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    • 4. 发明申请
    • SPUTTER TARGETS AND METHODS OF MAKING SAME
    • 飞秒瞄准器及其制作方法
    • WO99019102A1
    • 1999-04-22
    • PCT/US1998/021852
    • 1998-10-14
    • B22F3/15B22F9/08C22C29/18C23C14/34B22F3/16C22C29/00
    • B22F9/082B22F3/15C22C29/18C23C14/3414
    • Refractory metal/Si sputter targets and methods of preparing such targets are disclosed. The targets are made via atomization techniques wherein an inert gas stream impinges upon the requisite molten metals to form powder particles. The particles are pressure consolidated into the near net shape desired for a given target configuration. Ti/Si targets are preferred and are characterized by having low oxygen content on the order of about 50-1,000 ppm with an oxygen content of about 100-1,000 ppm being more preferred. These targets also have a grain size distribution wherein substantially all of the grains are less than 20 mu m in size. Sputtering of such targets minimizes the amount of harmful particulates formed on the sputter coated substrates.
    • 公开了耐火金属/ Si溅射靶及其制备方法。 目标通过雾化技术制造,其中惰性气流冲击所需的熔融金属以形成粉末颗粒。 颗粒被压力固化成给定目标构型所需的近净形状。 Ti / Si靶是优选的,其特征在于具有约50-1,000ppm量级的低氧含量,更优选氧含量为约100-1,000ppm。 这些靶也具有粒度分布,其中基本上所有的颗粒的尺寸都小于20μm。 这种靶材的溅射使溅射涂覆的基材上形成的有害微粒的量最小化。
    • 5. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINER MISCHUNG VON NANOPARTIKELN UND KÖRPER DARAUS
    • 方法制备纳米颗粒和身体它们的混合物
    • WO2016150545A1
    • 2016-09-29
    • PCT/EP2016/000347
    • 2016-02-29
    • UNIVERSITÄT DUISBURG-ESSEN
    • SCHIERNING, GabiSTÖTZEL, JuliaSCHMECHEL, RolandSCHNEIDER, TomPETERMANN, NilsSCHULZ, ChristofWIGGERS, Hartmut
    • C04B35/58C22C1/10C22C29/18C22C32/00C01B33/029C01B33/06
    • C04B35/58085C01B33/029C01B33/06C04B35/58092C04B2235/3891C04B2235/428C04B2235/785
    • Die Erfindung betrifft einen Körper, insbesondere eines thermoelektrischen Elementes, umfassend eine gesinterte Mischung aus Nanopartikeln wenigstens eines Halbleiterelementes oder einer Halbleiterlegierung, insbesondere von Silizium oder Germanium oder deren Legierung, insbesondere jeweils dotiert und Nanopartikeln von wenigstens einem Metall-Silizid, insbesondere einem Silizid von Wolfram oder Molybdän oder Eisen. Die Erfindung betrifft auch ein Verfahren zur Herstellung einer Mischung von Nanopartikeln (5, 6), insbesondere mit einer Größe kleiner als 500 nm, insbesondere als Rohstoffmischung zum Sintern eines Sinterkörpers, bei dem in einer Gasphase eine Mischung von gasförmigen Prekursoren erzeugt wird, wobei die Prekursoren wenigstens eine gasförmige Halbleiterverbindung und wenigstens eine gasförmige Metallverbindung umfassen und in der Gasphase eine die Nanopartikel (5, 6) der Mischung erzeugende Reaktion der gemischten Prekursoren initiiert wird und unmittelbar die Mischung der Nanopartikel (5, 6) aus der Gasphase abgeschieden wird. Weiterhin betrifft die Erfindung eine Düsenanordnung zur Erzeugung einer Mischung von Nanopartikeln.
    • 本发明涉及一种身体,特别是在每种情况下包含至少一个半导体元件或半导体合金的纳米颗粒的烧结混合物,特别是硅或锗或它们的合金,特别是热电元件掺杂的至少一种金属硅化物的纳米颗粒,在钨的特定的硅化物 或钼或铁。 本发明还涉及一种用于制备纳米颗粒的(5 6)的混合物中,特别是与一个尺寸小于500nm,特别是作为原料共混物的烧结体的烧结,在其产生的气态前体的混合物在气相中, 前体包括至少一种气态化合物半导体以及至少一种气态金属化合物和纳米粒子(5,6)形成混合前体的混合物反应是在发起的气相和立即的纳米颗粒的混合物(5,6)被从气相沉积。 此外,本发明涉及一种喷嘴组件以产生纳米颗粒的混合物。