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    • 6. 发明申请
    • HIGH THERMAL CONDUCTIVITY INSULATED METAL SUBSTRATES PRODUCED BY PLASMA ELECTROLYTIC OXIDATION
    • 等离子体电解氧化生成的高导热率绝缘金属衬底
    • WO2015008064A2
    • 2015-01-22
    • PCT/GB2014/052171
    • 2014-07-16
    • KERONITE INTERNATIONAL LIMITED
    • CURRAN, James AndrewHUTCHINS, StephenDUNKIN, Oleg
    • C25D11/02
    • C25D11/026C25D11/024C25D11/04C25D11/26C25D11/30C25D21/12C30B7/12C30B7/14C30B29/16C30B29/20C30B30/02G01R19/0061H05K7/2039
    • There is disclosed an insulated metal substrate, consisting of a dielectric oxide coatings of high crystallinity (>vol90%) on aluminium, magnesium or titanium and high thermal conductivity (over 6Wm -1 K -1 ), formed by plasma electrolytic oxidation on a surface comprising aluminium, magnesium or titanium. There is also disclosed a plasma electrolytic oxidation process for generating dielectric oxide coatings of controlled crystallinity on a surface of a metallic workpiece, wherein at least a series of positive pulses of current are applied to the workpiece in an electrolyte so as to generate plasma discharges, wherein discharge currents are restricted to levels no more than 50mA, discharge durations are restricted to durations of no more than 100µs and are shorter than the durations of each the positive pulses, and/or by restricting the power of individual plasma discharges to under 15W. There is also disclosed an insulated metal substrate capable of withstanding exposure to high temperatures (over 300°C) and thermal shock or repeated thermal cycling of over 300°C, as a result of excellent adhesion of the insulating dielectric to the metal substrate, and the mechanically compliant nature of the coating (E ~20-30GPa). Furthermore, there is disclosed a method of making these insulated metal substrates so thin as to be mechanically flexible or pliable without detriment to their electrical insulation.
    • 公开了一种绝缘金属基底,其由在铝,镁或钛上具有高结晶度(> 90%)的高介电氧化物涂层和高导热率(超过6Wm -1 / 通过等离子体电解氧化在包含铝,镁或钛的表面上形成。 还公开了一种用于在金属工件的表面上产生受控结晶度的介电氧化物涂层的等离子体电解氧化工艺,其中至少一系列正电流脉冲被施加到电解质中的工件上以便产生等离子体放电, 其中放电电流被限制到不超过50mA的电平,放电持续时间被限制为不超过100微秒的持续时间,并且短于每个正脉冲的持续时间,和/或通过将单独的等离子体放电的功率限制到低于 15W。 还公开了一种绝缘金属基底,由于绝缘电介质与金属基底的优异粘附性,该绝缘金属基底能够经受暴露于高温(超过300℃)和热冲击或反复热循环超过300℃,并且 涂层的机械柔顺性(E〜20-30GPa)。 此外,还公开了一种制造这些绝缘金属基片的方法,使其具有机械柔韧性或柔韧性而不损害其电绝缘性。
    • 10. 发明申请
    • 陽極酸化層の形成方法および型の製造方法
    • 用于形成抗静电层和模具生产方法
    • WO2012029570A1
    • 2012-03-08
    • PCT/JP2011/068839
    • 2011-08-22
    • シャープ株式会社石動 彰信箕浦 潔林 秀和中松 健一郎
    • 石動 彰信箕浦 潔林 秀和中松 健一郎
    • C25D11/04B29C33/38B29C59/02C25D11/24G02B1/11B29L11/00
    • C25F3/02B29C33/424B29C33/56C25D11/024C25D11/12C25D11/24
    •  本発明による陽極酸化層の形成方法は、支持体の上に設けられたアルミニウム膜またはアルミニウム基材を用意する工程と、アルミニウム膜またはアルミニウム基材の表面を電解液(E0)に接触させた状態で、アルミニウム膜またはアルミニウム基材の表面と電気的に接続された陽極(E1)と、電解液内に設けられた陰極(E2)との間に電圧を印加することによって、微細な凹部(10p)を有するポーラスアルミナ層(10c)を形成する工程とを包含する。ポーラスアルミナ層(10c)を形成する工程は、電圧を目標値に上昇させる工程と、電圧を目標値に上昇させる前に、電圧を目標値よりも低い第1ピーク値に上昇させ、その後、第1ピーク値よりも低い値に低下させる工程とを含む。本発明によると、凹部のばらつきの抑制された陽極酸化層を形成することができる。
    • 形成阳极氧化层的方法包括:制备设置在支撑体顶部上的铝膜或铝基板的步骤; 以及通过在与铝膜或铝基板的表面电连接的阳极(E1)和设置在铝膜的表面上的阴极(E2)之间施加电压来形成具有细凹部(10p)的多孔氧化铝层(10c)的工序 电解质(E0),铝膜或铝基板的表面处于与电解质接触的状态。 形成多孔氧化铝层(10c)的步骤包括:将电压提高到目标值的步骤; 以及在将电压提高到目标值之前将电压增加到低于目标值的第一峰值,然后将电压降低到低于第一峰值的值的步骤。 本发明能够形成凹陷部分的变化减小的阳极氧化层。