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    • 3. 发明申请
    • VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG VON ROTEN GLASBEHÄLTNISSEN
    • 用于生产红色玻璃容器
    • WO2015144283A1
    • 2015-10-01
    • PCT/EP2015/000456
    • 2015-02-26
    • SAINT-GOBAIN OBERLAND AG
    • ZIMMERMANN, HaraldAL HAMDAN, Khaled
    • C03C4/02C03C1/00C03C1/10C03B25/00C03B29/00C03B32/00
    • C03C1/105C03B25/02C03B29/02C03C1/004C03C3/00C03C4/02C03C2204/00
    • Um ein sowohl hinsichtlich der Rohstoffe bzw. der Ausgangsmaterialien als auch hinsichtlich der Steuerung der Verfahrensparameter mit einem geringen wirtschaftlichen Aufwand einhergehendes Verfahren zur Herstellung von roten Glasbehältnissen zur Verfügung zu stellen, wird vorgeschlagen, dass bei einem entsprechenden Verfahren zur Herstellung von roten Glasbehältnissen eine farblose geschmolzene Glasmasse, deren Massengehalt an Zinnoxid max. 3 % und an Kupferoxid max. 3 % beträgt, hergestellt wird, bei dem die hergestellte farblose geschmolzene Glasmasse mit Natrium- und/oder Calciumsulfat und mit einem kohlenstoffhaltigen Reduktionsmittel mit einem molaren Kohlenstoff/Sulfat-Verhältnis von 0,5 bis 5 neutral geläutert wird, bei dem aus der neutral geläuterten Glasmasse Glasbehältnisse geformt werden, und bei dem die Glasbehältnisse auf eine Temperatur unterhalb von 520 Grad C bis 580 Grad C abgekühlt werden.
    • 同时设置在原料或原料的术语和与用于提供生产红玻璃容器的低经济成本问题相关联的方法的过程参数控制的观点出发,提出了一种无色在相应的方法熔融生产红玻璃容器 玻璃质量,氧化锡最大的质量内容。 氧化铜和最大的3%。 其中,与钠和/或硫酸钙制得的无色熔融玻璃组合物,用碳质还原剂与摩尔碳/硫酸的0.5〜5的比例是精制空档时3%制备,其中从中立纯化 玻璃料的玻璃容器中形成,并且其中所述玻璃容器冷却至低于520摄氏度的温度下,以580℃。
    • 9. 发明申请
    • HOLLOW THREE DIMENSIONAL GLASS SCULPTURE AND METHOD OF MAKING THEREOF
    • 中空三维玻璃雕刻及其制作方法
    • WO2015027969A1
    • 2015-03-05
    • PCT/CZ2014/000094
    • 2014-09-01
    • TOMAS BATA UNIVERSITY IN ZLIN
    • SKARKA, PavelHREBICEK, MilanCIZEK, PavelTICHANEK, Petr
    • C03B25/02C03B29/02C03B19/02
    • C03B25/02C03B19/02
    • The hollow three-dimensional glass sculpture consists of a cylindrical body with a central cavity created during the melting process, and having sculpture on at least a part of its surface, consisting of a relief frieze with an artistic theme created during the melting process, being accessible for viewing from multiple sides. The method of creating a hollow three-dimensional glass sculpture lies in creating a three- dimensional model of the sculpture from a sculpture modelling material first, including a surface three-dimensional relief artistic theme, followed by forming such a model in order to create the outer and inner parts of the future mould, including a corresponding addition of material to discount for shrinking, after which the mould is assembled and thermally treated, then the glass melt is poured into it with the use of melting processes with specific thermal and cooling curves, creating a glass sculpture, which, after having the mould set disassembled, is removed, cleaned and treated by refinement processes.
    • 中空三维玻璃雕塑由在熔融过程中产生的具有中心腔的圆柱体组成,并且在其表面的至少一部分上具有雕塑,由在熔化过程中产生的艺术主题的浮雕带 可从多个方面查看。 创造中空三维玻璃雕塑的方法是首先从雕塑建模材料创建雕塑的三维模型,包括表面三维浮雕艺术主题,然后形成这样一个模型,以创建 未来模具的外部和内部部分,包括相应地添加材料以缩小折扣,之后将模具进行组装和热处理,然后使用具有特定热和冷却曲线的熔化工艺将玻璃熔体注入其中 ,创建一个玻璃雕塑,在拆卸模具组后,通过精制工艺进行清除和处理。
    • 10. 发明申请
    • 低散乱シリカガラスおよびシリカガラスの熱処理方法
    • 低散射二氧化硅玻璃,以及用于热处理二氧化硅玻璃的方法
    • WO2015022966A1
    • 2015-02-19
    • PCT/JP2014/071329
    • 2014-08-12
    • 旭硝子株式会社
    • 小野 円佳伊藤 節郎本間 脩網野 陽介
    • C03B37/15C03B20/00C03B37/10
    • C03B25/02C03B19/1453C03B32/005C03B37/02727C03B2201/04C03B2201/075C03B2201/31C03B2201/42C03B2205/56C03C3/06Y02P40/57
    •  光通信用ファイバの材料に好適な低散乱シリカガラスを提供する。 仮想温度が1000℃以上であって、陽電子消滅寿命法によって観測される空隙半径が0.240nm以下であるシリカガラス。熱処理されるシリカガラスを1200℃以上2000℃以下の温度、かつ30MPa以上の圧力の雰囲気下に保持し、ついで冷却する際に、1200℃から900℃までの温度範囲を、40℃/分以上の平均降温速度で冷却するシリカガラスの熱処理方法。熱処理されるシリカガラスを1200℃以上2000℃以下の温度、かつ140MPa以上の圧力の雰囲気下に保持し、ついで冷却する際に、1200℃から900℃までの温度範囲を、140MPa以上の圧力の雰囲気下に冷却するシリカガラスの熱処理方法。
    • 提供了适合作为光通信光纤的材料的低散射二氧化硅玻璃。 通过正电子湮没寿命法观察到的具有1000℃以上的假想温度并且具有0.240nm以下的孔半径的石英玻璃。 一种用于热处理石英玻璃的方法,所述方法包括在温度范围为1200〜2000℃,压力为30MPa以上的气氛下保持待热处理的石英玻璃,然后冷却石英玻璃,其中, 将石英玻璃从1200℃冷却至900℃的工序以40℃/分钟以上的平均降温速度进行。 一种用于热处理石英玻璃的方法,所述方法包括在温度范围为1200至2000℃,压力为140MPa或更高的气氛下保持待热处理的石英玻璃,然后冷却石英玻璃,其中 将二氧化硅玻璃从1200℃冷却至900℃的工序在140MPa以上的气氛下进行。