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1. 发明申请

WO2022103467A1 COMPOSITE SOLENOID MAGNETIC LENS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022103467A1
公开(公告)日：2022-05-19
申请号：PCT/US2021/047557
申请日：2021-08-25
申请人： IMATREX, INC.
发明人： RAND, Roy E. , KALSON, Seth Z.
IPC分类号： H01J37/141
摘要： Magnetic lens having two or more distinct and separate, detachable assemblies, at least one of the detachable assemblies having a core about which a solenoid is wound so that the solenoid need not be wound or unwound when the assemblies are attached or de-attached.

2. 发明申请

WO2022003927A1 荷電粒子線装置、及び荷電粒子線装置における撮像条件調整方法审中-公开
公开(公告)号：WO2022003927A1
公开(公告)日：2022-01-06
申请号：PCT/JP2020/026114
申请日：2020-07-03
申请人：株式会社日立ハイテク
发明人：中野　智仁 , 鈴木　誠 , 水原　譲 , 渡邉　亮太
IPC分类号： H01J37/141
摘要：この荷電粒子線装置は、荷電粒子線を発生する荷電粒子線源と、前記荷電粒子線を試料上に集束させるためコイル電流を入力される対物レンズと、前記コイル電流を制御する制御部と、前記対物レンズのヒステリシス特性情報を記憶するヒステリシス特性記憶部と、前記コイル電流に関する履歴情報を記憶する履歴情報記憶部と、前記コイル電流、前記履歴情報、及び前記ヒステリシス特性情報に基づいて、前記対物レンズが発生させている磁場を推定する推定部と、を備え、前記コイル電流の変化量の絶対値が所定の値よりも大きい場合に、前記推定部で推定された磁場に、さらに前記コイル電流及びその変化量に応じた補正値を加算して、前記対物レンズが発生させる磁場を補正する磁場補正部を有する。

3. 发明申请

WO2021122863A1 MULTIPLE CHARGED-PARTICLE BEAM APPARATUS WITH LOW CROSSTALK 审中-公开
公开(公告)号：WO2021122863A1
公开(公告)日：2021-06-24
申请号：PCT/EP2020/086595
申请日：2020-12-17
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： REN, Weiming , GONG, Zizhou , HU, Xuerang , LIU, Xuedong , CHEN, Zhong-wei
IPC分类号： H01J37/28 , H01J37/141 , H01J37/153 , H01J37/244 , H01J37/29 , H01J2237/0435 , H01J2237/0453 , H01J2237/049 , H01J2237/1205 , H01J2237/1501 , H01J2237/151 , H01J2237/1532 , H01J2237/20207 , H01J2237/2446 , H01J2237/2448 , H01J2237/24592 , H01J2237/2806 , H01J2237/2813 , H01J37/1474 , H01J37/20 , H01J37/292 , H01J37/3177
摘要： Systems and methods of forming images of a sample using a multi-beam apparatus are disclosed. The method may include generating a plurality of secondary electron beams from a plurality of probe spots on the sample upon interaction with a plurality of primary electron beams. The method may further include adjusting an orientation of the plurality of primary electron beams interacting with the sample, directing the plurality of secondary electron beams away from the plurality of primary electron beams, compensating astigmatism aberrations of the plurality of directed secondary electron beams, focusing the plurality of directed secondary electron beams onto a focus plane, detecting the plurality of focused secondary electron beams by a charged-particle detector, and positioning a detection plane of the charged-particle detector at or close to the focus plane.

4. 发明申请

WO2020212170A1 CURRENT SOURCE APPARATUS AND METHOD 审中-公开
公开(公告)号：WO2020212170A1
公开(公告)日：2020-10-22
申请号：PCT/EP2020/059558
申请日：2020-04-03
申请人： ASML NETHERLANDS B.V.
发明人： WANG, Yixiang , WANG, Yanqiu , HE, Xiaodong , YE, Guofan
IPC分类号： H01J37/141 , H01J37/24
摘要： Disclosed among other aspects is a power supply such as may be used in a charged particle inspection system. The power supply includes a direct current source such as a programmable linear current source connected to a controlled voltage source where the control signal for the controlled voltage source is derived from a measured voltage drop across the direct current source.

5. 发明申请

WO2019049261A1 電子銃および電子ビーム応用装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019049261A1
公开(公告)日：2019-03-14
申请号：PCT/JP2017/032276
申请日：2017-09-07
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：松永　宗一郎 , 早田　康成 , 片桐　創一 , 榊原　慎 , 川野　源 , 土肥　隆
IPC分类号： H01J37/06 , H01J37/141 , H01J37/244 , H01J37/248 , H01J37/28 , H01J37/295
摘要：試料に照射するプローブ電流を大きくしても、試料上に収束するビームのスポット径を小さく維持できる電子銃を実現するため、電子源(101)と、電子源(101)から電子を引き出す引出電極(102)と、電子源(101)から引き出された電子を加速させる加速電極(103)と、加速電極(103)から放出される電子ビームを収束させる制御レンズを形成する第１コイル(104)及び電子源側に開口を有する第１磁路(201)を有する電子銃に対して、電子源(101)の設置位置において第１コイル(104)及び第１磁路(201)により発生される磁場を打ち消すための磁場発生源(301)を設ける。

6. 发明申请

WO2019043946A1 荷電粒子線装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019043946A1
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：PCT/JP2017/031789
申请日：2017-09-04
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：平野　遼 , 野間口　恒典 , 神谷　知里 , 片根　純一
IPC分类号： H01J37/141 , H01J37/28 , H01J37/317
摘要：本発明は、ＳＥＭ観察を実施したときの残留磁場の作用を効率的に減少させることができる荷電粒子線装置を提供するものである。本発明に係る荷電粒子線装置は、第１コイルをオフにした後に第２コイルに直流電流を流す第１モードと、前記第１コイルをオフにした後に前記第２コイルに交流電流を流す第２モードとの少なくともいずれかを実施する（図５参照）。

7. 发明申请

WO2019043759A1 多極子レンズ及びそれを用いた収差補正器、荷電粒子線装置审中-公开
公开(公告)号：WO2019043759A1
公开(公告)日：2019-03-07
申请号：PCT/JP2017/030744
申请日：2017-08-28
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：中野　朝則
IPC分类号： H01J37/153 , H01J37/141
CPC分类号： H01J37/141 , H01J37/153
摘要：巻線型の収差補正器において、収差補正器の動作に必要な電源の安定度が下げられる。これにより従来よりも安価な電源が使用可能となり装置コストが低減できる。収差補正器を構成する多極子レンズは、光軸１００に対して同一平面上に軸対称に配置される１対の電流線１０１～１１２を複数有し、電流線は、光軸に対して平行に配置される主線部１０３と、主線部に対向して配置される戻り線部１１６とを有し、戻り線部に流れる電流の向きは、光軸に平行な成分では主線部に流れる電流の向きと逆方向であり、光軸と戻り線部との距離Ｒ 2 は、光軸と主線部との距離Ｒ 1 よりも大きく設定され、励起する多極子場において電流線に電流を供給する電源の電源安定性起因ノイズが所定レベル以下となるように設定される。

8. 发明申请

WO2018189850A1 電子顕微鏡审中-公开
公开(公告)号：WO2018189850A1
公开(公告)日：2018-10-18
申请号：PCT/JP2017/015072
申请日：2017-04-13
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ
发明人：長沖　功 , 田村　圭司 , 藤井　孝史 , 小林　隆幸 , 影山　甲子男 , 和田　勉 , 三瀬　大海 , 広田　暁哉 , 稲田　宏 , 上ノ内　拓
IPC分类号： H01J37/141 , H01J37/22 , H01J37/26
CPC分类号： H01J37/141 , H01J37/22 , H01J37/26
摘要：従来は、試料全体を見る場合は、対物レンズ電流を通常使用する電流値の1/6程度に下げて試料近傍に磁場を小さくして50倍を実現していた。このため、通常使用する観察倍率にすると電流が増加して試料ドリフトが発生する要因となっていた。　上記課題を解決するため、試料に電子線を照射する電子源と、電子線の照射により試料から発生する電子を検出する検出器を備えた電子顕微鏡において、試料の上下に上対物レンズコイルおよび下対物レンズコイルを備え、上対物レンズコイルと下対物レンズコイルの極性は反転していることを特徴とする電子顕微鏡を提供する。

9. 发明申请

WO2013015311A1 電磁レンズおよび荷電粒子装置审中-公开
标题翻译：电磁镜和充电颗粒装置
公开(公告)号：WO2013015311A1
公开(公告)日：2013-01-31
申请号：PCT/JP2012/068818
申请日：2012-07-25
申请人：株式会社日立ハイテクノロジーズ , 大西崇
发明人：大西　崇
IPC分类号： H01J37/141
CPC分类号： H01J37/141
摘要：　電磁レンズが発生する磁場の安定性を向上させることを課題とする。　本発明の電磁レンズ（１）は、電子線の経路（５）の周囲に巻線が巻回されているコイル（１２）、コイル（１３ａ）およびコイル（１３ｂ）と、磁路を形成する強磁性体（１１）と、各々のコイル（１２，１３ａ，１３ｂ）に電流を流す電流源装置（２，３）と、コイル（１３ａ）およびコイル（１３ｂ）に、互いに逆向き、かつ、同じ電流量の電流を流し、コイル（１２，１３ａ，１３ｂ）における合計発熱量をＰとし、コイル（１２）に流れる電流量をＩ１とし、抵抗値をＲ１とし、コイル（１３ａ，１３ｂ）に流れる電流量をＩ２とし、合成抵抗値をＲ２としたとき、コイル（１３ａ，１３ｂ）に流れる電流量Ｉ２を、Ｉ２＝｛（Ｐ－Ｉ１２Ｒ１）／Ｒ２｝１／２に従った量となるよう制御する制御装置（４）と、を有することを特徴とする。
摘要翻译：本发明解决了提高由磁性透镜产生的磁场的稳定性的问题。该磁性透镜（1）的特征在于具有线（12,13a，13b），线圈缠绕在电子束的路径（5）的周边，形成磁路的铁磁体（11）用于向线圈（12,13a，13b）输送电流的电流供给装置（2,3）以及控制器（4）。控制器（4）进行控制使得以相互相反的方向流动的相同量的电流被传送到线圈（13a，13b），并且流到线圈（13a，13b）的电流I2的量是I2 = {（P-I1 2R1）/ R2} 1/2，其中P是在线圈（12,13a，13b）中产生的总热量，I1是流向线圈的电流量（12）中，R1是电阻，I2是流向线圈（13a，13b）的电流量，R2是组合电阻。

10. 发明申请

WO2012057166A1 電子レンズおよび電子ビーム装置审中-公开
标题翻译：电子镜头和电子束装置
公开(公告)号：WO2012057166A1
公开(公告)日：2012-05-03
申请号：PCT/JP2011/074588
申请日：2011-10-25
申请人：株式会社PARAM , 安田洋
发明人：安田　洋
IPC分类号： H01J37/143 , H01J37/141 , H01J37/305 , H01L21/027
CPC分类号： H01J3/24 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , H01J3/20 , H01J37/143 , H01J37/3007 , H01J37/3174 , H01J37/3177 , H01J2237/002 , H01J2237/1405
摘要：永久磁石を用い、微細なパターンを効率的に描画する。Ｚ軸を中心軸とした円筒型強磁性体からなる外側円筒（２０１）と、前記外側円筒の内側に配置された、Ｚ軸方向に着磁された円筒型永久磁石（２０２）と、前記円筒型永久磁石の内側に、前記円筒型永久磁石と間隙をおいて配置され、前記円筒型永久磁石によるＺ軸方向の磁界強度を調整する補正用コイル（２０４）と、前記円筒型永久磁石と、前記補正用コイルとの間隙に配置され、内部に冷媒が流通されて、前記円筒型永久磁石の温度変化を抑制する冷媒流路（２０３）と、を有する。
摘要翻译：使用永久磁铁有效地画出精细图案。提供有：以从Z轴为中心的圆柱形磁体形成的外筒（201）设置在所述外筒内并在Z轴方向上被磁化的圆柱形永磁体（202）校正线圈（204），其设置在所述圆筒形永磁体的内侧的所述圆筒形永久磁铁内的空间内，并调整所述圆筒形永久磁铁的Z轴方向的磁场强度; 并且设置在圆筒形永磁体和校正线圈之间的空间中的制冷剂流路203具有制冷剂流入内部，并且抑制圆筒形永磁体的温度变化。

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