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    • 2. 发明申请
    • VERFAHREN, VORRICHTUNG UND SOFTWARE ZUR OPTISCHEN INSPEKTION EINES HALBLEITERSUBSTRATS
    • 方法,设备和软件的半导体衬底进行光学检查
    • WO2004074822A1
    • 2004-09-02
    • PCT/EP2004/000154
    • 2004-01-13
    • LEICA MICROSYSTEMS SEMICONDUCTOR GMBHMICHELSSON, Detlef
    • MICHELSSON, Detlef
    • G01N21/956
    • G01N21/9501G01D1/14G06T7/0004G06T2207/30148
    • Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur optischen Inspektion der Oberfläche eines Halbleitersubstrats. Von der Oberfläche des mit einer dünnen Schicht überzogenen Halbleitersubstrats wird ein Bild aufgenommen (1), das aus einer Mehrzahl von Bildpunkten mit zugeordneten Farbwerten und Intensitäten aufgebaut ist. Aus den Farbwerten wird in einem Farbraum (2), der von einer Farbintensität und von Farbkoordinaten aufgespannt wird, eine Häufigkeitsverteilung von Bildpunkten mit gleichen Farbkoordinatenwerten berechnet (3,4,5). Die so berechnete Häufigkeitsverteilung wird für einen Vergleich mit einer zweiten entsprechend berechneten Häufigkeitsverteilung oder einer aus dieser abgeleiteten Grösse verwendet (7, 9). Erfindungsgemäss lassen sich so Farbverschiebung (9) und/oder Differenzen (7) in der Farbverteilung unabhängig von Schwankungen in der Helligkeit der Beleuchtung ermitteln. Die Erfindung betrifft ferner ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Herstellung eines strukturierten Halbleitersubstrats unter Verwendung des vorgenannten Verfahrens bzw. der vorgenannten Vorrichtung sowie eine Software zum Durchführen des Verfahrens.
    • 本发明涉及一种方法和用于在半导体衬底的表面的光学检查的装置。 捕获的图像(1),它由多个具有从涂覆的表面相关联的颜色值和强度与半导体基板的薄层像素组成。 从色值是在颜色空间(2),其由颜色强度和颜色坐标,具有相同颜色的坐标计算出的(3,4,5)的像素值的频率分布跨越。 将由此计算出的频率分布被用作用于与第二对应的计算的频率分布或比较从这个量导出的变量(7,9)。 根据本发明,可以在背光源的亮度,而不管变化的确定,以便色移(9)和/或颜色分布差异(7)。 本发明还涉及一种方法,以及使用上述方法或上述装置,以及用于执行该方法的软件的图案化半导体衬底的装置。