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    • 10. 发明申请
    • 基板処理方法、コンピュータ記憶媒体及び基板処理システム
    • 基板处理方法,计算机存储介质和基板处理系统
    • WO2016140031A1
    • 2016-09-09
    • PCT/JP2016/053988
    • 2016-02-10
    • 東京エレクトロン株式会社
    • 村松 誠冨田 忠利源島 久志楊 元北野 高広西 孝典
    • H01L21/027B82Y40/00C08F297/00
    • B81C1/00031B81C1/00428B81C2201/0149B82Y40/00C08F297/00H01L21/0271H01L21/0337H01L21/67178H01L21/67742
    •  親水性ポリマー(411)と疎水性ポリマー(412)とを含むブロック共重合体を用いた基板処理方法はポリマー分離工程を有し、ブロック共重合体における親水性ポリマーの分子量の比率は、ポリマー分離工程後に親水性ポリマー(411)が平面視において六方最密構造に対応する位置に配列するように20%~40%に調整され、ポリマー分離工程においては、疎水性の塗布膜による円形状の各パターン(404)上に円柱状の第1の親水性ポリマー(411a)をそれぞれ相分離させ、各第1の親水性ポリマー(411a)の間に、円柱状の第2の親水性ポリマー(411b)を相分離させて、第1の親水性ポリマー(411a)と第2の親水性ポリマー(411b)が平面視において六方最密構造に対応する位置に配列するように、円形状のパターン(404)の直径が定められている。
    • 使用包含亲水性聚合物(411)和疏水性聚合物(412)的嵌段共聚物的基板处理方法具有聚合物分离工序; 将嵌段共聚物中的亲水性聚合物的分子量的比例调整为20-40%,使得亲水性聚合物(411)在聚合物分离步骤之后的平面图中排列在对应于六方密堆积结构的位置 ; 并且在聚合物分离步骤期间基于疏水性涂膜在圆形图案(404)上的柱状第一亲水性聚合物(411a)彼此分离,柱状第二亲水性聚合物(411b)在相间分离 确定第一亲水性聚合物(411a)和圆形图案(404)的直径,使得第一亲水性聚合物(411a)和第二亲水性聚合物(411b)布置在与六方密堆积结构相对应的位置 在平面图。