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    • 2. 发明申请
    • SOURCE RADIOGENE COMPRENANT AU MOINS UNE SOURCE D'ELECTRONS ASSOCIEE A UN DISPOSITIF PHOTOELECTRIQUE DE COMMANDE
    • 包含与光电控制装置组合的最小一个电子源的放射源
    • WO2009092813A1
    • 2009-07-30
    • PCT/EP2009/050809
    • 2009-01-23
    • THALESLEGAGNEUX, PierreHUDANSKI, LudovicPONARD, PascalBOURAT, ChristopheSCHNELL, Jean-Philippe
    • LEGAGNEUX, PierreHUDANSKI, LudovicPONARD, PascalBOURAT, ChristopheSCHNELL, Jean-Philippe
    • H01J35/06
    • H01J35/065H01J2235/062H01J2235/068
    • L'invention concerne une source radiogène comprenant une enceinte à vide (50), des moyens (56h) d'introduction d'une onde optique (56i), une source froide (52) pouvant émettre des électrons (52i) dans le vide par le phénomène de l'émission de champ lorsqu'elle est soumise à un champ, une alimentation (55) fournissant une haute tension électrique, une anode (53) comprenant un matériau (53j) susceptible d'émettre des rayons X (53i) sous l'effet du bombardement électronique et au moins une fenêtre (54) permettant la sortie de rayons X, au moins une source de lumière (56) fournissant ladite onde optique, caractérisée en ce que la source froide comprend au moins un substrat (57) muni d'au moins une surface conductrice (55), et est soumise à un champ électrique résultant de l'application de la haute tension entre au moins une surface conductrice (55) et l'anode (53); ladite source froide comprenant en outre au moins un élément photoconducteur (58) dans lequel le courant est contrôlé sensiblement linéairement par l'illumination et au moins un élément émetteur d'électrons (59), ledit élément photoconducteur (58) étant électriquement connecté en série entre au moins un élément émetteur (59) et une surface conductrice (55), de sorte que le courant photogénéré dans le dispositif photoconducteur est égal à celui émis par l'émetteur ou le groupe d 'émetteurs auquel il est associé, et de sorte que le flux de rayons X émis est sensiblement linéairement dépendant de l'illumination.
    • 本发明涉及一种放射源,其包括真空室(50),用于注入光波(56i)的装置(56h),冷源(52),使得能够通过场发射在真空中发射电子(52i) 其经受场,输送高电压的电源(55),包含能够在电子轰击的作用下发射X射线(53i)的材料(53j)的阳极(53)和至少一个 窗口(54),X射线穿过其中,传送所述光波的至少一个光源(56),其特征在于,所述冷源包括至少一个衬底(57),所述至少一个衬底(57)设置有至少一个导电表面(55)和 受到由至少一个导电表面(55)和阳极(53)之间施加高电压而产生的电场,所述冷源还包括至少一个感光元件(58),其中电流基本线性地受到 照明和至少一个电子 发光元件(59),所述光电导元件(58)串联电连接在至少一个发射元件(59)和导电表面(55)之间,使得在光导器件中产生的电流等于由 发射器或与其相关联的发射器组,并且使得所发射的X射线通量基本上线性地取决于照明。
    • 5. 发明申请
    • PROCEDE DE FABRICATION D'ELECTRODES ET TUBE A VIDE UTILISANT CE PROCEDE
    • 用于制造电极和真空管的方法
    • WO2003054900A2
    • 2003-07-03
    • PCT/FR2002/004272
    • 2002-12-10
    • THALESPONARD, PascalFERRATO, Marc
    • PONARD, PascalFERRATO, Marc
    • H01J
    • H01J9/02
    • L'invention concerne les tubes à vide, et notamment les tubes électroniques. Pour réaliser le tube, et notamment un collecteur d'électrons à plusieurs électrodes (30, 40, 50, 60), on réalise les électrodes sous forme de blocs de céramique à forte conductivité thermique. Les blocs sont superficiellement (au moins) conducteurs de l'électricité. Ils sont de préférence en céramique isolante telle que du nitrure d'aluminium, et sont rendus conducteurs sur une partie de leur surface. La partie superficielle conductrice est de préférence constituée par une céramique conductrice, de préférence à base de nitrure de titane, ou de matériaux céramiques conducteurs similaires. On gagne ainsi en solidité, en capacité d'évacuation de chaleur, et en poids.
    • 本发明涉及真空管,特别是电子管。 本发明涉及一种用于制造管,特别是具有多个电极(30,40,50,60)的电子收集器的方法,其包括以具有高导热性的陶瓷块形式的电极。 这些块具有(至少)导电表面。 它们优选由诸如氮化铝的绝缘陶瓷制成,并且在其一部分表面上导电。 导电表面部分优选由优选基于氮化钛的导电陶瓷或类似的导电陶瓷材料组成。 从而提高了鲁棒性,散热能力和重量。
    • 6. 发明申请
    • DISPOSITIF DE CONVERSION D'UN EFFLUENT GAZEUX PAR PLASMA MULTI-SOURCE
    • 用于通过多源等离子体转换气体流量的装置
    • WO2015150142A1
    • 2015-10-08
    • PCT/EP2015/056097
    • 2015-03-23
    • THALES
    • REGNARD, GuillaumeDARGES, BernardPONARD, Pascal
    • B01D53/32B01D53/79
    • B01D53/323B01D53/79B01D2257/2045B01D2257/2066B01D2257/302B01D2257/304B01D2257/404B01D2257/406B01D2257/504B01D2257/708B01D2258/0216B01D2259/818Y02C20/30
    • L'invention concerne un dispositif de conversion d'un flux de gaz comprenant au moins une espèce polluante à traiter (CF 4 ), caractérisé en ce qu'il comprend une première chambre de plasma (21) munie d'une source de plasma (24) et au moins une seconde chambre de plasma (22) munie d'une source de plasma (26), successivement traversées par le flux de gaz; la première source de plasma (24) étant configurée pour générer un premier plasma capable de dissocier par ionisation au moins partiellement l'au moins une espèce polluante à traiter (CF 4 ); l'au moins une seconde chambre de plasma (22) comprenant des moyens d'injection (28) d'un réactif (H 2 O) participant, au sein d'un second plasma générée par la seconde source (26), à la conversion de l'au moins une espèce polluante au moins partiellement dissociée par le premier plasma. Avantageusement, les moyens d'injection (28) sont configurés pour permettre d'injecter le réactif ((H 2 O) directement dans le second plasma.
    • 本发明涉及一种用于转换含有待处理的至少一种污染化学物质(CF4)的气流的装置,其特征在于,其包括设置有等离子体源(24)的第一等离子体室(21)和至少一个第二 设置有等离子体源(26)的等离子体室(22),所述室具有连续通过的气流; 第一等离子体源(24)被配置为产生能够至少部分地通过电离分解待处理的至少一种污染化学物质(CF4)的第一等离子体; 并且所述至少一个第二等离子体室(22)包括用于注入在所述第二源(26)产生的第二等离子体中有助于所述至少一种污染化学物质在 最少部分地被第一等离子体分解。 有利地,注射装置(28)被配置为使得可以将试剂(H 2 O)直接注入到第二等离子体中。