专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2005091072A1 ネガ型感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：负辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005091072A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/JP2005/005417
申请日：2005-03-24
申请人： JSR株式会社 , 西川耕二 , 木村徹 , 岩永伸一郎
发明人：西川耕二 , 木村徹 , 岩永伸一郎
IPC分类号： G03F7/033
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/033 , Y10S430/107 , Y10S430/111 , Y10S430/117 , Y10S430/119 , Y10S430/12 , Y10S430/121 , Y10S430/126
摘要：　本発明は、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度、解像度などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供することを課題とする。　上記課題の解決手段は、(Ａ)下記一般式（１）および／または（２）で表される構造単位を含有する重合体、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物およびこの組成物を用いたネガ型感放射線性樹脂膜を製造することである。 [化１]
摘要翻译：一种用于高精度成型的电镀成型件，例如凸块或布线的工艺; 适用于该工艺的灵敏度，分辨能力等优异的负辐射敏感性树脂组合物; 以及利用该组合物的转印膜。提供一种负辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）含有由以下通式（1）和/或（2）表示的结构单元的聚合物，（B）具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物和（C）辐射敏感自由基聚合引发剂。此外，提供了由该组合物生产负辐射敏感性树脂膜。

2. 发明申请

WO2005091074A1 ポジ型感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：正确的辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005091074A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/JP2005/005398
申请日：2005-03-24
申请人： JSR株式会社 , 西川耕二 , 岩永伸一郎
发明人：西川耕二 , 岩永伸一郎
IPC分类号： G03F7/039
CPC分类号： G03F7/405 , C08F220/18 , C08F220/30 , C08F220/58 , C08L33/066 , C08L33/26 , C25D5/022 , G03F7/0392 , G03F7/40 , H01L24/11 , H01L2224/13099 , H01L2924/01004 , H01L2924/01005 , H01L2924/01006 , H01L2924/01015 , H01L2924/01019 , H01L2924/01023 , H01L2924/01024 , H01L2924/01027 , H01L2924/01029 , H01L2924/01033 , H01L2924/01074 , H01L2924/01078 , H01L2924/01079 , H01L2924/12044 , H01L2924/14 , H01L2924/1433 , C08L2666/04 , H01L2924/00
摘要： A production process by which thick deposits, such as bumps or wirings, can be formed by plating with satisfactory precision; a positively radiation-sensitive resin composition which is suitable for use in the production process and is excellent in sensitivity, resolution, etc.; and a transfer film comprising the composition. The positively radiation-sensitive resin composition comprises (A) a polymer having structural units (a) represented by the following general formula (1) and/or (2) and an acid-dissociable functional group (b), (B) an ingredient which generates an acid upon irradiation with a radiation, and (C) an organic solvent. A positively radiation-sensitive resin film comprising the composition can also be produced.
摘要翻译：可以通过电镀以令人满意的精度形成诸如凸起或布线的厚沉积物的生产工艺; 适用于生产工艺，灵敏度，分辨率等优异的正性辐射敏感性树脂组合物; 以及包含该组合物的转印膜。正性辐射敏感性树脂组合物包含（A）具有由以下通式（1）和/或（2）表示的结构单元（a）和酸解离官能团（b）的聚合物，（B）成分其在用辐射照射时产生酸，和（C）有机溶剂。也可以制造包含该组合物的正性辐射敏感性树脂膜。

3. 发明申请

WO2008093507A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2008093507A1
公开(公告)日：2008-08-07
申请号：PCT/JP2008/050010
申请日：2008-01-07
申请人： JSR株式会社 , 鬼丸奈美 , 西川耕二
发明人：鬼丸奈美 , 西川耕二
IPC分类号： G03F7/027 , C08F2/44 , C08F20/20 , G03F7/004 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/027 , C08F20/20 , G03F7/0045 , G03F7/40
摘要：　本発明のネガ型感放射線性樹脂組成物は、（Ａ）アルカリ可溶性樹脂、（Ｂ）エチレン性不飽和二重結合を２個以上有し、かつ少なくとも２つのエチレン性不飽和二重結合を連結する２価の有機基が酸の作用により分解する特定の基を少なくとも１個有する化合物、（Ｃ）酸発生剤、および（Ｄ）感放射線性ラジカル重合開始剤を含有することを特徴とする。　本発明によれば、パターニング部分の樹脂の機械強度が高く、所望の形状が容易に得られ、また、アルカリ性条件下でもメッキできるだけでなく、レジストのパターニング部分を剥離する際にも、一般的な溶剤で容易に剥離できる、ネガ型レジストが提供される。
摘要翻译：公开了一种负型辐射敏感性树脂组合物，其包含：（A）碱溶性树脂; （B）具有至少两个烯键式不饱和双键的化合物和将至少两个烯属不饱和双键彼此连接的二价有机基团，其中该有机基团具有至少一个特定的基团，其可以通过酸; （C）酸发生剂; 和（D）辐射敏感的自由基聚合引发剂。可以提供能够提供具有高机械强度的图案化树脂区域的负型抗蚀剂，可以容易地形成所需图案并且可以在碱性条件下镀覆，并且可以用常规使用的溶剂容易地除去其图案化区域。

4. 发明申请

WO2004090637A1 感光性樹脂膜およびこれからなる硬化膜审中-公开
标题翻译：光敏树脂膜和固化膜
公开(公告)号：WO2004090637A1
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：PCT/JP2004/004155
申请日：2004-03-25
申请人： JSR株式会社 , 岩永伸一郎 , 木村徹 , 西川耕二
发明人：岩永伸一郎 , 木村徹 , 西川耕二
IPC分类号： G03F7/033
CPC分类号： G03F7/031 , C08L33/04 , G03F7/029 , G03F7/033 , Y10S430/111 , Y10S430/121 , Y10S430/124 , C08L2666/02
摘要：　本発明の未硬化状態の感光性樹脂膜は、（Ａ）特定のアルカリ可溶性共重合体と、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、（Ｃ）乾燥膜厚７０μｍの未硬化状態の塗膜を形成したときに該塗膜の３６５ｎｍの放射線透過率が１０％以上であり、かつ４０５ｎｍの放射線透過率が６０％以上となるような放射線ラジカル重合開始剤とを含有してなり、　前記（Ａ）成分１００重量部に対して、前記放射線ラジカル重合開始剤（Ｃ）を２０～４０重量部の量で含み、乾燥膜厚が５０μｍ以上であることを特徴としており、これによれば、従来、形成することが困難であった、高さ５０μｍ以上の高バンプをチップ基材上に高精度かつ容易に形成でき、素子の接続不良を抑制し、素子の信頼性を向上することができる。
摘要翻译：由（A）特定碱溶性共聚物，（B）具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物组成的组合物制成的未固化的感光性树脂膜和（C）能够形成在365nm处具有10％以上的透射率，在405nm下的透射率为60％以上的干膜厚度为70μm的未固化涂膜，其特征在于，所述引发剂（C）的含量为20〜40 相对于共聚物（A）100重量份，该膜的干膜厚度为50μm以上。本发明能够在芯片基板上容易且精确地形成高达50um或更高的凸块，这在现有技术中是困难的，因此提供了防止互连故障并具有增强的可靠性的装置。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式