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1. 发明申请

WO2012128005A1 合成非晶質シリカ粉末及びその製造方法审中-公开
标题翻译：合成无定形二氧化硅粉及其生产方法
公开(公告)号：WO2012128005A1
公开(公告)日：2012-09-27
申请号：PCT/JP2012/055059
申请日：2012-02-29
申请人：三菱マテリアル株式会社 , 植田稔晃
发明人：植田　稔晃
IPC分类号： C01B33/18 , C03B20/00
CPC分类号： C01B33/183 , C01B33/1415 , C01B33/18 , C01P2004/61 , C01P2006/10 , C01P2006/12 , C03B19/102 , C03B20/00 , Y10T428/2982
摘要：　本発明の合成非晶質シリカ粉末は、造粒されたシリカ粉末に球状化処理を施した後、洗浄し乾燥して得られた平均粒径Ｄ 50 が１０～２０００μｍの合成非晶質シリカ粉末であって、ＢＥＴ比表面積を平均粒径から算出した理論比表面積で割った値が１．３５を超え１．７５以下、真密度が２．１０～２．２０ｇ／ｃｍ 3 、粒子内空間率が０～０．０５、円形度が０．５０以上０．７５以下及び未溶解率が０．２５より大きく０．６０以下であることを特徴とする。この合成非晶質シリカ粉末は、表面に吸着するガス成分、粉末内部のガス成分が少ないため、この粉末を用いて製造された合成シリカガラス製品では、高温及び減圧の環境下での使用においても、気泡の発生又は膨張が大幅に低減される。
摘要翻译：根据本发明的合成无定形二氧化硅粉末是通过球化后的造粒二氧化硅粉末进行洗涤和干燥获得的，平均粒度（D50）为10-2000μm，其特征在于BET比表面积与理论值的比率由平均粒径计算的比表面积超过1.3并且不大于1.75，实际密度为2.10-2.20g / cm 3，颗粒内孔隙率为0-0.05，圆形度为0.50-0.75，非溶解速率大于0.25 不大于0.60。由于这种合成的无定形二氧化硅粉末具有较少的吸附在表面上的气体组分和较少的气体组分，所以即使使用该产品，使用这种粉末的合成二氧化硅玻璃制品也会大大降低气泡的产生或膨胀。温度和低压环境。

2. 发明申请

WO2010020582A2 WÄSSRIGE DISPERSIONEN HYDROPHOBER KIESELSÄUREN 审中-公开
标题翻译：水分散体的疏水性二氧化硅
公开(公告)号：WO2010020582A2
公开(公告)日：2010-02-25
申请号：PCT/EP2009/060497
申请日：2009-08-13
申请人： WACKER CHEMIE AG , GOTTSCHALK-GAUDIG, Torsten
发明人： GOTTSCHALK-GAUDIG, Torsten
IPC分类号： C01B33/141 , C01B33/193 , C09C1/30
CPC分类号： C09C1/3081 , B41M5/5218 , C01B33/1415 , C01P2004/50 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C09C1/3072
摘要： Verfahren zur Herstellung wäßriger Dispersionen hydrophober Kieselsäuren, wobei die hydrophoben Kieselsäuren in eine Wasserphase bei einem pH-Wert von 0 bis 6 eindispergiert werden und in einem weiteren Schritt der pH-Wert der Kiesel säuredispersion auf einen pH Wert von 7-12 durch Zugabe von Base eingestellt wird.
摘要翻译：一种用于疏水性硅石的水分散体的制备过程中，疏水性二氧化硅以从0至6的pH值分散在水相中，并在进一步的步骤中，通过加入碱的pH的硅酸分散体的7-12的pH值的设置。

3. 发明申请

WO2005108294A2 METHOD OF PREPARING AN AGGREGATE METAL OXIDE PARTICLE DISPERSION HAVING A DESIRED AGGREGATE PARTICLE DIAMETER 审中-公开
标题翻译：制备具有所需聚集颗粒直径的聚集金属氧化物颗粒分散体的方法
公开(公告)号：WO2005108294A2
公开(公告)日：2005-11-17
申请号：PCT/US2005/015536
申请日：2005-05-04
申请人： CABOT CORPORATION , LIU, Joanne , KUTSOVSKY, Yakov, E.
发明人： LIU, Joanne , KUTSOVSKY, Yakov, E.
IPC分类号： C01B33/14
CPC分类号： C01F7/025 , B82Y30/00 , C01B13/145 , C01B33/1415 , C01F7/023 , C01P2004/50 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C09C1/407 , C09C3/041 , G03G9/09708
摘要： A method of preparing a dispersion of aggregate metal oxide particles having a pre-selected average aggregate particle diameter comprising pre-selecting a desired percent-reduction in the average aggregate particle diameter of the metal oxide particles, providing a dispersion standard pertaining to a dispersion of the aggregate metal oxide particles, wherein the dispersion standard correlates (i) the solids concentration of the dispersion with (ii) the percent-reduction in the aggregate particle diameter of the aggregate metal oxide particles that occurs when the dispersion is milled in a high-shear mixer, and preparing and milling a dispersion of the aggregate metal oxide particles in a high-shear milling device at a solids concentration that is within 10% of the solids concentration determined by the standard to provide a dispersion of aggregate metal oxide particles having the desired average aggregate particle diameter. Also provided is a method for reducing the average aggregate particle diameter of aggregate metal oxide particles, and a dispersion prepared by the method.
摘要翻译：一种制备具有预选择的平均聚集体粒径的聚集体金属氧化物颗粒的分散体的方法，包括预先选择金属氧化物颗粒的平均聚集体粒径所需的百分比减少，提供与分散体相关的分散体标准聚合物金属氧化物颗粒，其中分散体标准物将（i）分散体的固体浓度与（ii）在高分散体中研磨分散体时发生的聚集体金属氧化物颗粒的聚集体颗粒直径的百分比降低相关联，剪切混合器，并且以高剪切研磨装置制备和研磨聚集体金属氧化物颗粒的分散体，其固体浓度在由标准测定的固体浓度的10％内，以提供具有所需的平均聚集体粒径。还提供了减少聚集的金属氧化物颗粒的平均聚集体粒径的方法和通过该方法制备的分散体。

4. 发明申请

WO2004020334A1 SILICON DIOXIDE DISPERSION 审中-公开
标题翻译：二氧化硅分散剂
公开(公告)号：WO2004020334A1
公开(公告)日：2004-03-11
申请号：PCT/EP2003/008332
申请日：2003-07-29
申请人： DEGUSSA AG , SCHUMACHER, Kai , OSWALD, Monika
发明人： SCHUMACHER, Kai , OSWALD, Monika
IPC分类号： C01B33/18
CPC分类号： C01B33/1415 , C01B33/18 , C01B33/183 , C01P2002/54 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C01P2006/82 , C01P2006/90
摘要： Stable, aqueous dispersion containing silicon dioxide powder having a hydroxyl group density of 2.5 to 4.7 OH/nm², which is obtained from a silicon dioxide powder produced by a flame hydrolysis process under acid conditions. The dispersion is produced by incorporating the silicon dioxide powder into an aqueous solution by means of a dispersing device. The dispersion can be used to produce glass articles.
摘要翻译：稳定的含有二氧化硅粉末的含水分散体，其羟基密度为2.5至4.7HOH / nm 2，其由在酸性条件下通过火焰水解过程产生的二氧化硅粉末获得。分散体是通过将二氧化硅粉末通过分散装置并入水溶液而制成的。分散体可用于生产玻璃制品。

5. 发明申请

WO2009050013A2 PROCESS FOR PREPARING A DISPERSION COMPRISING TITANIUM-SILICON MIXED OXIDE 审中-公开
标题翻译：制备包含钛 - 硅混合氧化物的分散体的方法
公开(公告)号：WO2009050013A2
公开(公告)日：2009-04-23
申请号：PCT/EP2008062833
申请日：2008-09-25
申请人： EVONIK DEGUSSA GMBH , LORTZ WOLFGANG , SCHUMACHER KAI , PIETSCH JOERG
发明人： LORTZ WOLFGANG , SCHUMACHER KAI , PIETSCH JOERG
IPC分类号： C01B33/141
CPC分类号： C01B33/141 , B82Y30/00 , C01B33/1415 , C01B33/1417 , C01B37/005 , C01G23/04 , C01G23/047 , C01P2002/52 , C01P2004/62 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/19 , C01P2006/22 , C01P2006/80
摘要： Process for preparing an aqueous dispersion which has a pH of 9 to 14 and comprises particles of a pyrogenic titanium- silicon mixed oxide powder having a proportion of silicon dioxide of 75 to 99.99% by weight and of titanium dioxide of 0.01 to 25% by weight, whose mean aggregate diameter in the dispersion is not more than 200 nm, and at least one basic, quaternary ammonium compound.
摘要翻译：制备pH为9〜14的水性分散体的方法，其包含二氧化硅比例为75〜99.99重量％，二氧化钛为0.01〜25重量％的热解钛硅混合氧化物粉末的粒子，其分散体中的平均聚集体直径不大于200nm，和至少一种碱性季铵化合物。

6. 发明申请

WO2005108294A3 METHOD OF PREPARING AN AGGREGATE METAL OXIDE PARTICLE DISPERSION HAVING A DESIRED AGGREGATE PARTICLE DIAMETER 审中-公开
标题翻译：制备具有所需聚集颗粒直径的聚集金属氧化物颗粒分散体的方法
公开(公告)号：WO2005108294A3
公开(公告)日：2006-05-26
申请号：PCT/US2005015536
申请日：2005-05-04
申请人： CABOT CORP , LIU JOANNE , KUTSOVSKY YAKOV E
发明人： LIU JOANNE , KUTSOVSKY YAKOV E
IPC分类号： C01B33/14 , C01B13/14 , C01F7/02 , C01F17/00 , C09C1/40 , C09C3/04
CPC分类号： C01F7/025 , B82Y30/00 , C01B13/145 , C01B33/1415 , C01F7/023 , C01P2004/50 , C01P2004/64 , C01P2006/12 , C01P2006/22 , C09C1/407 , C09C3/041 , G03G9/09708
摘要： A method of preparing a dispersion of aggregate metal oxide particles having a pre-selected average aggregate particle diameter comprising pre-selecting a desired percent-reduction in the average aggregate particle diameter of the metal oxide particles, providing a dispersion standard pertaining to a dispersion of the aggregate metal oxide particles, wherein the dispersion standard correlates (i) the solids concentration of the dispersion with (ii) the percent-reduction in the aggregate particle diameter of the aggregate metal oxide particles that occurs when the dispersion is milled in a high-shear mixer, and preparing and milling a dispersion of the aggregate metal oxide particles in a high-shear milling device at a solids concentration that is within 10% of the solids concentration determined by the standard to provide a dispersion of aggregate metal oxide particles having the desired average aggregate particle diameter. Also provided is a method for reducing the average aggregate particle diameter of aggregate metal oxide particles, and a dispersion prepared by the method.
摘要翻译：一种制备具有预选择的平均聚集体粒径的聚集体金属氧化物颗粒的分散体的方法，包括预先选择金属氧化物颗粒的平均聚集体粒径所需的百分比减少，提供与分散体相关的分散体标准聚合物金属氧化物颗粒，其中分散体标准物将（i）分散体的固体浓度与（ii）在高分散体中研磨分散体时发生的聚集体金属氧化物颗粒的聚集体颗粒直径的百分比降低相关联，剪切混合器，并且以高剪切研磨装置制备和研磨聚集体金属氧化物颗粒的分散体，其固体浓度在由标准测定的固体浓度的10％内，以提供具有所需的平均聚集体粒径。还提供了减少聚集的金属氧化物颗粒的平均聚集体粒径的方法和通过该方法制备的分散体。

7. 发明申请

WO2004089825A1 AQUEOUS DISPERSION OF HYDROPHOBIZED SILICON DIOXIDE POWDER COMPRISING A DISPERSING AGENT 审中-公开
标题翻译：包含分散剂的疏水性二氧化硅粉末的水分散
公开(公告)号：WO2004089825A1
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：PCT/EP2004/003209
申请日：2004-03-26
申请人： DEGUSSA AG , LORTZ, Wolfgang , BATZ-SOHN, Christoph , PERLET, Gabriele , WILL, Werner , LEHMANN, Kathrin , RÜTTGERODT, Angela
发明人： LORTZ, Wolfgang , BATZ-SOHN, Christoph , PERLET, Gabriele , WILL, Werner , LEHMANN, Kathrin , RÜTTGERODT, Angela
IPC分类号： C01B33/141
CPC分类号： C08G65/2615 , C01B33/1415 , C01P2004/60 , C01P2006/22 , C01P2006/80 , C01P2006/90 , C08G65/3322 , C08L71/02 , C09C1/3072
摘要： Aqueous dispersion which comprises hydrophobized silicon dioxide powder with a content of between 5 and 50 wt.% and which comprises at least one compound of the general formula R & supl;-COO-(CH2-CH(Ph)-O)a -(CnH2n-xR²x-O)b-R³ (I). It is prepared by dispersing the hydrophobic silicon dioxide powder, dispersing agent and optionally pH-regulating substances and further additives in an aqueous medium. It can be employed as an additive to waterborne fillers in the automobile industry, as a coating constituent in can and coil coating processes, as an additive in water-based UV-curable formulations e.g. for wood preservation and as a constituent of protective lacquer films.
摘要翻译：水分散体，其包含含量为5至50重量％的疏水化二氧化硅粉末，并且其包含至少一种通式R 1和R 2优选的化合物-COO-（CH 2 -CH（Ph）-O）a - （ C n H 2n-x R 2 x-O）b -R 3（I）。通过将疏水性二氧化硅粉末，分散剂和任选的pH调节物质和其它添加剂分散在水性介质中来制备。它可以用作汽车工业中的水性填料的添加剂，作为罐和线圈涂布方法中的涂料组分，作为水基紫外线固化型配方中的添加剂。用于木材保护和作为保护漆膜的组成部分。

8. 发明申请

WO2014172556A1 COLLOIDAL SOL AND METHOD OF MAKING SAME 审中-公开
标题翻译：胶体溶胶及其制备方法
公开(公告)号：WO2014172556A1
公开(公告)日：2014-10-23
申请号：PCT/US2014/034531
申请日：2014-04-17
申请人： SILBOND CORPORATION , WARNSHUIS, Kenneth , HAAG, George , RAU, Peter , HIRSCH, Keith
发明人： WARNSHUIS, Kenneth , HAAG, George , RAU, Peter , HIRSCH, Keith
IPC分类号： C08K9/06
CPC分类号： C01B33/141 , C01B33/1415 , C09G1/02
摘要： A colloidal sol and a method of making colloidal sol that is capable of controlling the resulting particle size and more specifically, using a potassium hydroxide process to obtain a colloidal sol having a single peak of average particle sizes.
摘要翻译：胶态溶胶和能够控制所得粒度的胶体溶胶的制备方法，更具体地说，使用氢氧化钾方法获得具有单峰平均粒径的胶体溶胶。

9. 发明申请

WO2013052521A1 SILICA PARTICLE MANUFACTURING PROCESS 审中-公开
标题翻译：二氧化硅颗粒制造工艺
公开(公告)号：WO2013052521A1
公开(公告)日：2013-04-11
申请号：PCT/US2012/058517
申请日：2012-10-03
申请人： NALCO COMPANY , ERGANG, Nicholas, S , KEISER, Bruce, A , MIMNA, Richard , SHOWALTER, Brett , SARATOVSKY, Ian , CHEN, Hung-Ting
发明人： ERGANG, Nicholas, S , KEISER, Bruce, A , MIMNA, Richard , SHOWALTER, Brett , SARATOVSKY, Ian , CHEN, Hung-Ting
IPC分类号： C01B33/14 , C01B33/12 , C07F7/02
CPC分类号： C01B33/12 , C01B33/1415 , C01B33/18 , C01B33/187 , C01P2002/54 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16 , C09C1/02 , C09C1/3081
摘要： Methods of forming a silica-containing products are disclosed. One method comprises: (a) providing a silica containing precursor (SCP) contained in solution that has a pH less than or equal to a pH of 7; (b) optionally doping the SCP with one or more metal species, wherein said doping occurs when the solution has a pH less than or equal to a pH of 7; (c) adjusting the pH of the solution to greater than 7; (d) adding an effective amount of salt to the solution so that the conductivity of the solution is greater than or equal to 4 mS, wherein said addition occurs prior to, simultaneous with, or after the pH adjustment in step 1c; (e) optionally filtering and drying the SCP; and (f) optionally reacting the dried product from step e with a functional group and optionally wherein the resultant functionalized dried product is at least one of the following: a functionalized metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica product. Another method comprises: (a) providing a silica containing precursor (SCP) contained in solution that has a pH greater than 7; (b) adjusting the pH of the solution to less than or equal to 7; (c) optionally doping the SCP with one or more metal species, wherein said doping occurs when the solution has a pH less than or equal to a pH of 7; (d) adjusting the pH of the solution to greater than 7; (e) adding an effective amount of salt to the solution so that the conductivity of the solution is greater than or equal to 4 mS, wherein said addition occurs prior to, simultaneous with, or after the pH adjustment in step 2d; (f) optionally filtering and drying the SCP; and (g) optionally reacting the dried product from step f with a functional group and optionally wherein the resultant functionalized dried product is at least one of the following: a functionalized metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica-containing product. The SCP is then added to a hygroscopic solid such that the resulting product comprises a metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica-containing product deposited on a substrate selected from hydrated alkaline earth oxide, lanthanide oxide, and combinations thereof.
摘要翻译：公开了形成含二氧化硅的产品的方法。一种方法包括：（a）提供pH小于或等于7的溶液中含有的含二氧化硅的前体（SCP）; （b）任选地用一种或多种金属物质掺杂SCP，其中当溶液的pH小于或等于pH7时，发生所述掺杂; （c）将溶液的pH调节至大于7; （d）向溶液中加入有效量的盐使溶液的电导率大于或等于4mS，其中所述添加发生在步骤1c中的pH调节之前，同时或之后，（e）任选地过滤和干燥SCP; 和（f）任选地使来自步骤e的干燥产物与官能团反应，任选地其中所得官能化干燥产物是以下至少一种：官能化金属氧化物掺杂或金属硫化物掺杂二氧化硅产物。另一种方法包括：（a）提供包含在pH大于7的溶液中的含二氧化硅的前体（SCP）; （b）将溶液的pH调节至小于或等于7; （c）任选地用一种或多种金属物质掺杂SCP，其中当溶液的pH小于或等于pH7时，发生所述掺杂; （d）将溶液的pH调节至大于7; （e）向溶液中加入有效量的盐使溶液的电导率大于或等于4mS，其中所述添加发生在步骤2d中的pH调节之前，同时或之后; （f）任选地过滤和干燥SCP; 和（g）任选地将来自步骤f的干燥产物与官能团反应，任选地其中所得官能化干燥产物是以下至少一种：官能化金属氧化物掺杂或金属硫化物掺杂的含二氧化硅的产物。然后将SCP加入到吸湿固体中，使得所得产物包含沉积在选自水合碱土金属氧化物，镧系元素氧化物及其组合的底物上的金属氧化物掺杂或金属硫化物掺杂的含二氧化硅的产物。

10. 发明申请

WO2011127104A2 SILICA PARTICLE MANUFACTURING PROCESS 审中-公开
标题翻译：二氧化硅颗粒制造工艺
公开(公告)号：WO2011127104A2
公开(公告)日：2011-10-13
申请号：PCT/US2011031317
申请日：2011-04-06
申请人： NALCO CO , KEISER BRUCE A , ERGANG NICHOLAS S , MIMNA RICHARD , SHOWALTER BRETT M
发明人： KEISER BRUCE A , ERGANG NICHOLAS S , MIMNA RICHARD , SHOWALTER BRETT M
IPC分类号： C01B33/18 , C01B33/157 , C09C1/30 , C09C3/00
CPC分类号： C01B33/18 , C01B33/1415 , C01P2006/12 , C01P2006/14 , C01P2006/16
摘要： Methods of forming a silica-based products are disclosed. One method comprises: (a) providing a silica containing precursor (SCP) contained in solution that has a pH less than or equal to a pH of 7; (b) optionally doping the SCP with one or more metal species, wherein said doping occurs when the solution has a pH less than or equal to a pH of 7; (c) adjusting the pH of the solution to greater than 7; (d) adding an effective amount of salt to the solution so that the conductivity of the solution is greater than or equal to 4 mS, wherein said addition occurs prior to, simultaneous with, or after the pH adjustment in step 1c; (e) optionally filtering and drying the SCP; and (f) optionally reacting the dried product from step e with a functional group and optionally wherein the resultant functionalized dried product is at least one of the following: a functionalized metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica product. Another method comprises: (a) providing a silica containing precursor (SCP) contained in solution that has a pH greater than 7; (b) adjusting the pH of the solution to less than or equal to 7; (c) optionally doping the SCP with one or more metal species, wherein said doping occurs when the solution has a pH less than or equal to a pH of 7; (d) adjusting the pH of the solution to greater than 7; (e) adding an effective amount of salt to the solution so that the conductivity of the solution is greater than or equal to 4 mS, wherein said addition occurs prior to, simultaneous with, or after the pH adjustment in step 2d; (f) optionally filtering and drying the SCP; and (g) optionally reacting the dried product from step f with a functional group and optionally wherein the resultant functionalized dried product is at least one of the following: a functionalized metal oxide-doped or metal sulfide-doped silica product.
摘要翻译：公开了形成二氧化硅基产品的方法。一种方法包括：（a）提供pH小于或等于7的溶液中含有的含二氧化硅的前体（SCP）; （b）任选地用一种或多种金属物质掺杂SCP，其中当溶液的pH小于或等于pH7时，发生所述掺杂; （c）将溶液的pH调节至大于7; （d）向溶液中加入有效量的盐使溶液的电导率大于或等于4mS，其中所述添加发生在步骤1c中的pH调节之前，同时或之后，（e）任选地过滤和干燥SCP; 和（f）任选地使来自步骤e的干燥产物与官能团反应，任选地其中所得官能化干燥产物是以下至少一种：官能化金属氧化物掺杂或金属硫化物掺杂二氧化硅产物。另一种方法包括：（a）提供包含在pH大于7的溶液中的含二氧化硅的前体（SCP）; （b）将溶液的pH调节至小于或等于7; （c）任选地用一种或多种金属物质掺杂SCP，其中当溶液的pH小于或等于pH7时，发生所述掺杂; （d）将溶液的pH调节至大于7; （e）向溶液中加入有效量的盐使溶液的电导率大于或等于4mS，其中所述添加发生在步骤2d中的pH调节之前，同时或之后; （f）任选地过滤和干燥SCP; 和（g）任选地使来自步骤f的干燥产物与官能团反应，任选地其中所得官能化干燥产物是以下至少一种：官能化金属氧化物掺杂或金属硫化物掺杂二氧化硅产物。

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