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1. 发明申请

WO2010099409A1 SYSTEMS AND METHODS FOR PROFILING SHEET PRODUCTS 审中-公开
标题翻译：用于配置产品的系统和方法
公开(公告)号：WO2010099409A1
公开(公告)日：2010-09-02
申请号：PCT/US2010/025537
申请日：2010-02-26
申请人： TITANIUM METALS CORPORATIONS , CORY, Dean , JONES, David
发明人： CORY, Dean , JONES, David
IPC分类号： B23P25/00 , B24B13/00 , B25B11/00 , B23Q3/08
CPC分类号： B23P25/00 , B23P15/00 , B24B13/0043 , Y10T428/12417
摘要： Techniques for manufacturing sheet product of varying surface profile and products thus manufactured are disclosed herein. In some embodiments, the disclosed invention provides a method for profiling a surface of a sheet product (200) having a first profile on first surface. In one embodiment, the method includes creating a profiling template (220) or contoured support surface. A profiled surface may be formed by arranging the profiling template(220) and the sheet product (200) such that the profiling template is located between the sheet product and a support surface, conforming the arrangement of the sheet product and the profiling template to the support surface such that conformance causes the sheet product to have a second surface profile on the first surface, and processing the sheet product to form a third surface profile on the first surface.
摘要翻译：本文公开了用于制造如此制造的不同表面轮廓的片材产品和产品的技术。在一些实施例中，所公开的发明提供了用于在第一表面上具有第一轮廓的片材产品（200）的表面成型的方法。在一个实施例中，该方法包括创建分析模板（220）或轮廓支撑表面。成型表面可以通过布置成型模板（220）和片材产品（200）而形成，使得成型模板位于片材产品和支撑表面之间，使得片材产品的布置和成型模板符合支撑表面使得一致性导致片材产品在第一表面上具有第二表面轮廓，并且处理片材产品以在第一表面上形成第三表面轮廓。

2. 发明申请

WO2007087455A3 FIGURING OF OPTICAL DEVICE FOR COMPENSATION OF LOAD-INDUCED DISTORTION 审中-公开
标题翻译：用于补偿负载引起的畸变的光学装置的图形
公开(公告)号：WO2007087455A3
公开(公告)日：2007-10-11
申请号：PCT/US2007002479
申请日：2007-01-29
申请人： GOODRICH CORP , LAFLEUR LESTER DAVID , DEBOO BRIAN JAMES , ZMEK WILLIAM PAUL , PRINCE STEVEN SUMNER
发明人： LAFLEUR LESTER DAVID , DEBOO BRIAN JAMES , ZMEK WILLIAM PAUL , PRINCE STEVEN SUMNER
IPC分类号： B24B13/00 , G02B3/02 , G02B7/00 , G02B27/00
CPC分类号： B24B13/0043 , G01N21/896 , G02B27/0012 , G02B27/50 , G02B27/646
摘要： A method of correction of load-induced optical distortion in an optical device includes subjecting an optical device having a first morphology to a predetermined loading condition, determining a deformation to a second morphology of the optical device under said predetermined loading condition, and removing material from at least one surface of said optical device to compensate for said deformation. In accordance with another aspect of the invention, the method can include the steps of subjecting the optical device to a predetermined loading condition, determining a deformation of the optical device under a predetermined loading condition, defining a surface contour across a surface of the optical device to substantially reduce wavefront error due to said deformation across a field of regard when the optical device is subject to said predetermined loading condition, and removing material from a surface of said optical device to create the defined surface contour.
摘要翻译：一种校正光学装置中的负载引起的光学畸变的方法包括：使具有第一形态的光学装置经受预定负载条件;确定在所述预定负载条件下光学装置的第二形态的变形;以及从所述光学装置的至少一个表面用于补偿所述变形。根据本发明的另一方面，该方法可以包括以下步骤：使光学装置经受预定的加载条件，在预定的加载条件下确定光学装置的变形，在光学装置的表面上限定表面轮廓当所述光学装置经受所述预定加载条件时，实质上减小由于所述变形而引起的波前误差，以及从所述光学装置的表面移除材料以产生所述限定的表面轮廓。

3. 发明申请

WO2014177525A1 PROCÉDÉ DE FAÇONNAGE D'UN COMPOSANT OPTIQUE POUR OBTENIR UNE SURFACE OPTIQUE ASPHÉRIQUE 审中-公开
标题翻译：用于形成光学元件的方法用于生产平面表面
公开(公告)号：WO2014177525A1
公开(公告)日：2014-11-06
申请号：PCT/EP2014/058637
申请日：2014-04-29
申请人： COMMISSARIAT À L'ÉNERGIE ATOMIQUE ET AUX ÉNERGIES ALTERNATIVES
发明人： LANTERNIER, Thomas , BOUILLET, Stéphane
IPC分类号： B24B13/00
CPC分类号： B29D11/00 , B24B13/0043 , C03B23/00
摘要： L'invention concerne un procédé de façonnage d'un composant optique (2) pour qu'il présente une surface optique asphérique. Selon l'invention : on chauffe et on applique des contraintes mécaniques au composant optique (100); on arrête le chauffage et l'application des contraintes mécaniques (200); - on polit une surface optique (4) du composant selon une forme plane ou sphérique (400); et on relaxe la déformation élastique retardée du composant optique (500). La présente invention trouve des applications notamment dans la réalisation de miroirs asphériques de grandes dimensions.
摘要翻译：本发明涉及一种用于成形光学部件（2）的方法，使得所述部件具有非球面光学表面。根据本发明：加热光学部件（100）并对其施加机械应力; 停止加热和施加机械应力（200）; 部件的光学表面（4）被抛光成平面或球形（400）; 并且放松了光学部件（500）的延迟的弹性变形。本发明在具有大尺寸的非球面镜的制造中特别有用。

4. 发明申请

WO2008113858A2 VERFAHREN UND VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINES ELEMENTS MIT MINDESTENS EINER FREIFORMFLÄCHE MIT HOHER FORMGENAUIGKEIT UND GERINGER OBERFLÄCHENRAUHIGKEIT 审中-公开
标题翻译：方法和设备制作元件与至少一个自由形式表面的高形状精度和表面粗糙度低
公开(公告)号：WO2008113858A2
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/EP2008/053398
申请日：2008-03-20
申请人： CARL ZEISS SMT AG , BÖHM, Thure , BURKART, Stefan , MANN, Hans-Jürgen , CHAN, Danny , MALTOR, Holger
发明人： BÖHM, Thure , BURKART, Stefan , MANN, Hans-Jürgen , CHAN, Danny , MALTOR, Holger
IPC分类号： B24B13/00
CPC分类号： B24B13/0043 , Y10T428/24355
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines Elements mit mindestens einer beliebig frei geformten Fläche (Freiformfläche) mit hoher Formgenauigkeit und geringer Oberflächenrauhigkeit sowie ein optisches Element mit einer optischen Freiformfläche und eine Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie mit einem entsprechenden optischen Element, wobei die Freiformfläche durch mindestens einen ersten Bearbeitungsschritt mit einem formgebenden Materialbearbeitungsverfahren, bei dem zumindest eine Annäherung an die gewünschte Freiformfläche (Zielform) erfolgt, und mindestens einem zweiten Schritt mit einem die Oberfläche glättenden Materialbearbeitungsverfahren erhalten wird, wobei mindestens während eines zweiten Bearbeitungsschrittes der glättenden Materialbearbeitung das zu bearbeitende Element (1) durch Krafteinleitung derart elastisch verspannt ist, dass die zu glättende Freiformfläche durch Glättprozesse für sphärische, plane oder asphärische Oberflächen bearbeitbar ist. Die Erfindung betrifft ferner eine entsprechende Vorrichtung zum Glätten einer beliebig frei geformten Fläche (Freiformfläche) eines Elements mit hoher Formgenauigkeit und geringer Oberflächenrauhigkeit mit einer Halterung zur Aufnahme des zu bearbeitenden Elements und einem Glättwerkzeug zur glättenden Bearbeitung der Freiformfläche, wobei die Aufnahme mindestens einen Aktor (6) zur Ausübung einer Kraft auf das zu bearbeitende Element aufweist, so dass das zu bearbeitende Element in eine intermediäre Form (2") elastisch verspannt ist, so dass die zu glättende Freiformfläche mit dem Glättwerkzeug durch Glättprozesse für sphärische, plane oder asphärische Oberflächen bearbeitbar ist.
摘要翻译：本发明涉及一种用于具有至少一个任意地自由形成的表面（自由曲面）与形式和低的表面粗糙度的精度高以及具有用于微光刻光学自由形式表面和投射曝光系统与相应的光学元件，其中，所述自由形态的表面由光学元件产生的元件至少用模制材料处理方法，其中至少一个近似为所需的自由形式表面（目标形状）的第一加工步骤中进行，和至少一个第二步骤中，用表面平滑化，其中在平滑材料处理元件的第二处理步骤，用于至少编辑材料的加工方法获得的（1）通过的力，该自由曲面以通过平滑球形，平面，或一个进程被平滑应用弹性支撑球形表面是可编辑的。本发明还涉及一种相应的装置，用于保持待加工的构件和用于自由形式表面的平滑化处理的平滑化工具，其中所述接收至少一个致动器平滑用的保持件的形式和低的表面粗糙度的精度高的元件的任意自由曲面（自由曲面）（ 6），用于在元件上施加力，以进行处理，从而使待处理的部件（在中间形式2“）被弹性地通过平滑球形，平面，或非球面表面处理强调与平滑工具处理，使得被平滑的自由曲面是。

5. 发明申请

WO2008113858A3 METHOD AND DEVICE FOR PRODUCING AN ELEMENT HAVING AT LEAST ONE FREEFORM SURFACE WITH HIGH DIMENSIONAL ACCURACY AND LOW SURFACE ROUGHNESS 审中-公开
标题翻译：方法和设备制作元件与至少一个自由形式表面的高形状精度和表面粗糙度低
公开(公告)号：WO2008113858A3
公开(公告)日：2009-01-22
申请号：PCT/EP2008053398
申请日：2008-03-20
申请人： ZEISS CARL SMT AG , BOEHM THURE , BURKART STEFAN , MANN HANS-JUERGEN , CHAN DANNY , MALTOR HOLGER
发明人： BOEHM THURE , BURKART STEFAN , MANN HANS-JUERGEN , CHAN DANNY , MALTOR HOLGER
IPC分类号： B24B13/00
CPC分类号： B24B13/0043 , Y10T428/24355
摘要： The present invention relates to a method for producing an element having at least one arbitrarily freely formed surface (freeform surface) with high dimensional accuracy and low surface roughness, and to an optical element having an optical freeform surface and a projection exposure system for microlithography having a corresponding optical element, wherein the freeform surface is obtained by means of at least one first processing step using a forming material processing method, in which at least an approximation of the desired freeform surface (target shape) occurs, and at least one second step using a surface-smoothing material processing method, wherein at least during a second processing step for smoothing material processing the element (1) to be processed is elastically stressed by applying a force such that the freeform surface to be smoothed can be processed using smoothing processes for spherical, planar or aspherical surfaces. The invention further relates to a corresponding device for smoothing an arbitrarily freely formed surface (freeform surface) of an element with high dimensional accuracy and low surface roughness having a holder for receiving the element to be processed and a smoothing tool for the smoothing processing of the freeform surface, wherein the receptacle has at least one actuator (6) for applying a force to the element to be processed, so that the element to be processed is elastically stressed into an intermediate shape (2''), so that the freeform surface to be smoothed can be processed by means of the smoothing tool using smoothing processes for spherical, planar or aspherical surfaces.
摘要翻译：本发明涉及一种用于具有至少一个任意地自由形成的表面（自由曲面）与形式和低的表面粗糙度的精度高以及具有用于微光刻光学自由形式表面和投射曝光系统与相应的光学元件，其中，所述自由形态的表面由光学元件产生的元件至少用模制材料处理方法，其中至少一个近似为所需的自由形式表面（目标形状）的第一加工步骤中进行，和至少一个第二步骤中，用表面平滑化，其中在平滑材料处理元件的第二处理步骤，用于至少编辑材料的加工方法获得的（1）通过的力，该自由曲面以通过平滑球形，平面，或一个进程被平滑应用弹性支撑球形表面是可编辑的。本发明还涉及一种相应的装置，用于保持待加工的构件和用于自由形式表面的平滑化处理的平滑化工具，其中所述接收至少一个致动器平滑用的保持件的形式和低的表面粗糙度的精度高的元件的任意自由曲面（自由曲面）（ 6），用于在元件上施加力，以进行处理，从而使待处理的部件（在中间形式2“）被弹性地通过平滑球形，平面，或非球面表面处理强调与平滑工具处理，使得被平滑的自由曲面是。

6. 发明申请

WO2007087455A2 FIGURING OF OPTICAL DEVICE FOR COMPENSATION OF LOAD-INDUCED DISTORTION 审中-公开
标题翻译：用于补偿负载诱导失真的光学装置的屏蔽
公开(公告)号：WO2007087455A2
公开(公告)日：2007-08-02
申请号：PCT/US2007/002479
申请日：2007-01-29
申请人： GOODRICH CORPORATION , LAFLEUR, Lester, David , DEBOO, Brian, James , ZMEK, William, Paul , PRINCE, Steven, Sumner
发明人： LAFLEUR, Lester, David , DEBOO, Brian, James , ZMEK, William, Paul , PRINCE, Steven, Sumner
CPC分类号： B24B13/0043 , G01N21/896 , G02B27/0012 , G02B27/50 , G02B27/646
摘要： A method of correction of load-induced optical distortion in an optical device includes subjecting an optical device having a first morphology to a predetermined loading condition, determining a deformation to a second morphology of the optical device under said predetermined loading condition, and removing material from at least one surface of said optical device to compensate for said deformation. In accordance with another aspect of the invention, the method can include the steps of subjecting the optical device to a predetermined loading condition, determining a deformation of the optical device under a predetermined loading condition, defining a surface contour across a surface of the optical device to substantially reduce wavefront error due to said deformation across a field of regard when the optical device is subject to said predetermined loading condition, and removing material from a surface of said optical device to create the defined surface contour.
摘要翻译：在光学装置中校正负载引起的光学失真的方法包括使具有第一形态的光学装置经受预定的负载状态，在所述预定负载条件下确定光学装置的第二形态的变形，以及从所述光学装置的至少一个表面以补偿所述变形。根据本发明的另一方面，该方法可以包括以下步骤：使光学装置经受预定的负载状态，确定光学装置在预定负载条件下的变形，限定穿过光学装置的表面的表面轮廓以在光学装置经受所述预定加载条件时，通过所涉及的领域的所述变形来大幅度减少波前误差，以及从所述光学装置的表面移除材料以产生限定的表面轮廓。

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