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    • 4. 发明申请
    • 感放射線性樹脂組成物及び新規化合物
    • 辐射敏感性树脂组合物和新型化合物
    • WO2011048919A1
    • 2011-04-28
    • PCT/JP2010/067001
    • 2010-09-29
    • JSR株式会社丸山 研
    • 丸山 研
    • C08K5/36C07C309/06C07C381/12C08K5/42C09K3/00G03F7/004G03F7/039H01L21/027
    • C07C381/12C07C309/06C07C2601/14C07C2602/42C07C2603/24C07D333/46C07D333/76C07D333/78C07D335/02C08K5/36C08K5/42G03F7/0045G03F7/0046G03F7/0397G03F7/2041
    •  本発明の目的は、KrFエキシマレーザー、ArFエキシマレーザー等の(極)遠紫外線、シンクロトロン放射線等のX線、電子線に有効に感応し、ナノエッジラフネスが良好であると共に、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能なレジスト膜を成膜することができる感放射線性樹脂組成物等を提供することである。本感放射線性樹脂組成物は、下式(1-1)で表される酸発生剤と、他の特定の化合物と、溶剤と、を含有する。(1-1)〔式中、M + は下式(2)で表されるスルホニウムカチオンを示す。nは2~10の整数を示す。〕(2)〔式中、R 1 ~R 3 は、相互に独立に、置換若しくは非置換のアルキル基、又は置換若しくは非置換のアリール基を示すか、或いは、R 1 ~R 3 のうちのいずれか2つ以上が相互に結合して式中の硫黄原子と共に環を形成する。〕
    • 公开了一种能够有效地响应(极远)远紫外线的辐射敏感性树脂组合物,例如KrF准分子激光和ArF准分子激光,X射线如同步加速器辐射束和电子束,以形成抗蚀膜 其具有良好的纳米尺度粗糙度,并且可以以高精度稳定地形成精细图案; 和别的。 辐射敏感性树脂组合物包含由式(1-1)表示的酸产生剂,另一种特定化合物和溶剂。 [式(1-1)中,M +表示式(2)表示的锍阳离子。 n表示2〜10的整数。〕[式(2)中,R 1〜R 3分别独立地表示取代或未取代的烷基或取代或未取代的芳基,或者R 1〜 另外与式中所含的硫原子一起形成环。]