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1. 发明申请

WO2014116304A2 METHOD AND HARDWARE FOR CLEANING UV CHAMBERS 审中-公开
标题翻译：用于清洁UV室的方法和硬件
公开(公告)号：WO2014116304A2
公开(公告)日：2014-07-31
申请号：PCT/US2013055594
申请日：2013-08-19
申请人： APPLIED MATERIALS INC
发明人： BALUJA SANJEEV , DEMOS ALEXANDROS T , CHAN KELVIN , ROCHA-ALVAREZ JUAN CARLOS , HENDRICKSON SCOTT A , KANGUDE ABHIJIT , TUREVSKY INNA , CHHABRA MAHENDRA , NOWAK THOMAS , YAO DAPING , XIE BO , RAJ DAEMIAN
IPC分类号： H01L21/302 , H01L21/02
CPC分类号： C23C16/4405 , B08B7/0021 , B08B7/0057 , C11D11/0041 , C23C16/45565 , C23C16/482
摘要： A cleaning method for a UV chamber involves providing a first cleaning gas, a second cleaning gas, and a purge gas to one or more openings in the chamber. The first cleaning gas may be an oxygen containing gas, such as ozone, to remove carbon residues. The second cleaning gas may be a remote plasma of NF3 and O2 to remove silicon residues. The UV chamber may have two UV transparent showerheads, which together with a UV window in the chamber lid, define a gas volume proximate the UV window and a distribution volume below the gas volume. A purge gas may be flowed through the gas volume while one or more of the cleaning gases is flowed into the distribution volume to prevent the cleaning gases from impinging on the UV transparent window.
摘要翻译：用于UV腔室的清洁方法涉及向腔室中的一个或多个开口提供第一清洁气体，第二清洁气体和清洁气体。第一清洁气体可以是含氧气体，例如臭氧，以去除碳残留物。第二清洁气体可以是NF3和O2的远程等离子体以去除硅残留物。 UV室可具有两个UV透明喷头，其与室盖中的UV窗口一起限定靠近UV窗口的气体体积和低于气体体积的分配体积。清洁气体可以流过气体体积，同时一种或多种清洁气体流入分配体积中以防止清洁气体撞击在UV透明窗上。

2. 发明申请

WO2014027157A1 OUTILLAGE POUR LE DESSABLAGE D'UNE TURBOMACHINE 审中-公开
标题翻译：用于降低涡轮机的工具
公开(公告)号：WO2014027157A1
公开(公告)日：2014-02-20
申请号：PCT/FR2013/051884
申请日：2013-08-05
申请人： SNECMA
发明人： DERRIEN, Gérard , WILK, Sébastien
IPC分类号： F01D25/00 , B08B9/00 , F02C7/30 , H05H1/00
CPC分类号： F01D25/002 , B08B5/04 , B08B7/0021 , B08B7/0071 , B08B7/04 , B08B9/00 , F02C7/30
摘要： Outillage pour le dessablage d'une turbomachine L'invention concerne un outillage pour le dessablage d'une turbomachine, telle qu'un turboréacteur d'avion, comportant au moins un dispositif de visualisation par endoscopie (5) comportant des moyens de visualisation (9) et un conduit (11) dans lequel sont montés des moyens de guidage de lumière et de transmission d'image, un dispositif d'aspiration (9) comportant des moyens d'aspiration (15) reliés à un conduit d'aspiration (16) fixé au conduit (11) d'un dispositif de visualisation (5), et un dispositif de génération d'un jet plasma (6) comportant une torche plasma reliée à des moyens d'alimentation en gaz et à des moyens d'alimentation électrique (13) aptes à alimenter ladite torche plasma, ladite torche plasma étant fixée au conduit (11) d'un dispositif de visualisation précité (5, 8).
摘要翻译：一种用于碾磨涡轮机的工具。本发明涉及一种用于使涡轮机（例如飞行器的涡轮喷气发生器）脱粒的工具，其包括至少一个内窥镜观察装置（5），其包括观察装置（9）和管（11），其中安装有光导和图像传输装置，包括连接到固定到观察装置（5）的管道（11）的吸入管（16）的抽吸装置（15）的抽吸装置（9）和用于产生等离子体射流的装置（6），其包括等离子体连接到气体供应装置的焊枪和能够供应所述等离子体焰炬的电源装置（13），所述等离子体焰炬固定到上述观察装置（5,8）的管道（11）上。

3. 发明申请

WO2013109614A2 BARRIER DENSIFIED FLUID CLEANING SYSTEM 审中-公开
标题翻译：障碍物渗透液清洗系统
公开(公告)号：WO2013109614A2
公开(公告)日：2013-07-25
申请号：PCT/US2013/021719
申请日：2013-01-16
申请人： CO2NEXUS, INC , BABBIT, Guy, Robert , MAXEY, Andrew, Timothy , SIEWERS, Ernst, Jan , PARKER, Stuart , ECHTER, Nicholas, Paul
发明人： BABBIT, Guy, Robert , MAXEY, Andrew, Timothy , SIEWERS, Ernst, Jan , PARKER, Stuart , ECHTER, Nicholas, Paul
IPC分类号： D06F43/02
CPC分类号： D06F43/007 , B08B7/0021 , D06F43/00 , D06F43/02 , D06F43/081 , D06L1/00 , F16J13/08
摘要： A densified fluid barrier cleaning system is disclosed in which a pressure vessel encases a movable basket positioned so as to cross a barrier such that one opening of the pressure vessel resides in a first environment and a second opening of the pressure vessel resides in a second environment. A tubular basket within the pressure vessel is positioned such that its central longitudinal axis is aligned with both the first and second opening of the pressure vessel. Responsive to the successful completion of a cleaning cycle, soiled articles that are introduced to the basket via the first opening from the first environment can be removed through the second opening and into the second environment thus bridging the barrier without fear of introducing contaminants from the first environment to second environment.
摘要翻译：公开了一种致密化的流体屏障清洁系统，其中压力容器包围可移动的篮，其定位成跨越障碍物，使得压力容器的一个开口位于第一环境中，并且压力容器的第二开口位于第二环境。压力容器内的管状篮被定位成使得其中心纵向轴线与压力容器的第一和第二开口对准。响应于清洁循环的成功完成，通过第一开口从第一环境引入到篮子中的污染物品可以通过第二开口被移除并进入第二环境，从而桥接隔离物，而不用担心从第一开口引入污染物环境到第二环境。

4. 发明申请

WO2009154089A1 高圧処理装置审中-公开
标题翻译：高压处理设备
公开(公告)号：WO2009154089A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/JP2009/060346
申请日：2009-06-05
申请人：株式会社神戸製鋼所 , 山形昌弘 , 渡邉克充
发明人：山形　昌弘 , 渡邉　克充
IPC分类号： B01J3/04 , B01J3/00 , B08B7/00 , F27B17/00
CPC分类号： B01J3/03 , B01J3/008 , B01J3/04 , B01J2219/00094 , B01J2219/00162 , B08B7/0021 , B30B11/002 , F27B17/0016 , Y10T29/49805
摘要：この発明は、装置全体の著しい大型化や複雑化を招くことなく、処理室の圧力や温度の調節を効率良く短時間で行うことができる高圧処理装置を提供することを目的とする。この高圧処理装置は、処理室を囲む耐圧壁を有する耐圧容器と、その開放端を塞ぐ蓋部材と、処理室にプロセス流体を供給する供給手段と、前記耐圧壁よりも小さな厚みを有し、前記耐圧容器の内側面に沿って設けられることにより当該内側面との間に隔室を形成する隔壁と、熱移動制御手段とを備える。この熱移動制御手段は、容器外部で熱媒の加熱または冷却を行ってこの熱媒を前記隔室内に導入することにより前記処理室と前記隔室との間の熱移動を制御する。
摘要翻译：目的是提供一种高压处理设备，其中可以在短时间内有效地调节处理室中的压力或温度，而不会显着增加设备的尺寸或复杂性。高压处理装置具有耐压性容器，该耐压容器具有围绕处理室的耐压壁，封闭耐压容器的开口端的盖构件，将处理流体供给到处理室的供给单元，分隔壁比所述耐压壁更薄，并且沿着所述耐压容器的内表面设置以形成具有所述内表面的分隔室，以及热运动控制装置。所述热运动控制装置通过加热或冷却容器外部的加热介质并将所述加热介质供入所述分隔室来控制所述处理室和所述分隔室之间的热运动。

5. 发明申请

WO2009000274A2 A METHOD OF TREATING A POLYMER ITEM, AND A VESSEL FOR PERFORMING THE METHOD 审中-公开
标题翻译：一种处理聚合物项目的方法和一种用于实施该方法的容器
公开(公告)号：WO2009000274A2
公开(公告)日：2008-12-31
申请号：PCT/DK2008050150
申请日：2008-06-17
申请人： NANON AS , DAMGAARD JAN , PETERSEN MIKKEL , JENSEN ANNE MARIE
发明人： DAMGAARD JAN , PETERSEN MIKKEL , JENSEN ANNE MARIE
IPC分类号： B08B3/06 , B08B7/00 , B29C71/00
CPC分类号： B29C71/0009 , B08B3/06 , B08B7/0021 , B29C2071/0027
摘要： The invention relates to a method of treating at least one polymer item comprising treating said at least one item by liquid CO2 in a vessel comprising a rotary basket. The method comprises - providing at least one polymer item, - applying the item(s) in a container, - fixing the container non-concentrically in the rotary basket, - closing the vessel and treating the polymer item(s) with liquid CO2 under at least partial rotation of the basket with a rotation axis which is substantially horizontal or up to about 45 degree from a horizontal plane for a predetermined time. By the method a very homogenous extraction of residuals can be obtained.
摘要翻译：本发明涉及一种处理至少一种聚合物物品的方法，包括在包括旋转筐的容器中用液体CO 2处理所述至少一种物品。该方法包括 - 提供至少一个聚合物项目， - 将物品施加到容器中， - 将所述容器非同心地固定在所述旋转筐中， - 关闭所述容器并用液体CO 2处理所述聚合物物品篮子的至少部分旋转具有旋转轴线，该旋转轴线基本上水平或者与水平面高达约45度预定时间。通过该方法，可以获得非常均匀的残余物提取。

6. 发明申请

WO2006088561A3 METHOD FOR TREATING A SUBSTRATE WITH A HIGH PRESSURE FLUID USING A PEROXIDE-BASED PROCESS CHEMISTRY 审中-公开
标题翻译：用过氧化氢法处理具有高压流体的基板的方法
公开(公告)号：WO2006088561A3
公开(公告)日：2008-06-05
申请号：PCT/US2005047409
申请日：2005-12-29
申请人： TOKYO ELECTRON LTD , TOKYO ELECTRON AMERICA INC , KEVWITCH ROBERT , GOSHI GENTARO , HILLMAN JOSEPH T , LOWE MARIE , HANSEN BRANDON
发明人： KEVWITCH ROBERT , GOSHI GENTARO , HILLMAN JOSEPH T , LOWE MARIE , HANSEN BRANDON
IPC分类号： B08B7/00 , C11D11/00 , G03F7/42
CPC分类号： C11D3/3947 , B08B7/0021 , C11D11/0047 , C23G5/00 , G03F7/427 , H01L21/02063 , H01L21/02101 , H01L21/31133 , H01L21/67057 , H05K3/26
摘要： A method and system (100, 200) is described for treating a substrate (105, 205) with a high pressure fluid, such as carbon dioxide in a supercritical state. A process chemistry is introduced to the high pressure fluid for treating the substrate surface. The process chemistry includes a peroxide-based chemistry.
摘要翻译：描述了用高压流体（例如超临界状态的二氧化碳）处理衬底（105,205）的方法和系统（100,200）。将工艺化学物质引入用于处理基材表面的高压流体中。工艺化学包括基于过氧化物的化学。

7. 发明申请

WO2005081289A3 PROCESS AND APPARATUS FOR REMOVING RESIDUES FROM SEMICONDUCTOR SUBSTRATES 审中-公开
标题翻译：从半导体基板去除残留物的工艺和设备
公开(公告)号：WO2005081289A3
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/US2005005587
申请日：2005-02-15
申请人： BATTELLE MEMORIAL INSTITUTE , FULTON JOHN L , GASPAR DANIEL J , YONKER CLEMENT R , YOUNG JAMES S , SCOTT ALAN LEA , ENGELHARD MARK H
发明人： FULTON JOHN L , GASPAR DANIEL J , YONKER CLEMENT R , YOUNG JAMES S , SCOTT ALAN LEA , ENGELHARD MARK H
IPC分类号： H01L21/311 , B08B7/00 , C11D1/12 , C11D1/14 , C11D1/34 , C11D11/00 , H01L21/02 , H01L21/306 , H01L21/768
CPC分类号： H01L21/02063 , B08B7/0021 , C11D1/123 , C11D1/146 , C11D1/345 , C11D11/0047 , H01L21/02101 , H01L21/76814
摘要： The present invention generally relates to a system for cleaning substrates. More particularly, the present invention relates to process(es) for effecting chemical removal of residues from semiconductor substrates, including silicon wafers, using a system of reactive reverse micelle(s) or microemulsions in a densified carbon dioxide matrix. Various reactive chemical agents in the reactive micelle system may be used to effect cleaning and removal of etch and metal residues to levels sufficient for commercial wafer production and processing.
摘要翻译：本发明一般涉及一种用于清洁衬底的系统。更具体地，本发明涉及使用在致密化二氧化碳基质中的反应性反胶束或微乳液系统来实现化学去除包括硅晶片在内的半导体衬底的残留物的方法。可以使用反应性胶束系统中的各种反应性化学试剂来实现清洁和去除蚀刻和金属残留物，使其达到商业晶片生产和加工的水平。

8. 发明申请

WO2007094871A2 AUTOMATED NON-CONTACT CLEANING 审中-公开
标题翻译：自动非接触式清洁
公开(公告)号：WO2007094871A2
公开(公告)日：2007-08-23
申请号：PCT/US2006/060424
申请日：2006-11-01
申请人： RAYTHEON COMPANY , SEASLY, Elaine, E. , SEASLY, Zachariah, A.
发明人： SEASLY, Elaine, E. , SEASLY, Zachariah, A.
CPC分类号： B08B7/0021 , B08B3/024
摘要： The disclosed system, device and method for automated non-contact cleaning of hardware articles generally includes: a cleaning chamber configured to at least partially enclose the hardware article to be cleaned; a plurality of nozzles configured to spray a sublimating agent on the hardware article; an air inlet configured to purge the chamber with a gas; and an air outlet configured to exhaust the purge gas, contaminants and sublimating agent from the chamber. Disclosed features and specifications may be variously controlled, adapted or otherwise optionally modified to realize improved non-contact cleaning function.
摘要翻译：所公开的用于自动化非接触式清洁五金制品的系统，装置和方法通常包括：清洁室，其被配置为至少部分地包围待清洁的硬件制品; 多个喷嘴，其构造成将升华剂喷射到所述硬件制品上; 空气入口，配置成用气体吹扫室; 以及空气出口，其构造成从所述室排出净化气体，污染物和升华剂。公开的特征和规格可以被不同地控制，适应或以其他方式任意地修改以实现改进的非接触清洁功能。

9. 发明申请

WO2006091909A3 ETCHING AND CLEANING BPSG MATERIAL USING SUPERCRITICAL PROCESSING 审中-公开
标题翻译：使用超临界加工蚀刻和清洁BPSG材料
公开(公告)号：WO2006091909A3
公开(公告)日：2007-07-19
申请号：PCT/US2006006768
申请日：2006-02-22
申请人： SUPERCRITICAL SYSTEMS INC , JACOBSON GUNILLA , KEVWITCH ROBERT , LOWE MARIE
发明人： JACOBSON GUNILLA , KEVWITCH ROBERT , LOWE MARIE
IPC分类号： B44C1/22 , C03C15/00
CPC分类号： H01L21/02101 , B08B7/0021 , C23G5/00
摘要： A method for etching and removing post-etch residue from a BPSG material is disclosed. In accordance with the method of the present invention, the BPSG material is etched and the residue is removed from the substrate structure using supercritical solutions.
摘要翻译：公开了一种从BPSG材料蚀刻和去除蚀刻后残留物的方法。根据本发明的方法，对BPSG材料进行蚀刻，并使用超临界溶液将残留物从衬底结构中除去。

10. 发明申请

WO2007033008A2 REMOVAL OF PARTICLE CONTAMINATION ON PATTERNED SILICON/SILICON DIOXIDE USING DENSE FLUID/CHEMICAL FORMULATIONS 审中-公开
标题翻译：使用渗漏液/化学制剂去除图案化硅/二氧化硅上的颗粒污染
公开(公告)号：WO2007033008A2
公开(公告)日：2007-03-22
申请号：PCT/US2006/035033
申请日：2006-09-11
申请人： ADVANCED TECHNOLOGY MATERIALS, INC. , KORZENSKI, Michael B. , XU, Chongying , BAUM, Thomas H.
发明人： KORZENSKI, Michael B. , XU, Chongying , BAUM, Thomas H.
IPC分类号： C11D7/32
CPC分类号： C11D1/004 , B08B7/0021 , C11D1/83 , C11D3/042 , C11D3/046 , C11D3/201 , C11D3/2034 , C11D3/24 , C11D11/0047 , H01L21/02063 , H01L21/02101
摘要： A cleaning composition for cleaning particulate contamination from small dimensions on microelectronic device substrates. The cleaning composition contains dense CO 2 (preferably supercritical CO 2 (SCCO 2 )), alcohol, fluoride source, anionic surfactant source, non-ionic surfactant source, and optionally, hydroxyl additive. The cleaning composition enables damage-free, residue-free cleaning of substrates having particulate contamination on Si/SiO 2 substrates.
摘要翻译：一种用于从微电子器件基底上的小尺寸清洁颗粒污染物的清洁组合物。清洁组合物含有致密的CO 2（优选超临界CO 2（SCCO 2 2）），醇，氟化物源，阴离子表面活性剂源，离子表面活性剂源和任选的羟基添加剂。清洁组合物能够对Si / SiO 2基体上具有颗粒污染物的基材进行无损伤，无残留的清洗。

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