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1. 发明申请

WO2016034435A1 ILLUMINATION OPTICAL ASSEMBLY FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于投影光刻的照明光学组件
公开(公告)号：WO2016034435A1
公开(公告)日：2016-03-10
申请号：PCT/EP2015/069215
申请日：2015-08-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70033 , G03F7/70075 , G03F7/70091 , G03F7/70116
摘要： An illumination optical assembly for projection lithography serves for illuminating an illumination field, in which an object field of a downstream imaging optical assembly is arrangeable, with illumination light of an EUV light source. The illumination optical assembly has a pupil illumination unit, on which the illumination light impinges and which comprises facets for illuminating a pupil (29) in the illumination beam path with the illumination light with a predefined pupil intensity distribution. The pupil illumination unit is embodied such that a plurality of illumination channels of the pupil illumination unit illuminate only a part of the entire object field. This results in an illumination optical assembly in which an excessively high illumination intensity on the facets of the pupil illumination unit is avoided.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学组件用于照亮其中可以配置EUV光源的照明光的下游成像光学组件的物场的照明场。照明光学组件具有瞳孔照明单元，照明光照射在该照明单元上，并且其包括用照明光束路径中的瞳孔（29）照射预定瞳孔强度分布的面。瞳孔照明单元被实现为使得瞳孔照明单元的多个照明通道仅照亮整个物体场的一部分。这导致照明光学组件，其中避免了瞳孔照明单元的小面上的过高的照明强度。

2. 发明申请

WO2015124515A1 ILLUMINATION OPTICAL UNIT FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影光刻照明光学单元
公开(公告)号：WO2015124515A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/053174
申请日：2015-02-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： An illumination optical unit for projection lithography serves for illuminating an object field. Here, a first transmission optical unit serves to guide illumination light emanating from a light source. An illumination-predetermining facet mirror is disposed downstream of the first transmission optical unit and comprises a multiplicity of illumination-predetermining facets. Said facet mirror generates a predetermined illumination of the object field by means of an arrangement of illuminated illumination-predetermining facets. This results in an illumination of an illumination pupil of the illumination optical unit, which predetermines an illumination angle distribution in the object field. The illumination pupil has an envelope deviating from a circular form. The illumination pupil is subdivided into sub-pupil regions (30), which are present arranged in a line-by-line (Z) and/or column-by-column (S) manner. This results in an illumination optical unit with an exit pupil, which is filled as completely as possible, of a projection optical unit, which is disposed downstream thereof, for imaging the object field in an image field.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学单元用于照亮物场。这里，第一透射光学单元用于引导从光源发出的照明光。照明预定面反射镜设置在第一传输光学单元的下游，并且包括多个照明预定面。所述小平面镜通过照明照明预定面的布置产生对象场的预定照明。这导致照明光学单元的照明光瞳的照明，其预先确定对象场中的照明角度分布。照明瞳孔具有偏离圆形的信封。照明光瞳被细分成子光瞳区域（30），它们以逐行（Z）和/或逐列（S）的方式存在。这导致了具有出射光瞳的照明光学单元，该出射光瞳尽可能完全地被填充在投影光学单元的下游，用于在图像场中成像物场。

3. 发明申请

WO2012159968A3 ILLUMINATION OPTICAL UNIT 审中-公开
公开(公告)号：WO2012159968A3
公开(公告)日：2012-11-29
申请号：PCT/EP2012/059173
申请日：2012-05-16
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ENDRES, Martin
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G21K1/06 , G03F7/20
摘要： An illumination optical unit (4) for an EUV projection exposure apparatus has a diaphragm (23) comprising a radiation-transmissive region having a discrete symmetry group. The form of the diaphragm (23) is adapted to the form of the facets of a pupil facet mirror (18) or to the form of the radiation source (3). The diaphragm (23) is preferably arranged in the region of an intermediate focal plane.

4. 发明申请

WO2010149487A2 IMAGING OPTICAL SYSTEM FOR IMAGING AN OBJECT FIELD IN AN IMAGE FIELD AND ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR ILLUMINATING AN OBJECT FIELD 审中-公开
标题翻译：用于在物体场中成像的成像光学系统和用于照射对象场的照明光学系统
公开(公告)号：WO2010149487A2
公开(公告)日：2010-12-29
申请号：PCT/EP2010/057971
申请日：2010-06-08
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , ENDRES, Martin
IPC分类号： G02B17/06
CPC分类号： G02B17/0663 , G02B27/0905 , G03F7/70233
摘要： An imaging optical system has a plurality of mirrors, which image an object field (9) in an object plane (11) into an image field (13) in an image plane (14). A reflection face of at least one of the mirrors is configured as a free form face which cannot be described by a rotationally symmetrical function. The object field has an aspect ratio (x/y), which is greater than 1, a ratio of a minimal and a maximal transverse dimension of the object field being smaller than 0.9. In a further aspect, the object field (9) and/or the image field (13) deviate from a mirror-symmetrical field form. An illumination optical system (10) for illuminating the object field (9) has components guiding illumination light (3) which are designed to illuminate a correspondingly formed object field (9). The result is an imaging optical system, an illumination optical system and a projection exposure system equipped therewith, with which increased demands on the correction of imaging errors are taken into account over the field imaged by the imaging optical system.
摘要翻译：成像光学系统具有多个反射镜，其将物平面（11）中的物场（9）成像为图像平面（14）中的图像场（13）。至少一个反射镜的反射面构成为不能用旋转对称的功能描述的自由表面。对象字段的长宽比（x / y）大于1，对象字段的最小和最大横向维度的比值小于0.9。在另一方面，对象字段（9）和/或图像字段（13）偏离镜像对称字段形式。用于照明物场（9）的照明光学系统（10）具有引导照明光（3）的部件，其被设计成照射相应形成的物体场（9）。结果是成像光学系统，照明光学系统和配备有其的投影曝光系统，在成像光学系统成像的场上考虑对成像误差的校正的增加的需求。

5. 发明申请

WO2022200210A1 MESSVORRICHTUNG ZUM INTERFEROMETRISCHEN VERMESSEN EINER OBERFLÄCHENFORM 审中-公开
公开(公告)号：WO2022200210A1
公开(公告)日：2022-09-29
申请号：PCT/EP2022/057158
申请日：2022-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G01B9/02015 , G01B9/02 , G01B11/24 , G01B21/04
摘要： Eine Messvorrichtung (10) zum interferometrischen Vermessen einer Form einer Oberfläche (12) eines Prüflings (14) in Bezug auf eine Referenzform (41) umfasst ein diffraktives optisches Element (30) zum Erzeugen einer Prüfwelle (32) aus einer Messstrahlung (22), wobei eine Wellenfront (42) der Prüfwelle an eine als erste nicht-sphärische Fläche konfigurierte Sollform (43) der Oberfläche (12) des Prüflings (14) angepasst ist, ein Referenzelement (38) mit einer die Referenzform (41) aufweisenden Referenzoberfläche (40), wobei die Referenzform als eine weitere nicht-sphärische Fläche konfiguriert ist, eine erste Halterung (60), welche dazu konfiguriert ist, in einer Messkonfiguration den Prüfling (14) im Strahlengang der Prüfwelle (32) anzuordnen, sowie eine weitere Halterung (62), welche dazu konfiguriert ist, in der Messkonfiguration das Referenzelement (38) im Strahlengang einer Referenzwelle (34) anzuordnen.

6. 发明申请

WO2019096654A1 PUPILLENFACETTENSPIEGEL, OPTISCHES SYSTEM UND BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR EINE PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
公开(公告)号：WO2019096654A1
公开(公告)日：2019-05-23
申请号：PCT/EP2018/080492
申请日：2018-11-07
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BIELING, Stig , ENDRES, Martin , FISCHER, Thomas
IPC分类号： G02B5/08 , G02B5/09 , G03F7/20
摘要： Bei einer Projektionsbelichtungsanlage (1) mit einer anamorphotisch abbildenden Projektionsoptik (7) mit nicht zugänglicher Eintrittspupille können unterschiedliche Anpassungen des Pupillenfacettenspiegels (14) und/oder dessen Pupillenfacetten (14a) und/oder dessen Abbildung mittels einer Übertragungsoptik (15) vorteilhaft sein.

7. 发明申请

WO2016030248A1 BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONS-LITHOGRAFIE 审中-公开
标题翻译：照明光学系统的EUV投影光刻
公开(公告)号：WO2016030248A1
公开(公告)日：2016-03-03
申请号：PCT/EP2015/069038
申请日：2015-08-19
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： BIELING, Stig , ENDRES, Martin , DEGÜNTHER, Markus , PATRA, Michael , WANGLER, Johannes
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B19/0023 , G02B19/0095 , G03F7/70033 , G03F7/70116 , G03F7/702 , G03F7/70233
摘要： Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie dient zur Be- leuchtung eines Objektfeldes, in welchem ein abzubildendes Objekt anor- denbar ist. Ein erster Facettenspiegel der Beleuchtungsoptik dient zur ab- bildenden Erzeugung sekundärer Lichtquellen (27) als Bilder einer vorge- lagerten Lichtquelle (5a) mit einem typischen Durchmesser (G). Der erste Facettenspiegel hat eine Vielzahl von Einzelspiegeln (21) mit jeweils einer Spiegelfläche, die kleiner ist als 2 mm x 2 mm und einen typischen Durchmesser (F) aufweist. Der erste Facettenspiegel ist von der Lichtquelle (5a) um einen Abstand |g| beabstandet. Die Beleuchtungsoptik hat einen zweiten Facettenspiegel. Die beiden Facettenspiegel sind voneinander um einen Abstand |g| beabstandet. Die Einzelspiegel (21) des ersten Facetten- spiegels haben in einer Einfallsebene (yz) des Beleuchtungslichts auf den Einzelspiegeln (21) des ersten Facettenspiegels eine Brennweite f, für die gilt: [0,1 b'g / (g-b')]
摘要翻译：用于EUV投影光刻的照明光学部件用于加载的物场，其中待成像对象是anor- Denbar的照明。照明光学部件的第一面反射镜被用于离成型生产的二次光源（27），其具有典型的直径（G）叠加光源（5a）的一个上级的图像。具有多个单独反射镜（21）每一个都具有一个反射镜表面其比具有2毫米×2毫米的典型直径（F）越小第一面反射镜。第一面反射镜是从光源（图5a）由距离| G | 间隔。照明光学部件具有第二面反射镜。克|两个面反射镜以一定距离间隔| 间隔。第一面反射镜的各个反射镜（21）具有与照明光的第一面反射镜的各个反射镜（21）具有的焦距设为f，为此它在入射面成立（YZ）：[0,1 B'G /（G-B“） ]

8. 发明申请

WO2015124553A1 VERFAHREN ZUR BELEUCHTUNG EINES OBJEKTFELDES EINER PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE 审中-公开
标题翻译：方法用于照明投射曝光系统的物场
公开(公告)号：WO2015124553A1
公开(公告)日：2015-08-27
申请号：PCT/EP2015/053285
申请日：2015-02-17
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENDRES, Martin , EISENMENGER, Johannes , BIELING, Stig , HAUF, Markus , WISCHMEIER, Lars , ZIMMER, Fabian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/702 , G02B19/0019 , G02B19/0095 , G02B26/0833 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Bei einem Verfahren zur Beleuchtung eines Objektfeldes (5) einer Projektionsbelichtungsanlage (1) ist vorgesehen, eine Teilmenge erster Facetten (68) in Parkpositionen zu positionieren, welche jeweils von einer zugehörigen Zielposition beabstandet sind, jedoch höchstens um einen Maximalabstand d max .
摘要翻译：在用于照明（5）（1）提供了一种投影曝光装置的定位，它们分别从相应的目标位置间隔开的在停车位置上的第一面（68）的一部分的物场的方法，但大多数DMAX通过的最大距离。

9. 发明申请

WO2015039839A1 BELEUCHTUNGSSYSTEM SOWIE BELEUCHTUNGSOPTIK FÜR DIE EUV-PROJEKTIONSLITHOGRAFIE 审中-公开
标题翻译：照明系统和照明光学镜片，用于EUV投影光刻
公开(公告)号：WO2015039839A1
公开(公告)日：2015-03-26
申请号：PCT/EP2014/067958
申请日：2014-08-25
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： ENDRES, Martin
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要： Eine Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithografie dient zur Führung von Beleuchtungslicht hin zu einem Objektfeld. Ein Feldfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik hat eine Vielzahl von zwischen mindestens zwei Kippstellungen schaltbaren Einzelspiegeln. Ein Pupillenfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik hat eine Mehrzahl von stationären Pupillenfacetten und ist dem Feldfacettenspiegel im Strahlengang des Beleuchtungslichts nachgeordnet. Die Pupillenfacetten dienen zur zumindest abschnittsweise überlagernden Abbildung einer Gruppe der Einzelspiegel des Feldfacettenspiegels in das Objektfeld über einen Gruppenspiegel-Ausleuchtungskanal. Zumindest einige der Einzelspiegel sind in einem Wechselabschnitt (36) des Feldfacettenspiegels angeordnet. Die Einzelspiegel innerhalb des Wechselabschnitts (36) sind je nach Einzelspiegel-Kippstellung zu zwei verschiedenen Einzelspiegel-Gruppen (25a, 25b) zuordenbar, die über verschiedene Pupillenfacetten in das Objektfeld abgebildet werden. Der Wechselabschnitt (36) hat senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung (y) eine Erstreckung (x 1/3 ), die, abgebildet auf das Objektfeld, höchstens die Hälfte einer Erstreckung des Objektfeldes senkrecht zur Objektverlagerungsrichtung (y) beträgt. Eine derartige Auslegung des Feldfacettenspiegels kann zur Einhaltung von vorgegebenen Beleuchtungsparametern innerhalb ebenfalls vorgegebener Toleranzbereiche genutzt werden.
摘要翻译：用于EUV投影光刻的照明光学部件用于引导照明光朝向物体领域。照明光学部件的场分面镜具有至少两个倾斜位置个别镜之间的多个可切换的。照明光学部件的光瞳分面镜具有多个固定的光瞳分的，并设置在上述照明光的光束路径中的场分面镜的下游。光瞳面是用来向一组在一组反射镜照明通道在物场的场分面镜的各个反射镜中的至少部分重叠的示图。至少一些单独的反射镜被布置在场面反射镜的切换部（36）。交换部（36）内的各个反射镜被单独反射镜倾斜分类到两个不同的单独反射镜组（25A，25B）可以被分配，其分别对应以上在物场的不同光瞳面。所述变更部（36），（Y）的延伸部（X1 / 3），这是在物场映射，最大的物场的尺寸的一半的垂直于物体运动方向（y）垂直于所述物体的移动方向。场分面镜的这种设计可以用来以符合规定的照明参数内的预定公差范围也。

10. 发明申请

WO2012076454A1 ILLUMINATION OPTICAL SYSTEM FOR PROJECTION LITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：用于投影光刻的照明光学系统
公开(公告)号：WO2012076454A1
公开(公告)日：2012-06-14
申请号：PCT/EP2011/071714
申请日：2011-12-05
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf
发明人： OSSMANN, Jens , ENDRES, Martin , STÜTZLE, Ralf
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70141 , G03F7/70058
摘要： An illumination optical system for projection lithography has an optical assembly for guiding illumination light to an object field (19) to be illuminated in an object plane (17). The illumination optical system divides a bundle of the illumination light into a plurality of part bundles, which are allocated to various illumination directions of the object field illumination. The illumination optical system is configured in such a way that at least some of the part bundles are superimposed on one another in a first superimposition plane (31) according to a first superimposition specification and in a second superimposition plane (16), which is spaced apart from the first superimposition plane (31), according to a second superimposition specification. The result is an illumination optical system, in which an influencing and/or a monitoring of an illumination intensity distribution over the object field is made possible, as far as possible without influencing an illumination angle distribution.
摘要翻译：用于投影光刻的照明光学系统具有用于将照明光引导到在物平面（17）中被照明的物场（19）的光学组件。照明光学系统将一束照明光分成分配给物场照明的各种照明方向的多个部分束。照明光学系统被配置成使得至少一些部分束根据第一叠加指示在第一叠加平面（31）中彼此重叠，并且在第二叠加平面（16）中被间隔开除了第一叠加平面（31）之外，根据第二重叠规格。结果是在不影响照明角度分布的情况下尽可能地使对物场的照明强度分布的影响和/或监视成为可能的照明光学系统。

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