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    • 8. 发明申请
    • OBERFLÄCHE MIT EINER HAFTUNGSVERMINDERNDEN MIKROSTRUKTUR UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
    • 与用于粘附显微结构和方法及其表面
    • WO2006021507A1
    • 2006-03-02
    • PCT/EP2005/053902
    • 2005-08-08
    • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFTHANSEN, ChristianKRÜGER, UrsusSCHNEIDER, Manuela
    • HANSEN, ChristianKRÜGER, UrsusSCHNEIDER, Manuela
    • C25D5/18
    • C25D5/16C25D5/18
    • Die Erfindung betrifft eine Oberfläche mit eine haftungsvermindernden Mikrostruktur und ein Verfahren zu deren Herstellung. Solche haftungsvermindernden Mikrostrukturen sind bekannt, um beispielsweise unter Ausnutzung des so genannten Lotus-Effektes selbstreinigende Oberflächen auszubilden. Erfindungsgemäss ist es vorgesehen, dass die Oberfläche elektrochemisch mittels Reverse Pulse Plating hergestellt wird, wobei die an sich bekannte Mikrostruktur erzeugt wird und gleichzeitig oder in einem nachgelagerten Verfahrensschritt eine die Mikrostruktur überlagernde Nanostruktur erzeugt wird. Dies lässt sich beispielsweise erreichen, indem die Pulslänge der beim Reverse Pulse Plating verwendeten Strompulse im Millisekundenbereich mit einem Pulslängenverhältnis von grosser 1:3 (anodisch:kathodisch) gewählt wird. Die erzeugte Mikrostruktur, bestehend aus Erhebungen (19) und Vertiefungen (20) wird dann durch um Grössenordnungen kleinere Erhebungen (19n) und Vertiefungen (20n) der Nanostruktur überlagert, wodurch sich der durch die Oberfläche erzielte Lotus-Effekt vorteilhaft verbessern lässt.
    • 本发明涉及一种具有粘合微观结构和它们的制备的方法的表面。 这样粘附的微结构是公知的,以形成自清洁表面,例如,通过利用所谓的荷叶效应。 根据本发明,它提供了表面被反向脉冲电镀的进行电化学产生时,本身已知的微结构中产生并且同时或在随后的工艺步骤中产生纳米结构重叠的微结构。 这可以是例如通过在反向脉冲电镀中使用在毫秒范围内具有大1的脉冲长度比所述电流脉冲的脉冲宽度来实现的:3(阳极:阴极)被选择。 微结构产生的,由突出部(19)和凹陷(20)的随后叠加在纳米结构幅度要小突起(19N)和凹槽(20N)的订单,因此可有利地改进由表面荷叶效应的实现。
    • 9. 发明申请
    • OBERFLÄCHE MIT EINER DIE BENETZBARKEIT VERMINDERNDEN MIKROSTRUKTUR UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
    • 具有润湿性表面减少了对微观结构和方法及其
    • WO2006082218A1
    • 2006-08-10
    • PCT/EP2006/050619
    • 2006-02-02
    • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFTHANSEN, ChristianKRÜGER, UrsusMICHELSEN-MOHAMMADEIN, UrsulaSCHNEIDER, Manuela
    • HANSEN, ChristianKRÜGER, UrsusMICHELSEN-MOHAMMADEIN, UrsulaSCHNEIDER, Manuela
    • C25D15/02C25D5/18C25D5/16
    • C25D5/16C25D5/18C25D15/02
    • Die Erfindung betrifft eine Oberfläche mit eine haftungsver mindernden Mikrostruktur und ein Verfahren zu deren Herstellung. Solche haftungsvermindernden Mikrostrukturen sind bekannt, um beispielsweise unter Ausnutzung des so genannten Lotus-Effektes selbstreinigende Oberflächen auszubilden. Die Oberfläche wird bevorzugt elektrochemisch mittels Reverse Pulse Plating hergestellt, wobei die an sich bekannte Mikrostruktur erzeugt wird und gleichzeitig oder in einem nachgelagerten Verfahrensschritt eine die Mikrostruktur überlagernde Nanostruktur erzeugt wird. Erfindungsgemäß ist es vorgesehen, dass in den Elektrolyten Partikel (21m, 2In) aus Titanoxid zugegeben werden, die mit dem Elektrolyten eine Suspension bilden, derart, dass die Partikel in die die Oberfläche ausbildende Schicht eingebaut werden. Hierdurch kann vorteilhaft eine Oberfläche mit die Benetzbarkeit verringerter Mikro/Nanostruktur erzeugt werden, deren Verschmutzungsneigung durch die an der Oberfläche freiliegenden Titanoxidpartikel zusätzlich verringert ist. Eine Anwendung der Schicht ergibt sich beispielsweise bei Fassadenteilen.
    • 本发明涉及一种具有减少haftungsver微观结构和它们的制备的方法的表面。 这样粘附的微结构是公知的,以形成自清洁表面,例如,通过利用所谓的荷叶效应。 的表面优选通过反向脉冲电镀的进行电化学产生时,本身已知的微结构中产生并且同时或在随后的工艺步骤中产生纳米结构重叠的微结构。 根据本发明,它提供了在电解液中的粒子(21M,2在)加入氧化钛,其形成与所述电解质的悬浮液,使得颗粒被引入到形成层的表面上。 这可以有利地产生具有减少的润湿性微/纳结构的表面,结垢倾向另外通过露出氧化钛颗粒的表面上减少了。 获得层的应用中,例如,在门面的部分。
    • 10. 发明申请
    • OBERFLÄCHE MIT EINER DIE BENETZBARKEIT VERMINDERNDEN MIKROSTRUKTUR UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG
    • 具有润湿性表面减少了对微观结构和方法及其
    • WO2006082179A1
    • 2006-08-10
    • PCT/EP2006/050540
    • 2006-01-31
    • SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFTHANSEN, ChristianKRÜGER, UrsusSCHNEIDER, Manuela
    • HANSEN, ChristianKRÜGER, UrsusSCHNEIDER, Manuela
    • C25D15/02C25D5/18C25D5/16
    • C25D5/16C25D3/02C25D5/18C25D15/02
    • Die Erfindung betrifft eine Oberfläche mit einer haftungsver- mindernden Mikrostruktur und ein Verfahren zu deren Herstellung. Solche haftungsvermindernden Mikrostrukturen sind bekannt, um beispielsweise unter Ausnutzung des so genannten Lotus-Effektes selbstreinigende Oberflächen auszubilden. Erfindungsgemäß ist es vorgesehen, dass bei einer elektrochemischen Herstellung der Schicht in den Elektrolyten Partikel (2In) mit einer oligophoben Oberfläche zugegeben werden, die mit dem Elektrolyten eine Suspension bilden, und/oder Moleküle (21m) mit oligophoben Eigenschaften zugegeben werden, die in dem Elektrolyt in Lösung gehen, derart, dass die Partikel oder Moleküle in die die Oberfläche ausbildende Schicht eingebaut werden. Die erzeugte Mikrostruktur der erfindungsgemäßen Oberfläche mit oligophilen und oligophoben Oberf lächenbereichen, bestehend aus Erhebungen (19) und Vertiefungen (20) kann durch um Größenordnungen kleinere Erhebungen (19n) und Vertiefungen (2On) einer Nanostruktur überlagert sein, wodurch sich der durch die Oberfläche erzielte Lotus-Effekt vorteilhaft verbessern lässt. Eine Anwendung der Oberflächen ist beispielsweise bei der Erdatmosphäre ausgesetzten Bauteilen wie Fassaden oder auch Maschinenteilen möglich, wo sowohl hydrophile als auch oligophile Substanzen mit der Oberfläche in Kontakt treten.
    • 本发明涉及一种表面具有负债减少微观结构和它们的制备的方法。 这样粘附的微结构是公知的,以形成自清洁表面,例如,通过利用所谓的荷叶效应。 根据规定,在电化学制备层向电解质颗粒(2在)用电解质,悬浮液中的oligophoben表面上形成添加了本发明,和/或分子(21米)加入与在oligophoben属性 电解质进入溶液,以使颗粒或分子的表面层形成被并入。 的微观结构,根据本发明的具有oligophilen和oligophoben Oberflächenbereichen包括突起(19)和凹部(20)由幅度要小突起(19N)和凹陷(2开)的顺序的上的纳米结构,由此,由表面的刻痕要叠加产生的表面 可以有利地改善荷叶效应。 表面的应用是可能的,例如,在大气中暴露的部件,诸如正面,或机械零件,有可能发生亲水性和oligophile与接触的表面的物质。