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    • 5. 发明申请
    • KANTENEMITTIERENDER HALBLEITERLASER
    • 边发射半导体激光器
    • WO2011051013A1
    • 2011-05-05
    • PCT/EP2010/062416
    • 2010-08-25
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBHLAUER, ChristianGOMEZ-IGLESIAS, Alvaro
    • LAUER, ChristianGOMEZ-IGLESIAS, Alvaro
    • H01S5/10H01S5/20H01S5/042H01S5/32H01S5/40
    • H01S5/0655H01S5/02284H01S5/0425H01S5/10H01S5/1082H01S5/2004H01S5/2018H01S5/2036H01S5/2081H01S5/2086H01S5/209H01S5/3211H01S5/3213H01S5/323H01S5/4031H01S2301/166H01S2301/176H01S2301/18
    • Es wird ein kantenemittierender Halbleiterlaser mit einem Halbleiterkörper (10) angegeben, der einen Wellenleiterbereich (4) aufweist, wobei der Wellenleiterbereich (4) eine erste Wellenleiterschicht (2A), eine zweite Wellenleiterschicht (2B) und eine zwischen der ersten Wellenleiterschicht (2A) und der zweiten Wellenleiterschicht (2B) angeordnete aktive Schicht (3) zur Erzeugung von Laserstrahlung (17) aufweist, der Wellenleiterbereich (4) zwischen einer ersten Mantelschicht (1A) und einer dem Wellenleiterbereich (4) in Wachstumsrichtung des Halbleiterkörpers (10) nachfolgenden zweiten Mantelschicht (1B) angeordnet ist, in dem Halbleiterkörper (10) eine Phasenstruktur (6) zur Selektion lateraler Moden der von der aktiven Schicht (3) emittierten Laserstrahlung ausgebildet ist, wobei die Phasenstruktur (6) mindestens eine Ausnehmung (7) umfasst, die sich von einer Oberfläche (5) des Halbleiterkörpers (10) in die zweite Mantelschicht (1B) hinein erstreckt, in die zweite Mantelschicht (1B) mindestens eine erste Zwischenschicht (11) aus einem von dem Halbleitermaterial der zweiten Mantelschicht (1B) verschiedenen Halbleitermaterial eingebettet ist, und sich die Ausnehmung (7) von der Oberfläche (5) des Halbleiterkörpers (10) zumindest teilweise bis in die erste Zwischenschicht (11) erstreckt.
    • 提供了一种边发射半导体激光器包括具有波导区域的半导体主体(10)(4),其中,所述波导区(4)包括第一波导层(2A),第二波导层(2B)与第一波导层之间(2A)和 具有第二波导层(2B)(3)为第二包覆层之下产生激光辐射(17),一个第一包层(1A)和在半导体本体(10)的生长方向的波导区域(4)之间的波导区域(4)布置的有源层 (1B)被布置在所述半导体主体(10),一个相结构(6)(3)形成所发射的激光辐射的有源层的横向模式的选择中,所述相位结构(6)包括(7)延伸的至少一个凹部 从表面(5)在所述第二包覆层(1B)的半导体主体(10)的,延伸到第二Mantelschich 吨第二包层(1B)不同的半导体材料的半导体材料中的一个的(1B)嵌入在至少一个第一中间层(11)和所述凹部(7)的表面(5)的半导体主体(10)至少部分地进入所述的 第一中间层(11)。
    • 8. 发明申请
    • HALBLEITERLASERDIODE
    • 激光二极管半导体
    • WO2013079346A1
    • 2013-06-06
    • PCT/EP2012/073004
    • 2012-11-19
    • OSRAM OPTO SEMICONDUCTORS GMBH
    • LAUER, ChristianKÖNIG, HaraldSTRAUSS, UweBACHMANN, Alexander
    • H01S5/024H01S5/10H01S5/20H01S5/042H01S5/022
    • H01S5/02469H01S5/0224H01S5/024H01S5/02461H01S5/0425H01S5/10H01S5/1064H01S5/2036H01S5/2054
    • Es wird eine Halbleiterlaserdiode mit den folgenden Merkmalen angegeben : eine Halbleiterschichtenfolge (2) mit vertikal übereinander aufgebrachten Halbleiterschichten (21, 22, 23, 25, 26) mit einer aktiven Schicht (23), die einen aktiven Bereich (24) mit einer Breite von größer oder gleich 30 μm aufweist, der im Betrieb Laserstrahlung über eine Strahlungsauskoppelfläche (11) abstrahlt, wobei die Strahlungsauskoppelfläche (11) durch eine Seitenfläche der Halbleiterschichtenfolge (2) gebildet wird und mit einer gegenüberliegenden Rückseitenfläche (12) einen Resonator mit lateraler Gewinnführung in einer longitudinalen Richtung bildet und wobei die Halbleiterschichtenfolge (2) durch den Betrieb in einem thermischen Einflussbereich (29) erwärmt wird, eine Metallisierungsschicht (3) in direktem Kontakt mit einer Oberseite (20) der Halbleiterschichtenfolge (2), wobei die Oberseite (20) durch eine Halbleiterdeckschicht (25) gebildet wird, und eine strukturierte Wärme ableitende Schicht (4) auf der Oberseite (20) der Halbleiterschichtenfolge (2), wobei die strukturierte Wärme ableitende Schicht (4) zumindest die Metallisierungsschicht (3) aufweist, wobei die Metallisierungsschicht (3) eine kumulierte Breite (B1) aufweist und das Verhältnis der kumulierten Breite (B1) zu einer Breite (B2) des thermischen Einflussbereichs (29) in Abhängigkeit von einem Abstand zur Strahlungsauskoppelfläche (11) variiert, wobei die strukturierte Wärme ableitende Schicht (4) eine Wärmeableitung aus dem aktiven Bereich (24) ermöglicht, die entlang einer longitudinalen und/oder lateralen Richtung variiert.
    • 提供了一种具有以下特征的半导体激光二极管:半导体层序列(2)与具有具有一个宽度的有源层(23),有源区(24)上下重叠淀积的半导体层(21,22,23,25,26) 包括大于或等于30妈妈,其通过辐射(11),其中形成穿过所述半导体层序列(2)的一个侧表面上的辐射(11)和相对的后表面在操作发射激光辐射(12)包括具有在侧向增益引导的谐振器 形式纵向方向,并且其中所述半导体层序列(2)通过操作在热影响区(29),金属化层加热(3)与该半导体层序列的上表面(20)(2),其中,所述顶表面(20)通过直接接触 形成在半导体层(25),并且图案化的散热 在半导体层序列(2)的顶部(20),其中,在金属化层构图的散热层(4)至少(3),所述金属化层(3)具有的累积宽度(B1)和之比层(4) 累积宽度(B1)到的热影响区(29)的宽度(B2)响应于来自所述辐射去耦合表面的距离(11)而变化,其中该图案化散热层(4),能够使散热从有源区域(24) 沿纵向和/或横向方向上变化。