基本信息:
- 专利标题： 모니터링 장치 및 이를 이용한 모니터링 방법
- 专利标题（英）：Monitoring apparatus and monitoring method using the same
- 专利标题（中）：监控装置和使用该装置的监视方法
- 申请号：KR1020110134580 申请日：2011-12-14
- 公开(公告)号：KR1020130067417A 公开(公告)日：2013-06-24
- 发明人： 이형섭 , 이승준
- 申请人： 주성엔지니어링(주)
- 申请人地址： ***, Opo-ro, Opo-eup, Gwangju-si, Gyeonggi-do, (***-***), Republic of Korea
- 专利权人： 주성엔지니어링(주)
- 当前专利权人： 주성엔지니어링(주)
- 当前专利权人地址： ***, Opo-ro, Opo-eup, Gwangju-si, Gyeonggi-do, (***-***), Republic of Korea
- 代理人： 남승희
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; H01L51/50
摘要：
PURPOSE: A monitoring device and a monitoring method using the same are provided to easily analyze residual gas by including an auxiliary chamber on one side of a main chamber. CONSTITUTION: An auxiliary chamber(20) is formed on one side of a main chamber. The auxiliary chamber is selectively connected to the main chamber. A pressure control unit(30) controls the pressure of the main chamber and the auxiliary chamber. A mass spectrograph(40) is connected to the auxiliary chamber. The mass spectrograph analyzes residual gas components in the auxiliary chamber.
摘要（中）：
目的：提供一种监视装置和使用其的监视方法，以通过在主室的一侧包括辅助室来容易地分析残留气体。 构成：辅助室（20）形成在主室的一侧。 辅助室选择性地连接到主室。 压力控制单元（30）控制主室和辅助室的压力。 质谱仪（40）连接到辅助室。 质谱仪分析辅助室中的残留气体成分。
公开/授权文献:
- KR101358865B1 모니터링 장치 및 이를 이용한 모니터링 방법 公开/授权日：2014-02-06
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/66 | .在制造或处理过程中的测试或测量 |