018-03-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： EPPLE, Alexander , SHAFER, David
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
摘要： Ein Refraktives Projektionsobjektiv (PO) zur Abbildung eines in einer Objektebene (OS) des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in eine Bildebene (IS) des Projektionsobjektivs mittels elektromagnetischer Strahlung einer Quecksilberdampflampe (LS) hat eine Vielzahl von Linsen, die entlang einer optischen Achse (AX) zwischen der Objektebene (OS) und der Bildebene (IS) angeordnet und derart ausgebildet sind, dass ein in der Objektebene angeordnetes Muster (PAT) mittels der Linsen in einem verkleinernden Abbildungsmaßstab in die Bildebene abbildbar ist. Die Linsen weisen erste Linsen aus einem ersten Material mit relativ niedriger Abbe-Zahl und zweite Linsen aus einem zweiten Material mit relativ zu dem ersten Material höherer Abbe-Zahl auf. Das Projektionsobjektiv weist ausschließlich die folgenden Linsengruppen auf: eine der Objektebene (OS) folgende erste Linsengruppe (LG1) mit positiver Brechkraft; eine der ersten Linsengruppe (LG1) folgende zweite Linsengruppe (LG2) mit negativer Brechkraft zur Erzeugung einer Taille um einen Bereich minimaler Randstrahlhöhen zwischen der Objektebene und der Bildebene; eine der zweiten Linsengruppe (LG2) folgende dritte Linsengruppe (LG3) mit positiver Brechkraft zwischen der zweiten Linsengruppe und einer zur Anbringung einer Aperturblende (AS) geeigneten Blendenposition (BP); und einer vierten Linsengruppe (LG4) mit positiver Brechkraft zwischen der Blendenposition (BP) und der Bildebene. Die ersten und zweiten Linsen sind derart kombiniert, dass Aberrationen der Abbildung gleichzeitig für Wellenlängenbereiche von mindestens zwei Emissionslinien der Quecksilberdampflampe korrigiert sind.

2. 发明申请

WO2013174686A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION 审中-公开
标题翻译：成像光学系统和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2013174686A1
公开(公告)日：2013-11-28
申请号：PCT/EP2013/060004
申请日：2013-05-15
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： EPPLE, Alexander , MÜLLER, Ralf , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/0663 , G03F7/70233 , G03F7/7025 , G03F7/70308
摘要： An imaging optical unit serves for imaging an object field in an image field. The imaging optical unit has an obscured pupil (21). This pupil (21) has a center (Z), through which a chief ray of a central field point passes. The imaging optical unit furthermore has a plurality of imaging optical components. A gravity center (SP) of a contiguous pupil obscuration region (18) of the imaging optical unit lies decentrally in the pupil (21) of the imaging optical unit. According to a further aspect, the imaging optical unit is embodied in a catoptric manner, with a last mirror with a passage opening for the passage of imaging light. An edge region of a reflection surface of the last mirror, which edge region surrounds the passage opening, is used contiguously for reflecting the imaging light. A penultimate mirror in the imaging beam path is embodied with a reflection surface which is used in a closed fashion, i.e. without an opening. The passage opening is arranged in such a way that this generates a pupil obscuration region (18), which does not lie centrally in the pupil (21) of the imaging optical unit. Such imaging optical units result in a well corrected imageable field with, at the same time, a high imaging light throughput.
摘要翻译：成像光学单元用于对图像场中的物体场进行成像。成像光学单元具有遮蔽的瞳孔（21）。该光瞳（21）具有中心（Z），中心场点的主射线穿过该中心（Z）。成像光学单元还具有多个成像光学部件。成像光学单元的连续瞳孔遮蔽区域（18）的重心（SP）位于成像光学单元的瞳孔（21）中的分散的位置。根据另一方面，成像光学单元以反射方式实现，具有用于成像光通过的通道开口的最后一个反射镜。最后一个反射镜的反射面的边缘区域，该边缘区域围绕通道开口被连续地用于反射成像光。成像光束路径中的倒数第二个反射镜具有以闭合方式即没有开口使用的反射表面。通道开口以这样的方式布置，使得其产生不位于成像光学单元的光瞳（21）中央的光瞳遮蔽区域（18）。这种成像光学单元导致良好校正的可成像场，同时具有高成像光通量。

3. 发明申请

WO2012013241A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：成像光学系统和投影曝光安装与这种类型的成像光学系统的微型计算
公开(公告)号：WO2012013241A1
公开(公告)日：2012-02-02
申请号：PCT/EP2010/061089
申请日：2010-07-30
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander
发明人： MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0663 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system (7) has a plurality of mirrors (M1 to M8), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). The imaging optical system (7) has a pupil obscuration. The last mirror (M8) in the beam path of the imaging light (3) between the object field (4) and the image field (8) has a through-opening (18) for the passage of the imaging light (3). A penultimate mirror (M7) of the imaging optical system (7) in the beam path of the imaging light (3) between the object field (4) and the image field (8) has no through-opening for the passage of the imaging light (3). The imaging optical system (7) has precisely eight mirrors (M1 to M8). The result is an imaging optical system with which a handleable combination of small imaging errors, manageable production and a good throughput for the imaging light are achieved.
摘要翻译：成像光学系统（7）具有多个反射镜（M1至M8），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。成像光学系统（7）具有光瞳遮蔽。在物场（4）和图像场（8）之间的成像光（3）的光束路径中的最后一个镜（M8）具有用于成像光（3）通过的通孔（18）。在物场（4）和图像场（8）之间的成像光（3）的光束路径中的成像光学系统（7）的倒数第二反射镜（M7）没有用于成像通过的通孔光（3）。成像光学系统（7）具有精确的八个反射镜（M1至M8）。结果是成像光学系统，其具有小成像误差，可管理生产和成像光的良好吞吐量的可处理组合。

4. 发明申请

WO2018184720A2 PROJEKTIONSOBJEKTIV, PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE UND PROJEKTIONSBELICHTUNGSVERFAHREN 审中-公开
公开(公告)号：WO2018184720A2
公开(公告)日：2018-10-11
申请号：PCT/EP2018/000145
申请日：2018-03-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： EPPLE, Alexander , SHAFER, David
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Ein Refraktives Projektionsobjektiv (PO) zur Abbildung eines in einer Objektebene (OS) des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in eine Bildebene (IS) des Projektionsobjektivs mittels elektromagnetischer Strahlung einer Quecksilberdampflampe (LS) hat eine Vielzahl von Linsen, die entlang einer optischen Achse (AX) zwischen der Objektebene (OS) und der Bildebene (IS) angeordnet und derart ausgebildet sind, dass ein in der Objektebene angeordnetes Muster (PAT) mittels der Linsen in einem verkleinernden Abbildungsmaßstab in die Bildebene abbildbar ist. Die Linsen weisen erste Linsen aus einem ersten Material mit relativ niedriger Abbe-Zahl und zweite Linsen aus einem zweiten Material mit relativ zu dem ersten Material höherer Abbe-Zahl auf. Das Projektionsobjektiv weist ausschließlich die folgenden Linsengruppen auf: eine der Objektebene (OS) folgende erste Linsengruppe (LG1) mit positiver Brechkraft; eine der ersten Linsengruppe (LG1) folgende zweite Linsengruppe (LG2) mit negativer Brechkraft zur Erzeugung einer Taille um einen Bereich minimaler Randstrahlhöhen zwischen der Objektebene und der Bildebene; eine der zweiten Linsengruppe (LG2) folgende dritte Linsengruppe (LG3) mit positiver Brechkraft zwischen der zweiten Linsengruppe und einer zur Anbringung einer Aperturblende (AS) geeigneten Blendenposition (BP); und einer vierten Linsengruppe (LG4) mit positiver Brechkraft zwischen der Blendenposition (BP) und der Bildebene. Die ersten und zweiten Linsen sind derart kombiniert, dass Aberrationen der Abbildung gleichzeitig für Wellenlängenbereiche von mindestens zwei Emissionslinien der Quecksilberdampflampe korrigiert sind.

5. 发明申请

WO2014000970A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影曝光装置投影曝光装置
公开(公告)号：WO2014000970A1
公开(公告)日：2014-01-03
申请号：PCT/EP2013/060229
申请日：2013-05-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G03F7/70258 , G03F7/70308 , G03F7/70341 , G03F7/70575
摘要： A projection exposure apparatus (1) for projection lithography comprises a light source (3) for generating illumination light (4). An illumination optical unit (5) guides said light to an object field (14). A catadioptric projection optical unit (11) with at least one curved mirror images an object (7) in the object field (14) onto a substrate (13) in an image field (14a). An object displacement drive (7b) and a substrate displacement drive (13b) serve to displace the object (7) and the substrate (13). A compensation device (43, 44) serves to compensate aberrations of the projection optical unit (11), which are caused by an arching of the object (7) or the substrate (13). The compensation device (43, 44) comprises a wavelength manipulation device (44) for manipulating a wavelength of the illumination light (4) during the projection exposure. The result of this is a projection exposure apparatus in which the imaging quality of the projection optical unit is optimized, particularly taking into account a field curvature.
摘要翻译：用于投影光刻的投影曝光装置（1）包括用于产生照明光（4）的光源（3）。照明光学单元（5）将所述光引导到物场（14）。具有至少一个弯曲镜的反射折射投影光学单元（11）将物场（14）中的物体（7）成像到图像场（14a）中的基板（13）上。物位移驱动器（7b）和基板位移驱动器（13b）用于移动物体（7）和基板（13）。补偿装置（43,44）用于补偿由物体（7）或基板（13）的拱形引起的投影光学单元（11）的像差。补偿装置（43,44）包括用于在投影曝光期间操纵照明光（4）的波长的波长操纵装置（44）。其结果是投影光学单元的成像质量最优化的投影曝光装置，特别是考虑到场曲率。

6. 发明授权

EP2598931B1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 有权
公开(公告)号：EP2598931B1
公开(公告)日：2020-12-02
申请号：EP10740596.1
申请日：2010-07-30
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20

7. 发明授权

EP1886190B1 MICROLITHOGRAPHY PROJECTION OBJECTIVE 失效转让
标题翻译：微光刻投影镜头
公开(公告)号：EP1886190B1
公开(公告)日：2012-10-03
申请号：EP06753801.7
申请日：2006-05-23
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： KALLER, Julian , DODOC, Aurelian , FELDMANN, Heiko , KAMENOV, Vladimir , EPPLE, Alexander , GRUNER, Toralf , KRAEHMER, Daniel , PERRIN, Jean-Claude , CONRADI, Olaf , OKON, Thomas
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B17/08 , G03F7/702 , G03F7/70283 , G03F7/70941

8. 发明公开

EP2598931A1 IMAGING OPTICAL SYSTEM AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICAL SYSTEM OF THIS TYPE 有权
标题翻译：光影像系统和投影曝光系统与此类光影像系统微光刻
公开(公告)号：EP2598931A1
公开(公告)日：2013-06-05
申请号：EP10740596.1
申请日：2010-07-30
申请人： Carl Zeiss SMT GmbH
发明人： MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70191 , G02B17/0663 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system (7) has a plurality of mirrors (M1 to M8), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). The imaging optical system (7) has a pupil obscuration. The last mirror (M8) in the beam path of the imaging light (3) between the object field (4) and the image field (8) has a through-opening (18) for the passage of the imaging light (3). A penultimate mirror (M7) of the imaging optical system (7) in the beam path of the imaging light (3) between the object field (4) and the image field (8) has no through-opening for the passage of the imaging light (3). The imaging optical system (7) has precisely eight mirrors (M1 to M8). The result is an imaging optical system with which a handleable combination of small imaging errors, manageable production and a good throughput for the imaging light are achieved.

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