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1. 发明申请

WO2009020035A1 感放射線性組成物及び化合物审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物和化合物
公开(公告)号：WO2009020035A1
公开(公告)日：2009-02-12
申请号：PCT/JP2008/063738
申请日：2008-07-31
申请人： JSR株式会社 , 清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
发明人：清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
IPC分类号： C07C39/17 , C07C69/96 , G03F7/004 , G03F7/039
CPC分类号： C07C39/17 , C07C69/96 , G03F7/0392
摘要：　本発明は、次の感放射線性組成物を提供する。（ａ）下記一般式（１）で表される化合物と、（ｂ）放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤とを含有する感放射線性組成物。（Ｒは水素等、Ｒ１はメチレン基等、Ｙはアルキル基等、ｑは０または１である。）
摘要翻译：公开了一种辐射敏感性组合物，其含有（a）下述通式（1）表示的化合物和（b）辐射敏感的产生酸的辐射敏感性酸产生剂。（1）（式中，R表示氢等，R 1表示亚甲基等，Y表示烷基等，q表示0或1.）

2. 发明申请

WO2009022540A1 化合物及び感放射線性組成物审中-公开
标题翻译：化合物和辐射敏感组合物
公开(公告)号：WO2009022540A1
公开(公告)日：2009-02-19
申请号：PCT/JP2008/063653
申请日：2008-07-30
申请人： JSR株式会社 , 清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
发明人：清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
IPC分类号： C07C69/736 , C07C69/96 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07C69/736 , C07C43/23 , C07C2603/92 , G03F7/0392
摘要：　下記一般式（１）で表される化合物。
摘要翻译：公开了由以下通式（1）表示的化合物。

3. 发明申请

WO2009025335A1 感放射線性組成物及び化合物审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物和化合物
公开(公告)号：WO2009025335A1
公开(公告)日：2009-02-26
申请号：PCT/JP2008/064948
申请日：2008-08-21
申请人： JSR株式会社 , 清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
发明人：清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
IPC分类号： C07C69/96 , C07C39/17 , C07C69/734 , G03F7/039
CPC分类号： C07C39/17 , C07C69/00 , C07C2603/74 , C07C2603/92 , G03F7/0392
摘要：　下記一般式（１）で表される化合物を提供する。（前記一般式（１）において、Ｒは水素原子等、Ｙはアルキル基等、ｑは０または１、ｎは０以上の整数である。）
摘要翻译：公开了由以下通式（1）表示的化合物。（通式（1）中，R表示氢原子等，Y表示烷基等; q表示0或1，n表示不小于0的整数）。

4. 发明申请

WO2007094436A1 酸解離性基含有化合物及び感放射線性組成物审中-公开
标题翻译：含酸分子的化合物和辐射敏感性组合物
公开(公告)号：WO2007094436A1
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/JP2007/052784
申请日：2007-02-15
申请人： JSR株式会社 , 清水大輔 , 甲斐敏之 , 松村信司 , 丸山研
发明人：清水大輔 , 甲斐敏之 , 松村信司 , 丸山研
IPC分类号： C07C43/23 , C07C69/734 , C07C69/96 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07C43/23 , C07C69/734 , C07C69/96 , G03F7/0392 , G03F7/0397
摘要：　電子線または極紫外線に有効に感応し、ラフネス、エッチング耐性、感度に優れ、微細パターンを高精度に、かつ、安定して形成することが可能なレジスト膜を得ることができるものであり、（ａ）２～５個の水酸基を有し、２～５個の芳香環を有するとともに、ゲルパーミエーションクロマトグラフィ（ＧＰＣ）を用いて測定した標準ポリスチレン換算の重量平均分子量が２９０～６００である前駆体化合物の前記水酸基の少なくとも一つを酸解離性基に置換した、レジスト膜の形成に用いられる酸解離性基含有化合物と、（ｂ）放射線が照射されることにより酸を発生する感放射線性酸発生剤と、を含有する感放射線性組成物。
摘要翻译：本发明提供一种可形成对电子束或极紫外光有效敏感的抗蚀剂膜的辐射敏感性组合物，其粗糙度，耐蚀刻性和灵敏度优异，可以以高精度和稳定的方式形成精细图案。辐射敏感性组合物包含（a）用于抗蚀剂膜形成的酸解离基团的化合物，其通过用酸解离基团取代含有2-5个羟基的前体化合物中的至少一个羟基基团和2至5个芳环，并且通过使用聚苯乙烯标准品的凝胶渗透色谱法（GPC）测量的重均分子量为290至600，和（b）辐射照射时产生酸的辐射敏感酸产生剂。

5. 发明申请

WO2009110388A1 感放射線性組成物及び重合体並びに単量体审中-公开
标题翻译：辐射敏感组合物，聚合物和单体
公开(公告)号：WO2009110388A1
公开(公告)日：2009-09-11
申请号：PCT/JP2009/053735
申请日：2009-02-27
申请人： JSR株式会社 , 丸山研 , 清水大輔
发明人：丸山研 , 清水大輔
IPC分类号： C08F20/26 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F8/12 , C08F12/22 , C08F220/28 , C08F212/14 , C08F2220/1891 , C08F2220/283 , C08F220/18
摘要：　本発明の目的は、活性光線又は放射線に有効に感応し、ナノエッジラフネス及び感度に優れ、微細パターンを高精度に且つ安定して形成可能な化学増幅型ポジ型レジスト膜を成膜することができる感放射線性組成物等を提供することである。本発明の組成物は、アルカリ不溶性又は難溶性であり、且つ酸の作用によりアルカリ易溶性となる酸解離性基含有重合体（Ａ）と、酸発生剤（Ｂ）とを含むものであって、重合体（Ａ）として、式（１）の繰り返し単位を含み、且つＧＰＣで測定した重量平均分子量が３０００～１０００００の重合体を含む。〔Ｒ１は水素原子又はメチル基、Ｒ２は置換若しくは非置換の炭素数１～２０の直鎖状若しくは分岐状の１価のアルキル基、炭素数３～２５の脂環式基又は炭素数６～２２のアリール基、Ｘは置換若しくは非置換のメチレン基又は炭素数２～２５の置換若しくは非置換の直鎖状、分岐状若しくは脂環式の炭化水素基。〕
摘要翻译：公开了一种辐射敏感性组合物，其能够形成对活性光或辐射有效敏感的化学放大正性抗蚀剂膜，并且能够以高精度稳定地形成精细图案，同时具有优异的纳米边缘粗糙度和高灵敏度。具体公开的是含有可酸分解性基团的聚合物（A）的组合物，该聚合物（A）是碱不溶性或碱溶性差，但通过酸作用而变得容易碱溶性的酸产生剂（B）。该组合物含有作为聚合物（A）的含有由式（1）表示的重复单元并且通过GPC测定的重均分子量为3,000-100,000的聚合物。（1）[式中，R 1表示氢原子或甲基， R2表示具有1-20个碳原子的取代或未取代的直链或支链一价烷基，具有3-25个碳原子的脂环族基团或具有6-22个碳原子的芳基; X表示取代或未取代的亚甲基或具有2-25个碳原子的取代或未取代的直链，支链或脂环族烃基。

6. 发明申请

WO2009016984A1 化合物及びその製造方法审中-公开
标题翻译：化合物及其制造方法
公开(公告)号：WO2009016984A1
公开(公告)日：2009-02-05
申请号：PCT/JP2008/063069
申请日：2008-07-18
申请人： JSR株式会社 , 丸山研 , 清水大輔 , 西村幸生 , 甲斐敏之 , 下川努
发明人：丸山研 , 清水大輔 , 西村幸生 , 甲斐敏之 , 下川努
IPC分类号： C07C35/22 , C07C29/20 , C07C37/20 , C07C39/12 , C08G61/00 , G03F7/039
CPC分类号： C07C37/20 , C07C35/44 , C07C39/17 , C07C2603/92 , C08L61/12 , G03F7/0397
摘要：　高精度にかつ安定して微細パターンを形成可能なレジスト膜を形成できることに加え、塗布性に優れた感放射線性組成物の材料である化合物であり、一般式（１）で表される化合物及び一般式（２）で表される化合物を縮合反応させ、水素添加して得られる化合物。
摘要翻译：公开了作为能够形成能够以高精度稳定地形成精细图案的抗蚀剂膜的具有优异涂布性的辐射敏感性组合物的化合物。具体公开的是通过使下述通式（1）表示的化合物和下述通式（2）表示的化合物进行缩合反应而进行氢化而得到的化合物。

7. 发明申请

WO2008084786A1 化合物及び感放射線性組成物审中-公开
标题翻译：化合物和辐射敏感组合物
公开(公告)号：WO2008084786A1
公开(公告)日：2008-07-17
申请号：PCT/JP2008/050083
申请日：2008-01-08
申请人： JSR株式会社 , 清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
发明人：清水大輔 , 丸山研 , 甲斐敏之 , 下川努
IPC分类号： C07C43/23 , C07C39/17 , C07C69/712 , G03F7/004 , G03F7/039 , H01L21/027
CPC分类号： C07C39/17 , C07C43/23 , C07C69/712 , G03F7/004 , G03F7/0392 , Y10S430/115 , Y10S430/12 , Y10S430/122
摘要：　電子線等に有効に感応し、低ラフネス等に優れ、微細パターンを高精度かつ安定して形成可能なレジスト膜を成膜できる感放射線性組成物の材料である化合物であり、下記一般式（１）で表される化合物。
摘要翻译：公开了以下通式（1）表示的化合物，其为能够形成对电子束等有效敏感的抗蚀剂膜的放射线敏感性组合物的原料，并且具有优异的低粗糙度等同时能够以高精度稳定地形成精细图案。

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