基本信息:
- 专利标题： 모니터링 장치 및 이를 이용한 모니터링 방법
- 专利标题（英）：Monitoring apparatus and monitoring method using the same
- 专利标题（中）：监控装置及使用其的监控方法
- 申请号：KR1020110134580 申请日：2011-12-14
- 公开(公告)号：KR101358865B1 公开(公告)日：2014-02-06
- 发明人： 이형섭 , 이승준
- 申请人： 주성엔지니어링(주)
- 申请人地址： ***, Opo-ro, Opo-eup, Gwangju-si, Gyeonggi-do, (***-***), Republic of Korea
- 专利权人： 주성엔지니어링(주)
- 当前专利权人： 주성엔지니어링(주)
- 当前专利权人地址： ***, Opo-ro, Opo-eup, Gwangju-si, Gyeonggi-do, (***-***), Republic of Korea
- 代理人： 남승희
- 主分类号： H01L21/66
- IPC分类号： H01L21/66 ; H01L51/50
摘要：
본 발명은 모니터링 장치 및 방법에 관한 것으로 메인 챔버와, 메인 챔버의 일측에 마련된 보조 챔버와, 메인 챔버 및 보조 챔버의 압력을 조절하기 위한 압력 조절부와, 보조 챔버에 연결되어 보조 챔버 내의 잔류 가스를 분석하는 질량 분석기를 포함하는 모니터링 장치 및 방법이 제시된다.
摘要（英）：
The invention and the main chamber relates to a monitoring apparatus and method, and a secondary chamber disposed on one side of the main chamber, is connected to the pressure regulating portion, and the auxiliary chamber for regulating the pressure of the main chamber and the auxiliary chamber the residual gas in the auxiliary chamber the monitoring apparatus and method is presented that includes a mass analyzer for analyzing.
公开/授权文献:
- KR1020130067417A 모니터링 장치 및 이를 이용한 모니터링 방법 公开/授权日：2013-06-24
信息查询:
EspacenetIPC结构图谱:
| H | 电学 |
| --H01 | 基本电气元件 |
| ----H01L | 半导体器件；其他类目未包含的电固体器件 |
| ------H01L21/00 | 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备 |
| --------H01L21/66 | .在制造或处理过程中的测试或测量 |