专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2008031604A1 VERFAHREN ZUM AUFBRINGEN VON SCHICHTEN AUF SUBSTRATE MIT GEKRÜMMTEN OBERFLÄCHEN 审中-公开
标题翻译：申请的程序LAYERS与曲表面的基底
公开(公告)号：WO2008031604A1
公开(公告)日：2008-03-20
申请号：PCT/EP2007/008009
申请日：2007-09-14
申请人： LEYBOLD OPTICS GMBH , BECKMANN, Rudolf , FUHR, Markus , KLOSCH, Michael
发明人： BECKMANN, Rudolf , FUHR, Markus , KLOSCH, Michael
IPC分类号： C23C16/513 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/4558 , C23C16/513
摘要： Die Erfindung betrifft Verfahren zur Abscheidung von Schichten mit gleichmäßiger Schichtdickenverteilung auf zumindest einer gekrümmten Oberfläche eines Substrates (6) mittels eines Plasma-CVD-Prozesses, bei welchem ein Plasma- oder lonenstrahl (1) in Richtung zur Substratoberfläche durch eine dem Substrat (6) gegenüberliegende Plasma- oder lonenstrahlquelle (7) erzeugt wird, ein Prozessgas über ein Gaszufuhrsystem (12) stromab der Plasma- oder lonenstrahlquelle (7) eingelassen wird, wobei das Prozessgas mittels des Gaszufuhrsystems (12) definiert an der Oberfläche (14) des Substrates (6) verteilt wird und ein Gasfluss des Anregungsgases und eine Plasmaleistung der Plasma- oder lonenstrahlquelle eingestellt werden, bei welchen die Prozessgasmenge durch das angeregte Anregungsgas des Plasma- oder lonenstrahls an der Oberfläche des Substrates nahezu vollständig umgesetzt wird.
摘要翻译：本发明涉及一种用于沉积由等离子体CVD法的装置具有在衬底（6）中的至少一个弯曲表面的均匀的膜厚分布层的方法，其中，等离子体或离子束（1）的方向与基片表面由基板（6）相对的等离子体或离子束源（7）被产生，经由气体供给系统的工艺气体（12）在等离子体或离子束源（7）被接纳，其中，所述处理气体由气体供给系统（12）在基板的表面（14）上的装置（限定的下游 6）是分布式的，并且激发气体的气体流量，等离子体或离子束源的等离子体功率被调整，其中工艺气体通过所述衬底的所述表面上的等离子体或离子束的激发激励气体量几乎完全反应。

2. 发明申请

WO2006045527A1 VERFAHREN UND EINE VORRICHTUNG ZUR HERSTELLUNG EINER TOPCOATSCHICHT 审中-公开
标题翻译：方法和设备用于生产面漆
公开(公告)号：WO2006045527A1
公开(公告)日：2006-05-04
申请号：PCT/EP2005/011286
申请日：2005-10-20
申请人： LEYBOLD OPTICS GMBH , ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus , ELLER, Detlev
发明人： ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus , ELLER, Detlev
IPC分类号： G02B1/10 , C23C14/12 , C23C14/24 , C23C14/50
CPC分类号： G02B1/18 , C23C14/12 , C23C14/505 , C23C14/564 , G02B1/105 , G02B1/11 , G02B27/0006
摘要： Bei dem Verfahren zur Herstellung einer Topcoatschicht auf zumindest einem Substrat mittels Verdampfen eines Topcoatmaterials in einer Vakuumkammer, welche einen Verdampfungscontainer zum Verdampfen des Topcoatmaterials aufweist, ist vorgesehen, dass während des Verdampfens zumindest ein Substrat um eine Achse bewegt wird, welche relativ zu einer Hauptverdampfungsrichtung einen Winkel in einem Bereich größer 0° bis 90° aufweist. Ferner ist vorgesehen, dass die Topcoatschicht auf eine in ein Rahmengestell eingebaute Linse aufgebracht wird. Bei der Vorrichtung ist eine Substrathalterung vorgesehen, mittels der während des Verdampfens zumindest ein Substrat um eine Achse bewegbar ist, die relativ zu einer Hauptverdampfungsrichtung einen Winkel in einem Bereich größer 0° bis 90° aufweist und/oder eine Halterung für zumindest ein Rahmengestell, in welches zumindest eine Linse einbaubar ist.
摘要翻译：在用于至少通过在真空室中，其具有用于蒸发Topcoatmaterials一个蒸发容器汽化Topcoatmaterials在基底上产生的面涂层的方法中，提供了至少一个衬底被移动约蒸发期间的轴，其具有相对于蒸发的主方向角具有在区域大于0°至90°。还可以设想的是，顶涂层施加到内置帧透镜。在该设备中，提供了一种衬底保持器，其中至少一个基片的蒸发过程中使用可绕轴线旋转，其具有相对于主蒸发方向的范围大于0°至90°和/或用于至少一个帧的保持件的角度，在一个透镜是至少安装。

3. 发明申请

WO2004108977A3 VAKUUMBESCHICHTUNGSANLAGE UND EIN VERFAHREN ZUM ZONENWEISE BESCHICHTEN VON BRILLENGLÄSERN 审中-公开
公开(公告)号：WO2004108977A3
公开(公告)日：2004-12-16
申请号：PCT/DE2004/001138
申请日：2004-06-03
申请人： LEYBOLD OPTICS GMBH , ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus
发明人： ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus
IPC分类号： C23C14/50
摘要： Um z. B. Brillengläser (4) mit einer Beschichtung, die einen ungleichmässigen Verlauf aufweist, zu versehen, sind Blenden vorgesehen. Gemäss der Erfindung handelt es sich dabei um Blendenringe (10), die mittels eines Blendenhalters oberhalb des Verdampfertiegels (6) einer Vakuumbeschichtungsanlage konzentrisch zu einer Symmetrieachse des Verdampfertiegels (6) angeordnet sind. Die Brillengläser (4) sind an einem Substrathalter (1) ebenfalls auf Kreisen (3) um die Symmetrieachse angeordnet, wobei der Schatten, den die Blendenringe (10) werfen, jeweils nur eine Teilzone der Brillengläser (4) erfasst, so dass sie dort schwächer beschichtet werden als in den nicht abgeschatteten Freizonen. Um den Beschichtungsverlauf an die jeweilige Kundenanforderung anzupassen, sind die Blendenringe (10) austauschbar. Ausserdem ist der Abstand des Substrathalters (1) zu den Blendenringen (10) verstellbar.

4. 发明申请

WO2006100056A2 BESCHICHTETES SUBSTRAT MIT EINER TEMPORÄREN SCHUTZSCHICHT SOWIE VERFAHREN ZU SEINER HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：根据上述制造的临时保护涂布和方法涂布底材
公开(公告)号：WO2006100056A2
公开(公告)日：2006-09-28
申请号：PCT/EP2006/002629
申请日：2006-03-22
申请人： LEYBOLD OPTICS GMBH , ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus , VIET, Manfred , NAUENBURG, Klaus
发明人： ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus , VIET, Manfred , NAUENBURG, Klaus
IPC分类号： C03C17/34
CPC分类号： C23C14/0694 , C03C17/3411 , C03C17/3447 , C03C17/3458 , C03C2218/355 , C23C14/22 , G02B1/105 , G02B1/14 , G02B1/18 , Y10T428/265
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines beschichteten Substrates, bei welchem auf das Substrat zumindest eine Funktionsschicht mit Hilfe chemischer oder physikalischer Abscheidung eines Beschichtungsmaterials aus der Dampfphase aufgebracht wird und auf die Funktionsschicht eine temporäre Schutzschicht durch Verdampfen eines Salzes, insbesondere eines Alkalimetall-Halogenids, aufgebracht wird sowie ein beschichtetes Substrat mit zumindest einer Funktionsschicht und einer auf die Funktionsschicht aufgebrachten temporären Schutzschicht, welche ein Salz, insbesondere ein Alkalimetall-Halogenid, vorzugsweise ein salzartiges Alkalimetall-Halogenid und insbesondere Natriumchlorid umfasst.
摘要翻译：本发明涉及一种用于制造涂覆的基材，该方法包括通过盐的蒸发，尤其是碱金属卤化物施加到被施加至少与来自气相的涂层材料的化学或物理沉积的辅助功能层基板和所述功能层的临时保护涂层，被施加，以及具有至少一个功能层和施加到所述临时保护层的功能层的涂覆基材包含盐，尤其是碱金属卤化物，优选为盐的类似的碱金属卤化物，尤其是氯化钠。

5. 发明申请

WO2005098082A2 VORRICHTUNG ZUM BEIDSEITIGEN BESCHICHTEN VON SUBSTRATEN MIT EINER HYDROPHOBEN SCHICHT 审中-公开
标题翻译： DEVICE双方涂布基材具有疏水层
公开(公告)号：WO2005098082A2
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/EP2005/003432
申请日：2005-04-01
申请人： CARL ZEISS VISION GMBH , LEYBOLD OPTICS GMBH , ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus , WINTER, Karl-Heinz , WICHT, Manfred
发明人： ZÜLTZKE, Walter , FUHR, Markus , WINTER, Karl-Heinz , WICHT, Manfred
IPC分类号： C23C14/50
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/32
摘要： Eine Vorrichtung zum beidseitigen Beschichten von Substraten (10) mit einer hydrophoben Schicht in einer Vakuumbeschichtungsanlage (20) weist einen Substrathalter (26) auf. Auf einer Seite des Substrathalter (26) ist ein erster Verdampfer (48) zum verdampfen eines die hydrophobe Schicht bildenden Stoffes angeordnet. Auf der dieser Seite gegenüberliegenden anderen Seite ist ein zweiter Verdampfer (50) angeordnet.
摘要翻译：用于在真空涂层系统（20）涂覆有疏水层基板（10）的两侧的装置包括：衬底保持器（26）。在基片架（26）的一侧上，第一蒸发器（48），用于蒸发是位于所述疏水层形成材料。在另一侧相对的一侧，第二蒸发器（50）被布置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式