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    • 7. 发明申请
    • RADIATION SOURCES AND RADIATION SCANNING SYSTEMS WITH IMPROVED UNIFORMITY OF RADIATION INTENSITY
    • 具有辐射强度均匀性的辐射源和辐射扫描系统
    • WO2004097337A1
    • 2004-11-11
    • PCT/US2004/012511
    • 2004-04-23
    • VARIAN MEDICAL SYSTEMS TECHNOLOGIES, INC.BJORKHOLM, PaulCLAYTON, James, E.
    • BJORKHOLM, PaulCLAYTON, James, E.
    • G01B15/06
    • H01J35/24G21K1/093H01J35/14
    • A radiation source is disclosed comprising a source of charged particles that travel along a path. Target material lies along the path to generate radiation upon impact by the beam. A magnet is provided to deflect the beam prior to impacting the target. The magnet may generate a time-varying magnetic field or a constant magnetic field. A constant magnetic field may be varied spatially across the beam. The magnet may be an electromagnet or a permanent magnet. In one example, deflection of the beam results in impact of the beam on the target along a plurality of axes. In another example, portions of the beam are differentially deflected. The source may thereby irradiate an object to be scanned with more uniform radiation. The charged particles may be electrons or protons and the radiation may be X-ray or gamma ray radiation, or neutrons. Scanning systems incorporating such sources, methods of generating radiation and methods of examining objects are disclosed, as well.
    • 公开了一种辐射源,其包括沿着路径行进的带电粒子源。 目标材料位于路径上,以在梁受到冲击时产生辐射。 提供磁体以在撞击目标之前偏转光束。 磁体可产生时变磁场或恒定磁场。 恒定的磁场可以在横跨射束的空间上变化。 磁体可以是电磁体或永磁体。 在一个示例中,光束的偏转导致沿着多个轴的光束在目标上的冲击。 在另一示例中,梁的部分被差异偏转。 因此,源可以以更均匀的辐射照射待扫描的物体。 带电粒子可以是电子或质子,并且辐射可以是X射线或γ射线辐射或中子。 还公开了包含这些源的扫描系统,产生辐射的方法和检查对象的方法。
    • 9. 发明申请
    • MICROFOCUS X-RAY DEVICE
    • MICRO FOCUS射线设备
    • WO1996029723A1
    • 1996-09-26
    • PCT/EP1996001145
    • 1996-03-16
    • MEDIXTEC GMBH MEDIZINISCHE GERÄTEREINHOLD, Alfred
    • MEDIXTEC GMBH MEDIZINISCHE GERÄTE
    • H01J35/08
    • G21K7/00H01J35/08H01J35/24H01J2235/087
    • In a microfocus X-ray device for producing short-exposure X-ray images to be enlarged, a focused electron beam used for producing the X-radiation (16) strikes the braking material of a target (23). This causes the braking material to change to the fluid aggregate state in the focus point (22) as a result of the high thermal load. For that reason, the device is operated in pulse mode, and the position of the focus point (22) on the target (23) is changed for each electron bombardment. The braking material is located in a braking layer (32) on a support layer (33) and the electrode beam (16) impinges vertically on the braking layer (32) which is aligned with the electron beam (16). A control action interrupts the exposure at the latest when the support layer (33) starts to melt.
    • 在用于放大射线照相短时记录一个微焦点X射线装置中,聚焦的电子束撞击到生成到目标材料(23)的制动X射线辐射(16)。 在此,在液体状态下的焦点(22)由高的热应力的制动材料前进。 出于这个原因,该装置被以脉冲模式操作,对目标(23)的焦点(22)的位置在从先前的位置中的每个冲击偏移。 阻滞材料被布置在一个延迟层(32)和电子束(16)的载体层(33)上垂直地撞击在与电子束(16)定向的制动层(32)。 控制器从照射所述载体层(33)的熔化过程中破坏最迟。
    • 10. 发明申请
    • 反射型X線発生装置
    • 反射X射线发生装置
    • WO2016190074A1
    • 2016-12-01
    • PCT/JP2016/063792
    • 2016-05-09
    • 松定プレシジョン株式会社
    • 熊本 和哉松田 定好
    • H01J35/06H01J35/16H01J35/24
    • H01J35/06H01J35/16H01J35/24
    • ターゲットの品質低下を十分に抑止することのできる反射型X線発生装置を提供する。 反射型X線発生装置は、少なくともz軸方向に延在する内部空間(IS)を構成するチャンバー(10)と、内部空間(IS)においてチャンバー(10)に固定され、ターゲット(13)へ電子線を照射する電子銃(20)と、電子銃(20)から照射する電子線のz軸方向に対する傾斜角を調節する調節部(82)とを備え、チャンバー(10)は、ターゲット(13)から発生したX線を内部空間(IS)外へ導くウインドウ(12)を含む。
    • 提供了一种反射X射线产生装置,其可以适当地最小化目标质量的任何降低。 反射X射线产生装置具有:构成在至少z轴方向上延伸的内部空间(IS)的一部分的室(10) 固定在内部空间(IS)中的室(10)的电子枪(20),电子枪(20)用电子射线照射目标(13); 以及用于调整从电子枪(20)照射的电子线相对于z轴方向的倾斜角的调整单元(82)。 所述室(10)包括窗口(12),通过所述窗口(X)从所述目标(13)发射的X射线被引出所述内部空间(IS)。