专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

11. 发明专利

TW201809766A 微影照明單元审中-公开
简体标题：微影照明单元
公开(公告)号：TW201809766A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106119467
申请日：2017-06-12
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：狄君特馬庫斯 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G02B6/00 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70075 , G02B6/0015 , G02B6/0068 , G03F7/201 , G03F7/2022 , G03F7/7045
摘要：本發明係關於一種用於在微影製程中的晶圓上光阻之後期曝光的微影照明單元，具有至少一個光源(121、321、421、521)；以及光導與光混合元件(110、310、410、510)，其用於將該光源所產生之電磁輻射耦合到該光阻中，其中這種光導與光混合元件具有一第一對的相互相對側面，其最大間距具有第一值，其中在這些側面上發生該電磁輻射之多次反射，其中該光導與光混合元件具有一第二對的相互相對側面，其最大間距具有第二值，且其中在該電磁輻射之光傳播方向上，該光導與光混合元件之最大範圍具有第三值，其中此第三值大於該第一值並小於該第二值。
简体摘要：本发明系关于一种用于在微影制程中的晶圆上光阻之后期曝光的微影照明单元，具有至少一个光源(121、321、421、521)；以及光导与光混合组件(110、310、410、510)，其用于将该光源所产生之电磁辐射耦合到该光阻中，其中这种光导与光混合组件具有一第一对的相互相对侧面，其最大间距具有第一值，其中在这些侧面上发生该电磁辐射之多次反射，其中该光导与光混合组件具有一第二对的相互相对侧面，其最大间距具有第二值，且其中在该电磁辐射之光传播方向上，该光导与光混合组件之最大范围具有第三值，其中此第三值大于该第一值并小于该第二值。

12. 发明专利

TW201626111A 用以照明一照明場的照明光學單元以及包含此類照明光學單元的投射曝光裝置审中-公开
简体标题：用以照明一照明场的照明光学单元以及包含此类照明光学单元的投射曝光设备
公开(公告)号：TW201626111A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104137851
申请日：2015-11-17
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：狄君特馬庫斯 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116
摘要：一種照明光學單元用以照明一照明場，要被成像之一物體為可配置於其中。照明光學單元包含至少一琢面反射鏡及一偏折反射鏡組合件(5b)於琢面反射鏡上游之一照明光束(22)的光束路徑中。偏折反射鏡組合件(5b)係實施使得其偏折照明光束(22)的一質心射線(Sin,Sout)至少10°。偏折反射鏡組合件(5b)具有至少兩個反射鏡(23,24)用於切線入射。這些每一者反射整體照明光束(22)的一專屬部分光束(25,26)。所揭露為可適用於各種光源組態且花費低的一照明光學單元。
简体摘要：一种照明光学单元用以照明一照明场，要被成像之一物体为可配置于其中。照明光学单元包含至少一琢面反射镜及一偏折反射镜组合件(5b)于琢面反射镜上游之一照明光束(22)的光束路径中。偏折反射镜组合件(5b)系实施使得其偏折照明光束(22)的一质心射线(Sin,Sout)至少10°。偏折反射镜组合件(5b)具有至少两个反射镜(23,24)用于切线入射。这些每一者反射整体照明光束(22)的一专属部分光束(25,26)。所揭露为可适用于各种光源组态且花费低的一照明光学单元。

13. 发明专利

TW201723667A 投影微影之照明光學單元审中-公开
简体标题：投影微影之照明光学单元
公开(公告)号：TW201723667A
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW105129286
申请日：2016-09-09
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：凡高肯拉蒙 , VAN GORKOM, RAMON , 梅坦斯巴斯金馬修斯 , MERTENS, BASTIAAN MATTHIAS , 貝林史汀 , BIELING, STIG , 維舒邁爾拉爾斯 , WISCHMEIER, LARS , 毛爾曼弗瑞德 , MAUL, MANFRED , 安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/09
CPC分类号： G03F7/70116 , G02B5/09 , G03F7/70075 , G03F7/701 , G03F7/702
摘要：一種投影微影之照明光學單元用於照明一物體場(8)，其中待成像之一物體(12)係可沿著一照明光束路徑而配置。一第一琢面反射鏡(6)具有第一琢面(21)，用於反射引導照明光(3)且係配置於一EUV光源之遠場的使用區域中。一第二琢面反射鏡(7)係用於將該第一琢面反射鏡(6)所反射之照明光(3)反射引導至該物體場(8)。該第二琢面反射鏡(7)具有第二琢面(25)，用於分別引導一個照明光部分射束(26)至該物體場(8)中。該第一琢面反射鏡(6)係配置於該照明光學單元的一場平面(6a)中。該第二琢面反射鏡(7)係配置為與該照明光學單元的一場平面(6a)及一光瞳平面(12b)相距一段距離處。這兩個琢面反射鏡(6、7)是相對於彼此而配置為使得至少一部分的照明光部分射束(26)會以無縫連接的反射表面而被引導於該第一琢面反射鏡(6)的第一琢面(21)上。產生了一種不需強制使用MEMS反射鏡作為第一琢面反射鏡之照明光學單元。
简体摘要：一种投影微影之照明光学单元用于照明一物体场(8)，其中待成像之一物体(12)系可沿着一照明光束路径而配置。一第一琢面反射镜(6)具有第一琢面(21)，用于反射引导照明光(3)且系配置于一EUV光源之远场的使用区域中。一第二琢面反射镜(7)系用于将该第一琢面反射镜(6)所反射之照明光(3)反射引导至该物体场(8)。该第二琢面反射镜(7)具有第二琢面(25)，用于分别引导一个照明光部分射束(26)至该物体场(8)中。该第一琢面反射镜(6)系配置于该照明光学单元的一场平面(6a)中。该第二琢面反射镜(7)系配置为与该照明光学单元的一场平面(6a)及一光瞳平面(12b)相距一段距离处。这两个琢面反射镜(6、7)是相对于彼此而配置为使得至少一部分的照明光部分射束(26)会以无缝连接的反射表面而被引导于该第一琢面反射镜(6)的第一琢面(21)上。产生了一种不需强制使用MEMS反射镜作为第一琢面反射镜之照明光学单元。

14. 发明专利

TW201621474A ＥＵＶ投影微影的照明光學單元审中-公开
简体标题：ＥＵＶ投影微影的照明光学单元
公开(公告)号：TW201621474A
公开(公告)日：2016-06-16
申请号：TW104133854
申请日：2015-10-15
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 穆勒勞夫 , 貝林史汀 , BIELING, STIG
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/70716
摘要：本發明提供一種EUV投影微影的照明光學單元，用於以照明光照明物場。即將成像的物件可在物件位移方向(y)上位移且物件可設置於該物場中。傳輸光學單元藉由各均已指配該等場琢面之一和瞳面反射鏡之一個瞳面的照明通道，以疊加於彼此上的方式將場琢面反射鏡之場琢面成像。該疊加光學單元具有設置於該瞳面反射鏡下游用於掠入射的至少兩個反射鏡。用於掠入射的該等反射鏡生成由該物場中該等照明管道組成的照明光整體射束之照明角度頻寬，該頻寬對於平行於該物件位移方向的入射平面(yz)小於對於與其垂直的平面。另外所提出的照明光學單元，藉助其投影光學單元可調整適合用於該照明光的EUV光源之配置。
简体摘要：本发明提供一种EUV投影微影的照明光学单元，用于以照明光照明物场。即将成像的对象可在对象位移方向(y)上位移且对象可设置于该物场中。传输光学单元借由各均已指配该等场琢面之一和瞳面反射镜之一个瞳面的照明信道，以叠加于彼此上的方式将场琢面反射镜之场琢面成像。该叠加光学单元具有设置于该瞳面反射镜下游用于掠入射的至少两个反射镜。用于掠入射的该等反射镜生成由该物场中该等照明管道组成的照明光整体射束之照明角度带宽，该带宽对于平行于该对象位移方向的入射平面(yz)小于对于与其垂直的平面。另外所提出的照明光学单元，借助其投影光学单元可调整适合用于该照明光的EUV光源之配置。

15. 发明专利

TW201312282A 照射光學單元审中-公开
简体标题：照射光学单元
公开(公告)号：TW201312282A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101117146
申请日：2012-05-14
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：斯圖卓勞夫 , STUETZLE, RALF , 貝林史汀 , BIELING, STIG , 史帝可法蘭茲喬瑟夫 , STICKEL, FRANZ-JOSEF
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70116 , G03F7/70075
摘要：本發明揭示一種用於EUV微影的照射光學單元，其包含具有複數個第一反射琢面元件的一第一光學元件。此外，該照射光學單元包含具有複數個第二反射琢面元件(423)的一第二光學元件(421)，其中該複數個第一反射琢面元件包含該第一光學元件之所有該等反射琢面元件的至少75%。在此例中，該複數個第一反射琢面元件的每個第一反射琢面元件被體現為致使在該照射光學單元操作期間，該每個第一反射琢面元件在該複數個第二反射琢面元件之一指派之第二琢面元件的位置處產生一被照射區域。該等第二反射琢面元件(423)各具有一反射表面，及各該被照射區域小於對應之指派之第二反射琢面元件(423)的反射表面。另外，所有該等被照射區域位在最多六個連續成對不相交區帶(459)內。此外，具有最小直徑的一圓圈(457)圍起所有該等區帶(459)，其中該等第一及/或第二反射琢面元件被體現為致使該圓圈(457)之面積容量與該等區帶(459)之面積容量的比率大於2.5，尤其大於4。
简体摘要：本发明揭示一种用于EUV微影的照射光学单元，其包含具有复数个第一反射琢面组件的一第一光学组件。此外，该照射光学单元包含具有复数个第二反射琢面组件(423)的一第二光学组件(421)，其中该复数个第一反射琢面组件包含该第一光学组件之所有该等反射琢面组件的至少75%。在此例中，该复数个第一反射琢面组件的每个第一反射琢面组件被体现为致使在该照射光学单元操作期间，该每个第一反射琢面组件在该复数个第二反射琢面组件之一指派之第二琢面组件的位置处产生一被照射区域。该等第二反射琢面组件(423)各具有一反射表面，及各该被照射区域小于对应之指派之第二反射琢面组件(423)的反射表面。另外，所有该等被照射区域位在最多六个连续成对不相交区带(459)内。此外，具有最小直径的一圆圈(457)围起所有该等区带(459)，其中该等第一及/或第二反射琢面组件被体现为致使该圆圈(457)之面积容量与该等区带(459)之面积容量的比率大于2.5，尤其大于4。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式