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91. 发明公开

KR1020130102723A 투명 전극 형성용 전도성 잉크 조성물 审中-实审
标题翻译：用于形成透明电极的导电油墨组合物
公开(公告)号：KR1020130102723A
公开(公告)日：2013-09-23
申请号：KR1020120023772
申请日：2012-03-08
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 이성현 , 김성배 , 김경은 , 이준혁
IPC分类号： C09D11/00 , H01B1/22
CPC分类号： C09D11/52 , H01B1/22
摘要： PURPOSE: A conductive ink composition is provided to have excellent electric conductivity and visible ray-transmittance and to have excellent environment resistance. CONSTITUTION: A conductive ink for forming a transparent electrode comprises metal sol including a metal precursor and a solvent; and 0.25-4 parts by weight of a metal nanowire per 1 part by weight of the metal precursor in the metal sol. The metal precursor is at least one inorganic salt selected from nitrate, acetate, acetyl acetonate, silicate, phosphate, and a mixture thereof.
摘要翻译：目的：提供导电性油墨组合物以具有优异的导电性和可见光线透射率，并且具有优异的耐环境性。构成：用于形成透明电极的导电油墨包括包含金属前体和溶剂的金属溶胶; 和相对于金属溶胶中的每1重量份金属前体的金属纳米线为0.25-4重量份。金属前体是选自硝酸盐，乙酸盐，乙酰丙酮酸盐，硅酸盐，磷酸盐及其混合物中的至少一种无机盐。

92. 发明授权

KR101285775B1 레지스트 처리액의 재생방법 및 그 장치 有权
标题翻译：抗蚀剂处理组合物的再生方法及其装置
公开(公告)号：KR101285775B1
公开(公告)日：2013-07-18
申请号：KR1020060011520
申请日：2006-02-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤석일 , 김성배 , 정종현 , 허순범 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/42
摘要： 본 발명은 레지스트 처리액의 재생방법 및 그 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 전자회로 또는 표시소자의 금속배선을 패턴하는 레지스트 피막을 포함하는 기판에서 레지스트를 제거한 후, 레지스트 제거공정에서 배출된 레지스트 함유 처리액을 불균일 광촉매와 접촉하여 레지스트를 제거 및 분해하는 공정을 포함하여, 패턴된 금속막의 상부에 잔류하는 레지스트를 제거할 수 있을 뿐 아니라, 공정 중 발생된 레지스트 함유 처리액으로부터 레지스트 성분의 분해가 가능하고, 이에 따라 고온 휘발에 따른 조성변화 및 약액 피로도가 미세하며, 패턴된 금속막의 부식을 최소화할 수 있는 레지스트 처리액의 재생방법 및 그 장치에 관한 것이다.
오존, 레지스트 처리액의 재생방법, 레지스트 제거, 레지스트 분해, 레지스트 처리액의 재생장치, 불균일 촉매

93. 发明授权

KR101082018B1 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：用于除去（照片）抗蚀剂的组合物
公开(公告)号：KR101082018B1
公开(公告)日：2011-11-10
申请号：KR1020040032112
申请日：2004-05-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 김성배 , 김위용 , 장석창 , 정종현
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/425 , C07D295/027 , C07D295/088
摘要： 본발명의레지스트제거용조성물은레지스트제거력이매우우수하고, 패턴된금속배선의부식을최소화할 수있는장점이있다.

94. 发明公开

KR1020110058307A 입자를 형성하지 않는 전도성 잉크 조성물 및 이의 제조방법 有权
标题翻译：不形成颗粒的导电墨水组合物及其制备
公开(公告)号：KR1020110058307A
公开(公告)日：2011-06-01
申请号：KR1020090115054
申请日：2009-11-26
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 김성배 , 이성현 , 유현석 , 이승혁
IPC分类号： C09D11/52 , C09D5/24 , H01B1/22
CPC分类号： C09D11/52 , C09D5/24 , H01B1/22
摘要： PURPOSE: A conductive ink composition is provided to avoid the coherence of particles since particles are not formed and the injection of separate nano particles due to high metal content. CONSTITUTION: A conductive ink composition comprises: a metal compound obtained by adding a mixture of C10-22 fatty acids and C2-9 fatty acids and ammonia into a metal precursor aqueous solution; an amine compound; and a solvent. A method for preparing the conductive ink composition comprises the steps of: (i) dissolving a metal precursor in water to prepare an aqueous solution; (ii) adding a mixture of C10-22 fatty acids and C2-9 fatty acids and ammonia into a metal precursor aqueous solution to obtain a metal compound; (iii) washing and drying the metal compound; and (iv) dissolving the dried metal compound and the amine compound in a solvent.
摘要翻译：目的：提供导电油墨组合物以避免颗粒的相干性，因为颗粒不形成，并且由于金属含量高而注入分开的纳米颗粒。构成：导电油墨组合物包括：通过将C10-22脂肪酸和C2-9脂肪酸和氨的混合物加入到金属前体水溶液中而获得的金属化合物; 胺化合物; 和溶剂。制备导电油墨组合物的方法包括以下步骤：（i）将金属前体溶解在水中以制备水溶液; （ii）将C10-22脂肪酸和C2-9脂肪酸和氨的混合物加入到金属前体水溶液中以获得金属化合物; （iii）洗涤和干燥金属化合物; 和（iv）将干燥的金属化合物和胺化合物溶解在溶剂中。

95. 发明公开

KR1020070121523A 포토레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：去除光电组合物的组合物
公开(公告)号：KR1020070121523A
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：KR1020070058536
申请日：2007-06-14
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김성배 , 윤석일 , 정종현 , 허순범 , 박희진 , 신성건 , 정세환 , 허현 , 김병욱
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/425 , C11D1/526 , C11D3/044 , C11D3/2068 , C11D7/10 , G03F7/322 , G03F7/422 , G03F7/426
摘要： A composition for removing a photoresist is provided to prevent corrosion of metal wiring while removing a photoresist layer for a metal wiring pattern, and have excellent removability of a photoresist layer. A composition for removing a photoresist comprises (a) 1-20wt% of at least one diamine compound selected from compounds represented by the following formula 1, and (b) the balance of a glycol ether compound. In the formula, each of R and R', independently, is hydrogen or a C1-10 alkyl group, and R" is hydrogen, a C1-10 alkanol, or a C1-10 alkyl group. The composition further comprises at least one polar solvent.
摘要翻译：提供去除光致抗蚀剂的组合物，以防止金属布线的腐蚀，同时去除金属布线图案的光致抗蚀剂层，并且具有优异的光致抗蚀剂层的可除去性。用于除去光致抗蚀剂的组合物包含（a）1-20重量％的至少一种选自下式1表示的化合物的二胺化合物，和（b）二醇醚化合物的余量。在该式中，R 1和R 2各自独立地为氢或C 1-10烷基，R“为氢，C 1-10链烷醇或C 1-10烷基，该组合物还包含至少一个极性溶剂。

96. 发明公开

KR1020050106993A 레지스트 제거용 조성물 有权
标题翻译：用于去除（照片）电阻的组合物
公开(公告)号：KR1020050106993A
公开(公告)日：2005-11-11
申请号：KR1020040032112
申请日：2004-05-07
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 김병욱 , 윤석일 , 김성배 , 김위용 , 장석창 , 정종현
IPC分类号： G03F7/32
CPC分类号： G03F7/425 , C07D295/027 , C07D295/088
摘要： 본 발명은 전자회로 또는 표시소자를 패턴하는 레지스트(resist) 제거용 조성물에 관한 것으로, 아민 및 용제를 포함하는 레지스트 제거용 조성물에 있어서, 상기 아민이 고리형 아민 화합물인 것을 특징으로 하는 레지스트 제거용 조성물을 제공한다.
본 발명의 레지스트 제거용 조성물은 레지스트 제거력이 매우 우수하고, 패턴된 금속배선의 부식을 최소화 할 수 있는 장점이 있다.

97. 发明公开

KR1020050032356A 액정표시장치 세정액 및 세정방법 无效
标题翻译：用于液晶显示的清洁液体和清洁方法
公开(公告)号：KR1020050032356A
公开(公告)日：2005-04-07
申请号：KR1020030068396
申请日：2003-10-01
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤석일 , 김성배 , 장석창
IPC分类号： G03F7/32
摘要： A cleaning liquid and a method for cleaning a liquid crystal display using the same are provided to eliminate an organic residue including a stripper without any corrosion of a metallic wiring and to reduce the cost of chemicals to be additionally used for the prevention any adverse effect caused by reaction of the stripper and water. The cleaning liquid for a liquid crystal display comprises (a) ultrapure water, and (b) carboxylic acid or a derivative thereof. The cleaning liquid has a pH of from 3 to 3.5. In particular, the carboxylic acid or the derivative thereof is preferably formic acid(HCOOH), acetic acid(CH3COOH), propionic acid(CH3CH2COOH) or butyric acid(CH3CH2CH2COOH), and is more preferably acetic acid. The cleaning liquid is generally employed to clean a stripper of the liquid crystal display.
摘要翻译：提供一种清洁液体和使用其的液晶显示器的清洗方法，以消除包括剥离器的有机残留物，而不会有金属布线的任何腐蚀，并降低额外用于预防任何不利影响的化学品的成本通过汽提塔和水的反应。用于液晶显示器的清洁液包括（a）超纯水，和（b）羧酸或其衍生物。清洗液的pH值为3〜3.5。特别地，羧酸或其衍生物优选为甲酸（HCOOH），乙酸（CH 3 COOH），丙酸（CH 3 CH 2 COOH）或丁酸（CH 3 CH 2 CH 2 COOH），更优选为乙酸。清洗液通常用于清洗液晶显示器的汽提器。

98. 发明公开

KR1020050006980A 티에프티 엘시디 제조 공정의 칼라 레지스트 제거용박리액 조성물 有权
标题翻译：剥离色素组合物，用于除去无菌底物，包含无机碱性氢氧化物或氨基氢氧化铵，二甲基氧化物和水
公开(公告)号：KR1020050006980A
公开(公告)日：2005-01-17
申请号：KR1020030046979
申请日：2003-07-10
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤석일 , 김성배
IPC分类号： G03F7/42
摘要： PURPOSE: Provided is a stripping solution composition which removes easily the color resist pattern of an inferior substrate generated during the manufacturing process of the color filter of a TFT-LCD within a short time with minimizing the corrosion of under metal wire to reuse the inferior substrate (a black mask or a glass substrate) and can be rinsed with water without using an organic solvent. CONSTITUTION: The stripping solution composition comprises 1-10 wt% of an inorganic alkali hydroxide or an alkyl ammonium hydroxide; 40-95 wt% of dimethylsulfoxide; and 4-50 wt% of water. Preferably the composition comprises further 0.05-111 parts by weight of at least one kind of compound selected from the group consisting of a water-soluble amine compound, an N-alkyl-2-pyrrolidone, an alkylene glycol ether, an inorganic alkali acetate and an alkanolamine based on 100 parts by weight of the stripping solution composition.
摘要翻译：目的：提供一种剥离溶液组合物，其在短时间内容易地除去在TFT-LCD的滤色器的制造过程中产生的劣质基板的抗蚀剂图案，同时最小化金属丝下方的腐蚀以重新使用下基板（黑色掩模或玻璃基板），并且可以用水冲洗而不使用有机溶剂。构成：剥离溶液组合物包含1-10重量％的无机碱金属氢氧化物或烷基氢氧化铵; 40-95重量％的二甲基亚砜; 和4-50重量％的水。优选地，组合物还包含0.05-111重量份的至少一种选自水溶性胺化合物，N-烷基-2-吡咯烷酮，亚烷基二醇醚，无机碱性乙酸酯和基于100重量份的汽提溶液组合物的链烷醇胺。

99. 发明公开

KR1020040088989A 포토레지스트 박리액용 부식방지제 및 이를 이용한포토레지스트 박리액 조성물 无效
标题翻译：用于使用腐蚀抑制剂的包含C1-C12和甲酰胺苯并咪唑的烷基氯酸钠的光催化降解溶液的腐蚀抑制剂和光催化剂剥离溶液组合物
公开(公告)号：KR1020040088989A
公开(公告)日：2004-10-20
申请号：KR1020040025949
申请日：2004-04-14
申请人： 주식회사 동진쎄미켐
发明人： 윤석일 , 김위용 , 김성배
IPC分类号： G03F7/42
摘要： PURPOSE: A corrosion inhibitor for a photoresist stripping solution and a photoresist stripping solution composition using the corrosion inhibitor are provided, to improve stripping property, to prevent the corrosion on metal wire and to allow the rinsing process using an alcohol-based organic solvent in dual layer wiring process to be omitted for reducing the processing time and the cost. CONSTITUTION: The corrosion inhibitor comprises at least one compound selected from the group consisting of an alkyl gallate of C1-C12 and mercaptomethyl benzimidazole. The photoresist stripping solution composition comprises 100 parts by weight of an aliphatic organic amine and an aprotic or protic polar solvent; and 0.1-10 parts by weight of the corrosion inhibitor. Preferably the composition comprises further at least one corrosion inhibitor selected from the group consisting of a triazole and an organic acid. Preferably the ratio of the aliphatic organic amine and the aprotic or protic polar solvent is 1-80 : 20-99 by weight.
摘要翻译：目的：提供用于光致抗蚀剂剥离溶液的腐蚀抑制剂和使用腐蚀抑制剂的光致抗蚀剂剥离溶液组合物，以改善剥离性能，防止金属丝上的腐蚀，并允许使用醇基有机溶剂进行漂洗为了减少处理时间和成本，省略了层布线处理。构成：腐蚀抑制剂包括至少一种选自C1-C12烷基没食子酸酯和巯基甲基苯并咪唑的化合物。光致抗蚀剂剥离溶液组合物包含100重量份的脂族有机胺和非质子或质子极性溶剂; 和0.1-10重量份的缓蚀剂。优选地，组合物还包含选自三唑和有机酸的至少一种腐蚀抑制剂。优选地，脂族有机胺和非质子或质子极性溶剂的重量比为1-80:20-99。

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