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1. 外观设计

KR3007197120000S 有权
公开(公告)号：KR3007197120000S
公开(公告)日：2013-12-10
申请号：KR3020120015116
申请日：2012-03-30
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 이경국 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 김희진 , 윤영태 , 이승준 , 이준호

2. 发明公开

KR1020130123132A 발광장치 및 그 제조방법 审中-实审
标题翻译：一种发光装置及其制造方法
公开(公告)号：KR1020130123132A
公开(公告)日：2013-11-12
申请号：KR1020120046312
申请日：2012-05-02
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이형섭 , 고광만 , 이승준
IPC分类号： H01L51/52 , H05B33/10
CPC分类号： H01L51/5275 , H01L51/5203 , H05B33/10
摘要： The present invention relates to a light emitting device and a manufacturing method thereof, particularly to the light emitting device for increasing the amount of light emission by refracting emitted light. To achieve such a purpose, the present invention is to provide the light emitting device and the manufacturing method thereof comprising a substrate made of a transparent material; a first electrode arranged on the substrate; a light emitting part arranged on the first electrode and a second electrode arranged on the light emitting part; a lens part that is prepared on the substrate, refracts the light that is emitted from the light emitting part and passes through the substrate, and comprises multiple layers formed on the substrate. The amount of the light emitted from the substrate is dramatically increased by improving the arrangement density of the lens part according to the present invention.
摘要翻译：发明装置及其制造方法技术领域本发明涉及发光装置及其制造方法，特别涉及通过折射发光来增加发光量的发光装置。为了实现这一目的，本发明提供一种发光器件及其制造方法，其包括由透明材料制成的衬底; 布置在所述基板上的第一电极; 布置在第一电极上的发光部分和布置在发光部分上的第二电极; 准备在基板上的透镜部折射从发光部射出的光并通过基板，并且包括在基板上形成的多层。通过提高根据本发明的透镜部件的布置密度，从基板发射的光量大大增加。

3. 外观设计

KR3007110660000S 有权
公开(公告)号：KR3007110660000S
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR3020120043014
申请日：2012-09-06
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 이경국 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 김희진 , 박창균 , 윤영태 , 이승준 , 이준호 , 황철주

4. 外观设计

KR3007010220000S 有权
公开(公告)号：KR3007010220000S
公开(公告)日：2013-07-15
申请号：KR3020110056440
申请日：2011-12-30
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 이경국 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 윤영태 , 이승준 , 이준호

5. 发明授权

KR101924083B1 발광장치 및 그 제조방법 有权
公开(公告)号：KR101924083B1
公开(公告)日：2018-11-30
申请号：KR1020120046312
申请日：2012-05-02
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이형섭 , 고광만 , 이승준
IPC分类号： H01L51/52 , H05B33/10
摘要： 본발명은발광장치및 그제조방법에관한것으로서, 상세하게는출광되는빛을굴절시킴으로써출광량을증대시킬수 있는발광장치에관한것이다. 이러한목적을달성하기위한본 발명은, 빛이투과하는재질로구성되는기판과; 상기기판상에배치되는제1전극과; 상기제1전극상에배치되는발광부와상기발광부상에배치되는제2전극과;상기기판에마련되어상기발광부로부터방출되어상기기판을통과하는빛을굴절시키되, 상기기판상에복수의층으로구성되는렌즈부를포함하는것을특징으로하는발광장치및 그제조방법을제공한다. 이와같은본 발명에의하여렌즈부의배치밀도를제고함으로써, 기판에서출사되는빛의양이종래보다현저하게증가할수 있다.

6. 外观设计

KR3007344030000S 有权
公开(公告)号：KR3007344030000S
公开(公告)日：2014-03-17
申请号：KR3020120043016
申请日：2012-09-06
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 이경국 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 김희진 , 박창균 , 윤영태 , 이승준 , 이준호 , 황철주

7. 发明授权

KR101358865B1 모니터링 장치 및 이를 이용한 모니터링 방법 有权
标题翻译：监控装置及使用其的监控方法
公开(公告)号：KR101358865B1
公开(公告)日：2014-02-06
申请号：KR1020110134580
申请日：2011-12-14
申请人： 주성엔지니어링(주)
发明人： 이형섭 , 이승준
IPC分类号： H01L21/66 , H01L51/50
摘要： 본 발명은 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로 메인 챔버와, 메인 챔버의 일측에 마련된 보조 챔버와, 메인 챔버 및 보조 챔버의 압력을 조절하기 위한 압력 조절부와, 보조 챔버에 연결되어 보조 챔버 내의 잔류 가스를 분석하는 질량 분석기를 포함하는 모니터링 장치 및 방법이 제시된다.

8. 外观设计

KR3007110680000S 有权
公开(公告)号：KR3007110680000S
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR3020120043017
申请日：2012-09-06
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 이경국 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 김희진 , 박창균 , 윤영태 , 이승준 , 이준호 , 황철주

9. 外观设计

KR3007110610000S 有权
公开(公告)号：KR3007110610000S
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR3020120003273
申请日：2012-01-20
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 김희진 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 윤영태 , 이경국 , 이승준 , 이준호 , 황철주

10. 外观设计

KR3007110600000S 有权
公开(公告)号：KR3007110600000S
公开(公告)日：2013-10-08
申请号：KR3020120003926
申请日：2012-01-27
申请人： 주성엔지니어링(주)
设计人： 이준호 , 권창구 , 김정배 , 김헌도 , 윤영태 , 이경국 , 이승준

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