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11. 发明专利

JP2013178450A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, and resist film, pattern forming method, method for manufacturing electronic device and electronic device using the composition 有权
标题翻译：丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐蚀膜，图案形成方法，使用该组合物制造电子器件和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2013178450A
公开(公告)日：2013-09-09
申请号：JP2012100181
申请日：2012-04-25
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： YAMAGUCHI SHUHEI , TAKAHASHI HIDETOMO , ITO JUNICHI , YAMAMOTO KEI
IPC分类号： G03F7/039 , C08F20/10 , G03F7/004 , G03F7/038 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F220/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0392 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/20 , G03F7/2041 , G03F7/325
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition that allows formation of a pattern, upon forming a fine pattern, with excellent uniformity in a local pattern dimension and exposure latitude while reducing generation of scum and residual water defects, and to provide a pattern forming method, a resist film, a method for manufacturing an electronic device, and an electronic device using the composition.SOLUTION: The actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition comprises: (A) a resin having a repeating unit expressed by general formula (I); (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a resin having at least one repeating unit (x) in a repeating unit expressed by general formula (II) and a repeating unit expressed by general formula (III), in which the content of the repeating unit (x) is 90 mol% or more with respect to the whole repeating units in the resin (C).
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成图案的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，在形成微细图案时，具有局部图案尺寸和曝光宽容度的优异均匀性，同时减少浮渣和残留水的产生缺点，并提供图案形成方法，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和使用该组合物的电子器件。解决方案：光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物包含：（A）树脂具有由通式（I）表示的重复单元; （B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物; 和（C）具有由通式（II）表示的重复单元中的至少一个重复单元（x）和由通式（III）表示的重复单元的树脂，其中重复单元（x）的含量为相对于树脂（C）中的全部重复单元为90摩尔％以上。

12. 发明专利

JP2013152450A Pattern forming method, actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film, manufacturing method of electronic device, and electronic device 审中-公开
标题翻译：图案形成方法，电泳敏感性或辐射敏感性树脂组合物，电阻膜，电子器件的制造方法和电子器件
公开(公告)号：JP2013152450A
公开(公告)日：2013-08-08
申请号：JP2012279835
申请日：2012-12-21
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ITO JUNICHI , TAKAHASHI HIDETOMO , YAMAGUCHI SHUHEI , YAMAMOTO KEI
IPC分类号： G03F7/038 , C08F20/28 , G03F7/039 , G03F7/32 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0388 , C08F220/18 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/038 , G03F7/0397 , G03F7/11 , G03F7/2041 , G03F7/325 , H01L21/0274
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a pattern forming method that has excellent uniformity and exposure latitude of a local pattern dimension in formation of a fine pattern such as a hole pattern with a pore diameter of 45 nm or smaller and suppresses the occurrence of a water residue defect, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used for the same, a resist film, a manufacturing method of an electronic device, and an electronic device; in particular, a pattern forming method suitable for liquid immersion exposure, an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition used for the same, a resist film, a manufacturing method of an electronic device, and an electronic device.SOLUTION: A pattern forming method includes: (a) a step of forming a film by an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition containing a resin (A) that increases polarity by the action of acid and decreases solubility to a developing solution containing an organic solvent, a compound (B) that generates acid by irradiation with an actinic ray or radiation, a solvent (C), and a resin (D) that is different from the resin (A) and substantially does not contain fluorine atoms and silicon atoms; (b) a step of exposing the film; and (c) a step of developing the film by using a developing liquid containing an organic solvent to form a negative pattern. The content of the resin (D) relative to the total solid content of the actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition is 0.1 mass% or more and less than 10 mass%; and the mass content of a CHpartial structure of a side chain part in the resin (D) accounts for 12.0% or more of the resin (D).
摘要翻译：要解决的问题：提供一种图案形成方法，其在形成孔径为45nm以下的孔图案等精细图案时具有优异的局部图案尺寸的均匀性和曝光宽容度，并抑制水的发生残留缺陷，用于其的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和电子器件; 特别是适用于液浸式的图案形成方法，用于其的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，抗蚀剂膜，电子器件的制造方法和电子器件。解决方案：成型方法包括：（a）通过含有树脂（A）的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物形成膜的步骤，其通过酸的作用增加极性，并降低对含有有机溶剂的显影溶液的溶解性，通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物（B），不同于树脂（A）的溶剂（C）和树脂（D），并且基本上不含氟原子和硅原子; （b）曝光胶片的步骤; 和（c）通过使用含有有机溶剂的显影液形成阴图案来显影该膜的步骤。树脂（D）相对于光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物的总固体成分的含量为0.1质量％以上且小于10质量％树脂（D）中侧链部分的CH部分结构的质量含量占树脂（D）的12.0％以上。

13. 发明专利

JP2013137338A Actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, resist film and pattern forming method using composition, and method for manufacturing electronic device and electronic device 审中-公开
标题翻译：丙烯酸类敏感性或辐射敏感性树脂组合物，耐腐蚀性膜和使用组合物的图案形成方法，以及制造电子器件和电子器件的方法
公开(公告)号：JP2013137338A
公开(公告)日：2013-07-11
申请号：JP2011287025
申请日：2011-12-27
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： FUKUHARA TOSHIAKI , KATAOKA SHOHEI , TANGO NAOHIRO , SHIBUYA AKINORI , ITO JUNICHI , MATSUDA TOMOKI , IWATO KAORU , SUGIYAMA SHINICHI , YOSHITOME MASAHIRO , TOKUGAWA YOKO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/26 , G03F7/004 , H01L21/027
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition, capable of forming a resist film that is excellent in a pattern cross-sectional shape and in suppressing occurrence of pattern collapse and defects attributed to residual water and is never deteriorated in performance of suppressing occurrence of the defects attributed to residual water and obtaining the excellent pattern cross-sectional shape even when the resist film is produced by using a resist solution left to stand for a certain time, to provide a resist film formed by using the composition, a pattern forming method using the composition, and to provide a method for manufacturing an electronic device and an electronic device.SOLUTION: There is provided an actinic ray-sensitive or radiation-sensitive resin composition including: (A) a resin having a repeating unit expressed by general formula (1) and a repeating unit that is decomposed by an action of an acid to generate an alkali-soluble group; (B) a compound that generates an acid by irradiation with actinic rays or radiation; and (C) a resin having at least any of a fluorine atom and a silicon atom. In general formula (1), L represents a single bond or a divalent connecting group, and Z represents a cyclic acid anhydride group.
摘要翻译：要解决的问题：为了提供能够形成图案截面形状优异的抗蚀剂膜并抑制图案塌陷的发生和残留水分的缺陷的光化射线敏感性或辐射敏感性树脂组合物，并且为即使当通过使用静置一定时间的抗蚀剂溶液制造抗蚀剂膜时，也不会降低由残留水引起的缺陷的发生的性能，并获得优异的图案横截面形状，以提供由使用该组合物，使用该组合物的图案形成方法，并提供一种电子器件和电子器件的制造方法。解决方案：提供一种光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）树脂具有由通式（1）表示的重复单元和通过酸的作用分解以产生碱的重复单元流氓小组（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物; 和（C）至少具有氟原子和硅原子的任何一种的树脂。在通式（1）中，L表示单键或二价连接基，Z表示环状酸酐基。

14. 发明专利

JP2013076946A Actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition, and actinic ray sensitive or radiation sensitive film and pattern forming method using the same 有权
标题翻译：化学敏感性或辐射敏感性树脂组合物，以及丙烯酸敏感或辐射敏感性膜和使用其的图案形成方法
公开(公告)号：JP2013076946A
公开(公告)日：2013-04-25
申请号：JP2011218278
申请日：2011-09-30
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KATAOKA SHOHEI , SHIBUYA AKINORI , ITO JUNICHI , MATSUDA TOMOKI , FUKUHARA TOSHIAKI , TANGO NAOHIRO , IWATO KAORU , YOSHITOME MASAHIRO , SUGIYAMA SHINICHI , TOKUGAWA YOKO
IPC分类号： G03F7/039 , C08F220/28
CPC分类号： G03F7/038 , C08F220/28 , G03F7/0045 , G03F7/0046 , G03F7/0397 , G03F7/2041
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition capable of suppressing occurrence of pattern collapse and improving line edge roughness, and to provide an actinic ray sensitive or radiation sensitive film and pattern forming method using the same.SOLUTION: An actinic ray sensitive or radiation sensitive resin composition includes: (A) a resin comprising a repeating unit represented by the following general formula (1) and a repeating unit that is decomposed by action of an acid to generate an alkali-soluble group; and (B) a compound generating an acid by irradiation with an actinic ray or radiation. In the general formula (1), L represents a divalent linking group. Rrepresents a hydrogen atom or an alkyl group, and Z represents a cyclic acid anhydride structure.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够抑制图案塌陷的发生和线边缘粗糙度的光化射线敏感或辐射敏感性树脂组合物，并且提供使用其的光化学敏感或辐射敏感的膜和图案形成方法。光敏射线敏感性树脂组合物包括：（A）包含由以下通式（1）表示的重复单元的树脂和通过酸作用分解产生碱的重复单元可溶组合和（B）通过用光化射线或辐射照射产生酸的化合物。在通式（1）中，L表示二价连接基团。 R 1 表示氢原子或烷基，Z表示环状酸酐结构。版权所有（C）2013，JPO＆INPIT

15. 发明专利

JP2012093694A Colored curable composition, color filter and manufacturing method thereof, solid state image sensor, and liquid-crystal display 有权
标题翻译：彩色可固化组合物，彩色滤光片及其制造方法，固态图像传感器和液晶显示
公开(公告)号：JP2012093694A
公开(公告)日：2012-05-17
申请号：JP2011011898
申请日：2011-01-24
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： KANNA SHINICHI , ODA KAZUYA , FUJIE YOSHIHIKO , ITO JUNICHI , MURAKAMI YOSUKE , SUZUKI SEIICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C09B67/20 , G02B5/20 , G02B5/22 , G03F7/027 , G03F7/029
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition capable of forming a colored cured film with less dependence on developing time in pattern formation and with high light resistance.SOLUTION: A colored curable composition includes at least (A-1) a complex including a compound and a metal atom or a metal compound expressed by the following general formula (I) and (A-2) a phthalocyanine pigment, (B) a dispersant, (C) a polymerizable compound, (D) a photoinitiator, and (E) an organic solvent.
摘要翻译：要解决的问题：提供能够形成着色固化膜的着色固化性组合物，其对图案形成中的显影时间的依赖性低，耐光性高。解决方案：一种着色固化组合物至少包含（A-1）包含化合物和金属原子的复合物或由以下通式（I）和（A-2）表示的金属化合物：酞菁颜料（ B）分散剂，（C）可聚合化合物，（D）光引发剂和（E）有机溶剂。版权所有（C）2012，JPO＆INPIT

16. 发明专利

JP2011174036A Colored curable composition, resist liquid, inkjet ink, color filter, method for producing color filter, solid image element, liquid crystal display, organic el display, image display device, and pigment compound 有权
标题翻译：彩色固化组合物，电阻液体，喷墨墨水，彩色滤光片，生产彩色滤光片的方法，固体图像元件，液晶显示器，有机EL显示器，图像显示装置和颜料化合物
公开(公告)号：JP2011174036A
公开(公告)日：2011-09-08
申请号：JP2010223955
申请日：2010-10-01
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ITO JUNICHI , MIZUKAWA HIROKI , YABUKI YOSHIHARU , KANNA SHINICHI , INABE HARUKI , KANEKO YUJI , GOTO AKIYOSHI
IPC分类号： C09B57/10 , B41J2/01 , B41M5/00 , C07D207/416 , C09B67/20 , C09D11/00 , C09D11/328 , G02B5/20 , G02B5/22 , G02F1/1335 , G03F7/004 , G03F7/027 , H01L27/14 , H01L51/50 , H05B33/12
CPC分类号： C09D11/101 , C09B57/10 , C09B69/109 , C09D11/322 , G03F7/0007 , G03F7/105 , G03F7/40
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition, resist liquid, inkjet ink, color filter, method for producing the color filter, solid image element, liquid crystal display, organic EL display, image display device, and a pigment compound suitable for these products.
SOLUTION: The colored curable composition contains at least one of compounds represented by general formula (1) and tautomers thereof, wherein -L
1 - or -L
2 - substitutes to a dipyrromethene skeleton through R
1 -R
6 or directly.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供一种着色固化性组合物，抗蚀剂液体，喷墨油墨，滤色器，滤色器的制造方法，固体成像元件，液晶显示器，有机EL显示器，图像显示装置和颜料化合物适合这些产品。解决方案：着色固化性组合物含有至少一种由通式（1）表示的化合物及其互变异构体，其中-L - 或-L 2 - 或直接用R SB 1 -R SB 6代替二吡咯亚甲基骨架。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

17. 发明专利

JP2011158654A Colored curable composition, color filter and method of producing the same, and solid-state image sensor 有权
标题翻译：彩色固化组合物，彩色滤光片及其制造方法和固态图像传感器
公开(公告)号：JP2011158654A
公开(公告)日：2011-08-18
申请号：JP2010019378
申请日：2010-01-29
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： ODA KAZUYA , MAKINO MASAOMI , ITO JUNICHI , MIZUKAWA HIROKI , YOSHIKAWA SUSUMU , USHIJIMA KENTA , KANNA SHINICHI , INABE HARUKI
IPC分类号： G03F7/004 , C09B23/00 , C09B67/20 , C09B67/46 , G02B5/20 , G03F7/031
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition which can form a colored cured film excellent in heat resistance.
SOLUTION: The colored curable composition includes a metal complex having a specific pyrromethene structure, a polymerizable compound, a photopolymerization initiator of formula (8), and an organic solvent, wherein R
1' represents a substituent containing an aromatic ring or a hetero aromatic ring; R
1a represents alkyl having a specific substituent; and R
2a represents alkanoyl, alkenoyl, aryloyl or the like.
COPYRIGHT: (C)2011,JPO&INPIT
摘要翻译：解决的问题：提供可形成耐热性优异的着色固化膜的着色固化性组合物。有色固化性组合物包括具有特定的亚甲基吡咯结构的金属络合物，可聚合化合物，式（8）的光聚合引发剂和有机溶剂，其中R 1' 含芳环或杂芳环的取代基; R＆lt; SP＆gt; 1a表示具有特定取代基的烷基; R＆lt; SP＆gt; 2a＆gt;代表烷酰基，烯酰基，芳基等。版权所有（C）2011，JPO＆INPIT

18. 发明专利

JP2010085454A Colored curable composition, color filter and method of producing the same, and pigment 有权
标题翻译：彩色可固化组合物，彩色滤光片及其制造方法和颜料
公开(公告)号：JP2010085454A
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：JP2008251337
申请日：2008-09-29
申请人： Fujifilm Corp , 富士フイルム株式会社
发明人： MIZUKAWA HIROKI , KANNA SHINICHI , ITO JUNICHI
IPC分类号： G03F7/004 , C09B57/10 , C09B67/20 , G02B5/20
摘要： PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a colored curable composition in a color from magenta to violet useful for a color filter and having excellent color purity, a high absorption coefficient and excellent pattern forming property.
SOLUTION: The colored curable composition includes at least one of compounds expressed by general formula (A) or (B) or tautomers thereof.
COPYRIGHT: (C)2010,JPO&INPIT
摘要翻译：要解决的问题：提供可用于滤色器的从品红色到紫色的着色可固化组合物，并且具有优异的色纯度，高吸收系数和优异的图案形成性能。解决方案：着色固化性组合物包括由通式（A）或（B）表示的化合物或其互变异构体中的至少一种。版权所有（C）2010，JPO＆INPIT

19. 发明专利

JP2015038186A 色素多量体の製造方法、および着色組成物の製造方法有权
标题翻译：生产染色剂多组分的方法，以及生产着色组合物的方法
公开(公告)号：JP2015038186A
公开(公告)日：2015-02-26
申请号：JP2014115702
申请日：2014-06-04
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： SAMEJIMA KEN , WATANABE TETSUYA , KANEKO YUJI , ITO JUNICHI , MURO SUKETSUGU , TAGUCHI TAKANORI , ODA KAZUYA
IPC分类号： C09B69/10 , C09B67/20 , G03F7/004
CPC分类号： C09B69/109 , C09B11/12 , C09B11/24 , C09B23/04 , C09B23/06 , C09B47/00 , C09B69/00 , C09B69/103 , C09B69/105 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/105
摘要：【課題】耐熱性に優れた色素多量体の製造方法、その製造方法によって得られた色素多量体を含む着色組成物の提供。【解決手段】ポリマーに対して色素構造を有する化合物を反応させることを含む、色素多量体の製造方法。【選択図】なし
摘要翻译：待解决的问题：提供：具有优异耐热性的染料多聚体的制造方法; 以及含有使用该制造方法得到的染料多聚体的着色组合物。解决方案：制备染料多聚体的方法包括使具有染料结构的化合物与聚合物反应。

20. 发明专利

JP2015031800A 着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置有权
标题翻译：彩色组合物，固化膜，彩色滤光片，生产彩色滤光片的方法，固态图像传感器和图像显示装置
公开(公告)号：JP2015031800A
公开(公告)日：2015-02-16
申请号：JP2013160686
申请日：2013-08-01
申请人：富士フイルム株式会社 , Fujifilm Corp
发明人： MURO SUKETSUGU , ODA KAZUYA , TAGUCHI TAKANORI , WATANABE TETSUYA , KANEKO YUJI , ITO JUNICHI , SAMEJIMA KEN
IPC分类号： G02B5/20 , C08F2/44 , G03F7/004
CPC分类号： G02B5/201 , C09B11/24 , C09B57/10 , C09B67/0064 , C09B69/109 , G02B5/223 , G03F7/0007 , G03F7/027 , G03F7/031 , G03F7/105 , G03F7/16 , G03F7/20 , G03F7/32 , G03F7/36
摘要：【課題】、低酸素濃度下に長期間置いても良好な耐光性を維持できる着色組成物、硬化膜、カラーフィルタ、カラーフィルタの製造方法、固体撮像素子および画像表示装置を提供する。【解決手段】(A)色素多量体と(B)溶剤を含有する着色組成物であって、(A)色素多量体が、カチオン部位を有するキサンテン色素に由来する部分構造とアニオン部位を有し、着色組成物中の含水率が0.01〜3.0質量%である、着色組成物。【選択図】なし
摘要翻译：要解决的问题：提供：即使长时间放置在氧浓度低的环境下也能够保持良好的耐光性的着色组合物; 固化膜; 彩色滤光片; 制造滤色器的方法; 固态图像传感器; 和一种图像显示装置。解决方案：着色组合物包含（A）染料聚合物和（B）溶剂，其中染料聚合物（A）具有衍生自具有阳离子部分的呫吨染料的部分结构，并且还具有阴离子部分，着色组合物中的水分含量为0.01〜3.0质量％。

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