专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2005091072A1 ネガ型感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：负辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2005091072A1
公开(公告)日：2005-09-29
申请号：PCT/JP2005/005417
申请日：2005-03-24
申请人： JSR株式会社 , 西川耕二 , 木村徹 , 岩永伸一郎
发明人：西川耕二 , 木村徹 , 岩永伸一郎
IPC分类号： G03F7/033
CPC分类号： G03F7/40 , G03F7/033 , Y10S430/107 , Y10S430/111 , Y10S430/117 , Y10S430/119 , Y10S430/12 , Y10S430/121 , Y10S430/126
摘要：　本発明は、バンプあるいは配線などの厚膜のメッキ造形物を精度よく形成することができる製造方法、この製造方法に好適な感度、解像度などに優れるネガ型感放射線性樹脂組成物、および該組成物を用いた転写フィルムを提供することを課題とする。　上記課題の解決手段は、(Ａ)下記一般式（１）および／または（２）で表される構造単位を含有する重合体、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物、および（Ｃ）感放射線性ラジカル重合開始剤を含有するネガ型感放射線性樹脂組成物およびこの組成物を用いたネガ型感放射線性樹脂膜を製造することである。 [化１]
摘要翻译：一种用于高精度成型的电镀成型件，例如凸块或布线的工艺; 适用于该工艺的灵敏度，分辨能力等优异的负辐射敏感性树脂组合物; 以及利用该组合物的转印膜。提供一种负辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）含有由以下通式（1）和/或（2）表示的结构单元的聚合物，（B）具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物和（C）辐射敏感自由基聚合引发剂。此外，提供了由该组合物生产负辐射敏感性树脂膜。

2. 发明申请

WO2004090637A1 感光性樹脂膜およびこれからなる硬化膜审中-公开
标题翻译：光敏树脂膜和固化膜
公开(公告)号：WO2004090637A1
公开(公告)日：2004-10-21
申请号：PCT/JP2004/004155
申请日：2004-03-25
申请人： JSR株式会社 , 岩永伸一郎 , 木村徹 , 西川耕二
发明人：岩永伸一郎 , 木村徹 , 西川耕二
IPC分类号： G03F7/033
CPC分类号： G03F7/031 , C08L33/04 , G03F7/029 , G03F7/033 , Y10S430/111 , Y10S430/121 , Y10S430/124 , C08L2666/02
摘要：　本発明の未硬化状態の感光性樹脂膜は、（Ａ）特定のアルカリ可溶性共重合体と、（Ｂ）少なくとも１個のエチレン性不飽和二重結合を有する化合物と、（Ｃ）乾燥膜厚７０μｍの未硬化状態の塗膜を形成したときに該塗膜の３６５ｎｍの放射線透過率が１０％以上であり、かつ４０５ｎｍの放射線透過率が６０％以上となるような放射線ラジカル重合開始剤とを含有してなり、　前記（Ａ）成分１００重量部に対して、前記放射線ラジカル重合開始剤（Ｃ）を２０～４０重量部の量で含み、乾燥膜厚が５０μｍ以上であることを特徴としており、これによれば、従来、形成することが困難であった、高さ５０μｍ以上の高バンプをチップ基材上に高精度かつ容易に形成でき、素子の接続不良を抑制し、素子の信頼性を向上することができる。
摘要翻译：由（A）特定碱溶性共聚物，（B）具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物组成的组合物制成的未固化的感光性树脂膜和（C）能够形成在365nm处具有10％以上的透射率，在405nm下的透射率为60％以上的干膜厚度为70μm的未固化涂膜，其特征在于，所述引发剂（C）的含量为20〜40 相对于共聚物（A）100重量份，该膜的干膜厚度为50μm以上。本发明能够在芯片基板上容易且精确地形成高达50um或更高的凸块，这在现有技术中是困难的，因此提供了防止互连故障并具有增强的可靠性的装置。

3. 发明申请

WO2003069410A1 感放射線性樹脂組成物审中-公开
标题翻译：辐射敏感性树脂组合物
公开(公告)号：WO2003069410A1
公开(公告)日：2003-08-21
申请号：PCT/JP2002/013072
申请日：2002-12-13
申请人：ジェイエスアール株式会社 , 岩永伸一郎 , 岩本聡 , 木村徹 , 西村洋子 , 西川耕ニ
发明人：岩永伸一郎 , 岩本聡 , 木村徹 , 西村洋子 , 西川耕ニ
IPC分类号： G03F7/027
CPC分类号： G03F7/033 , G03F7/405
摘要： A radiation-sensitive resin composition comprising (A) an alkali-soluble resin having unsaturated groups which is obtained by reacting 100 parts by weight of a copolymer comprising 1 to 40 wt% of constituent units derived from a radical -polymerizable compound (a) having a carboxyl group, 1 to 50 wt% of constituent units having phenolic hydroxyl groups which are derived from a radical-polymerizable compound (b-1) having a phenolic hydroxyl group or a radical-polymerizable compound (b-2) having a functional group which can be converted into phenolic hydroxyl after the formation of the copolymer, and the balance of constituent units derived from other radical -polymerizable compound (c) with 0.1 to 20 parts by weight of a radical-polymerizable compound (d) having an epoxy group, (B) a compound having at least one ethylenically unsaturated double bond, and (C) a polymerization initiator for radiation- initiated radical polymerization. The composition is characterized by forming a radiation-sensitive resin coating film having a thickness larger than the height of a deposit and high resolution.
摘要翻译：一种辐射敏感性树脂组合物，其包含（A）具有不饱和基团的碱溶性树脂，其通过使100重量份的共聚物与100重量％的衍生自可自由基聚合的化合物（a）的构成单元共聚而成，羧基，1〜50重量％的具有酚羟基的构成单元衍生自具有酚羟基的自由基聚合性化合物（b-1）或具有官能团的自由基聚合性化合物（b-2）其可以在形成共聚物后转化为酚羟基，其余由其它可自由基聚合的化合物（c）衍生的结构单元与0.1〜20重量份具有环氧基的自由基聚合性化合物（d），（B）具有至少一个烯键式不饱和双键的化合物，和（C）用于辐射引发自由基聚合的聚合引发剂。该组合物的特征在于形成厚度大于沉积物的高度和高分辨率的辐射敏感性树脂涂膜。

4. 发明申请

WO2006035790A1 共重合体および上層膜形成組成物审中-公开
标题翻译：共聚物和上胶膜组合物
公开(公告)号：WO2006035790A1
公开(公告)日：2006-04-06
申请号：PCT/JP2005/017790
申请日：2005-09-28
申请人： JSR株式会社 , 千葉隆 , 木村徹 , 宇高友広 , 中川大樹 , 榊原宏和 , 堂河内寛
发明人：千葉隆 , 木村徹 , 宇高友広 , 中川大樹 , 榊原宏和 , 堂河内寛
IPC分类号： C08F220/10 , G03F7/11 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/11 , C08F220/18 , C08F220/26 , C08F220/38 , C08F228/00 , G03F7/2041
摘要： Disclosed is an upper film-forming composition which enables to form a coating film on a photoresist without causing intermixing with the photoresist film and to maintain a stable coating film without dissolving into a medium used during immersion exposure. The upper film-forming composition is also capable to form an upper layer which enables to obtain a pattern shape that is not inferior to the one obtained by a process other than immersion exposure, namely a dry exposure and can be easily dissolved in an alkaline developer. Also disclosed is a copolymer containing a repeating unit having a group represented by the general formula (1) below, a repeating unit having a group represented by the general formula (2) below, at least one repeating unit (I) selected from repeating units having a carboxyl group, and a repeating unit (II) having a sulfo group, and having a weight average molecular weight of 2,000-100,000 determined by gel permeation chromatography. (1) (2) At least one of R
摘要翻译：公开了一种能够在光致抗蚀剂上形成涂膜而不会与光致抗蚀剂膜混合并且保持稳定的涂膜而不溶解于浸渍曝光期间使用的介质的上成膜组合物。上部成膜组合物也能够形成上层，其能够获得不劣于通过浸渍曝光以外的方法获得的图案形状，即干燥曝光并且可以容易地溶解在碱性显影剂中。还公开了含有具有下述通式（1）所示基团的重复单元，具有下述通式（2）所示基团的重复单元，至少一个选自重复单元具有羧基的重复单元（II）和具有磺基的重复单元（II），并且通过凝胶渗透色谱测定其重均分子量为2,000-100,000。（1）（2）至少有一个R

5. 发明申请

WO2005069076A1 液浸用上層膜形成組成物およびフォトレジストパターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于液体浸渍的上层膜形成组合物和形成光电子图案的方法
公开(公告)号：WO2005069076A1
公开(公告)日：2005-07-28
申请号：PCT/JP2005/000346
申请日：2005-01-14
申请人： JSR株式会社 , 木村徹 , 西村幸生 , 宇高友広 , 根本宏明 , 中村敦 , 千葉隆 , 中川大樹
发明人：木村徹 , 西村幸生 , 宇高友広 , 根本宏明 , 中村敦 , 千葉隆 , 中川大樹
IPC分类号： G03F7/11
CPC分类号： G03F7/2041 , C08F214/182 , C08F214/186 , C08F216/10 , C08F220/18 , C08F220/24 , G03F7/11 , C08F220/06 , C08F2222/1013
摘要：【課題】　２４８ｎｍ（ＫｒＦ）および１９３ｎｍ（ＡｒＦ）の露光波長での十分な透過性と、フォトレジスト膜とインターミキシングを起こすことなくフォトレジスト上に被膜を形成でき、さらに液浸露光時の水に溶出することなく安定な被膜を維持し、かつアルカリ現像液に容易に溶解する上層膜を形成する。【解決手段】　レンズとフォトレジスト膜との間に水を介して放射線照射する液浸露光装置を用いるときに、上記フォトレジスト膜に被覆される組成物であって、この組成物は、放射線照射時に水に安定な膜を形成し、その後の現像液に溶解する樹脂と、炭素数６以下の１価アルコールを含む溶媒とからなり、特に上記樹脂が、少なくともα位にフルオロアルキル基を有するアルコール性水酸基をその側鎖に有する樹脂成分を含む。
摘要翻译： [问题]为了实现248nm（KrF）和193nm（ArF）波长的曝光光的令人满意的透射率，以在光致抗蚀剂上实现膜的形成而不与光致抗蚀剂膜混合，以保持稳定的膜而不溶解在液态曝光中的水中，并形成容易溶于碱性显影剂的上层膜。 [解决问题的手段]提供了一种组合物，其中，在使用其中透镜与光致抗蚀剂膜之间的水进行放射线曝光的液浸光学曝光单元时，涂覆光致抗蚀剂膜，该组合物包含能够在暴露于辐射并且可溶于后续的显影剂和含有C6或更少的一元醇的溶剂中形成对水稳定的膜的树脂。特别地，上述树脂包含其侧链中具有醇羟基的树脂组分，并且至少在其α-位上具有氟烷基。

6. 发明申请

WO2005116776A1 微細パターン形成用樹脂組成物および微細パターン形成方法审中-公开
标题翻译：用于形成精细图案的树脂组合物和形成细小图案的方法
公开(公告)号：WO2005116776A1
公开(公告)日：2005-12-08
申请号：PCT/JP2005/009394
申请日：2005-05-24
申请人： JSR株式会社 , 榊原宏和 , 安陪毅由 , 千葉隆 , 木村徹
发明人：榊原宏和 , 安陪毅由 , 千葉隆 , 木村徹
IPC分类号： G03F7/40
CPC分类号： G03F7/40 , H01L21/0274
摘要：　フォトレジストを用いて形成されたレジストパターンを熱処理することにより微細パターンを形成するに際し、該レジストパターン上に設けられ、熱処理により、レジストパターンを円滑に収縮させることができると共に、その後のアルカリ水溶液処理により容易に除去し得る樹脂組成物、およびこれを用いて効率よく微細レジストパターンを形成できる。　水酸基を含有する樹脂と、架橋成分と、全溶媒に対して１０重量％以下の水を含むアルコール溶媒とを含有し、また、上記アルコール溶媒が炭素数１～８の１価アルコールである。
摘要翻译：公开了一种树脂组合物，其在通过抗蚀剂图案的热处理形成微细图案时，设置在使用光致抗蚀剂形成的抗蚀剂图案上。树脂组合物能够使抗蚀剂图案通过热处理而平滑地收缩，并且可以通过使用碱水溶液的后续处理容易地除去。还公开了一种有效地形成使用这种树脂组合物的精细抗蚀剂图案的方法。树脂组合物含有相对于总溶剂含有不超过10重量％水的羟基，交联组分和醇溶剂的树脂。醇溶剂是具有1-8个碳原子的一元醇。

7. 发明申请

WO2008114640A1 光学素子ユニット、光ピックアップ装置並びに光学素子ユニットの製造方法审中-公开
标题翻译：光学元件，光学拾取器件和光学元件制造方法
公开(公告)号：WO2008114640A1
公开(公告)日：2008-09-25
申请号：PCT/JP2008/054283
申请日：2008-03-10
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 和田一啓 , 木村徹
发明人：和田一啓 , 木村徹
IPC分类号： G11B7/135 , G11B7/22
CPC分类号： G11B7/13922 , G11B7/1374 , G11B2007/0006
摘要：　複数種類の光情報記録媒体に対応した光ピックアップ装置用の光学素子であって、収差の低減によって高精度の結像を可能にする光学素子を提供するために、第１対物レンズ部及び第２対物レンズ部によって、異なる２種類以上の光ディスクに対して簡易に情報の再生・記録を行うことができる。この光学素子ユニットでは、第２取付基準面の法線、第３取付基準面の法線、若しくは光学面頂点の法線を、第１取付基準面の法線に対して必要な傾斜角だけ傾斜させる。これにより、第１対物レンズ部に対して第２対物レンズ部を所望の角度だけ傾斜させた状態に簡易にアライメントして固定することができ、第１対物レンズ部と第２対物レンズ部との相対的な３次コマ収差を低減することが可能になる。
摘要翻译：适用于多种类型的光学信息记录介质的用于光学拾取装置的光学元件通过减小像差来执行高精度的成像。光学元件通过第一物镜部分和第二物镜部分从两个或多个不同类型的光盘执行信息再现和记录。在光学元件单元中，第二安装基准面的法线或第三附着基准面或光学面顶面的法线的法线从第一附着基准的法线倾斜所需的倾斜角表面。因此，光学元件可以容易地对准和固定成第二物镜部分从第一物镜部分以期望的角度倾斜的状态，并且第一物镜部分和第二物镜的相对第三彗形像差透镜部分可以减少。

8. 发明申请

WO2008075573A1 光ピックアップ装置用の光学素子、光ピックアップ装置及び光ピックアップ装置の組み立て方法审中-公开
标题翻译：用于光学拾取器件的光学元件，光学拾取器件和用于组装光学拾取器件的方法
公开(公告)号：WO2008075573A1
公开(公告)日：2008-06-26
申请号：PCT/JP2007/073662
申请日：2007-12-07
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 藤井英之 , 大田耕平 , 木村徹 , 中村健太郎
发明人：藤井英之 , 大田耕平 , 木村徹 , 中村健太郎
IPC分类号： G11B7/135 , G11B7/22
CPC分类号： G11B7/1374 , G11B7/08582 , G11B7/0925 , G11B7/13922 , G11B7/22 , G11B2007/0006
摘要：　コマ収差を良好に補正しつつ、光ディスクに対して互換可能に情報の記録及び／又は再生を行うことを可能とする光ピックアップ装置用の光学素子と、それを用いた省エネに優れコンパクトな光ピックアップ装置を提供するために、第１の対物レンズ部と第２の対物レンズ部とを一体的に形成した光ピックアップ装置用の光学素子であって、第１の対物レンズ部又は第２の対物レンズ部の一方は、｜ＨＣＭ｜／｜ＴＣＭ｜＜０．３を満たし、他方は、｜ＨＣＭ｜／｜ＴＣＭ｜＞０．３を満たす光学素子とする。但し、ＨＣＭは、第１の対物レンズ部又は第２の対物レンズ部における画角３次コマ感度を表し、ＴＣＭは、第１の対物レンズ部又は第２の対物レンズ部における傾角３次コマ感度を表す。
摘要翻译：一种用于光学拾取装置的光学元件，其可以在令人满意地校正彗差的同时，与光盘互换地记录和/或再现信息，以及采用该光学元件的紧凑型光学拾取装置并且显示出优异的节能。在第一物镜部分和第二物镜部分整体形成的用于光学拾取装置的光学元件中，第一物镜部分和第二物镜部分之一满足关系| HCM | / | TCM | <0.3 而满足关系| HCM | / | TCM |> 0.3。 HCM表示第一物镜部分或第二物镜部分中的三阶视角彗形像差，TMC表示第一物镜部分或第二物镜部分中的三阶角度彗形像差灵敏度。

9. 发明申请

WO2005098840A1 多焦点対物レンズ、光ピックアップ装置及び光情報記録再生装置审中-公开
标题翻译：多焦点对象镜头，光学拾取装置和光信息记录/再现装置
公开(公告)号：WO2005098840A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/JP2005/006453
申请日：2005-04-01
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 木村徹 , 橋村淳司
发明人：木村徹 , 橋村淳司
IPC分类号： G11B7/135
CPC分类号： G11B7/1374 , G02B3/08 , G02B3/10 , G11B7/1275 , G11B7/1353 , G11B7/1367 , G11B7/1378 , G11B7/13922 , G11B2007/0006 , G11B2007/13727
摘要：　本発明の構成は、第１回折構造を少なくとも１つの光学面上に有し、波長λ １の光束が前記第１回折構造に入射した場合に発生するｍ次回折光とｎ次回折光（ｍ≠ｎ）とを、保護層の厚さが互いに異なる２種類の光ディスクの情報記録面上に集光させる光ピックアップ装置に用いられる多焦点対物レンズであって、前記ｍ次回折光を保護層の厚い方の光ディスクの保護層を介して集光させた際の波面の球面収差値ＳＡｍと、前記ｎ次回折光を保護層の厚い方の光ディスクの保護層を介して集光させた際の波面の球面収差値ＳＡｎとの差の絶対値および前記ＳＡｍ及び前記ＳＡｎのうち、何れか一方の絶対値が所定の値であるとともに、前記第１回折構造は微細な段差により分割された複数の輪帯から構成され、前記回折次数ｍは１以上の整数であって、所定の式を満たす多焦点対物レンズを提供する。
摘要翻译：一种用于光拾取装置的多焦点物镜，其在至少一个光学平面上具有第一衍射结构，并且会聚在第一衍射结构的第一和第波长λ1将第一衍射结构进入保护层厚度不同的两种光盘的信息记录面上，其中m阶衍射光之间的波前的球面像差值SAm之间的差绝对值为通过具有较厚保护层的光盘的保护层和绝对值的N级衍射光凝结经由较厚保护层的光盘的保护层和波前的球面像差值SAn而凝结 SAm和SAn中的任一个是规定值，上述第一衍射结构由多个分割的环形区域构成上述衍射级m为1以上的整数，满足规定的表达式。

10. 发明申请

WO2008136242A1 光ピックアップ装置及び対物光学素子审中-公开
标题翻译：光学拾取器件和目标光学元件
公开(公告)号：WO2008136242A1
公开(公告)日：2008-11-13
申请号：PCT/JP2008/056932
申请日：2008-04-08
申请人：コニカミノルタオプト株式会社 , 中村健太郎 , 木村徹
发明人：中村健太郎 , 木村徹
IPC分类号： G11B7/135
CPC分类号： G11B7/1353 , G11B7/1374 , G11B7/13922 , G11B2007/0006
摘要：　コンパクトでありながら、異なる種類の光情報記録媒体に対して良好に情報の記録及び／又は再生を行える光ピックアップ装置、及びそれに用いる対物光学素子を提供するために、対物光学素子の光学機能面は、光軸を含む中央領域と、該中央領域を囲む周辺領域との少なくとも２つの領域を有し、中央領域の光路差付与構造は、段差で区切られた輪帯状の構造である第１中央基礎構造と、第２中央基礎構造とを重ね合わせた構造とし、周辺領域の光路差付与構造は、段差で区切られた輪帯状の構造である第１周辺基礎構造と、第２周辺基礎構造とを重ね合わせた構造とする。
摘要翻译：尽管紧凑性能够令人满意地记录和/或再现关于不同种类的光学信息记录介质的信息的光学拾取装置，以及用于光学拾取装置的物镜光学元件。物镜光学元件的光学功能表面具有包括光轴和围绕中心区域的周围区域的中心区域的至少两个区域。中心区域的光路差分赋予结构是通过将彼此分离的圆形和纬向结构的第一中心基本结构和第二中心基本结构叠加而得到的结构。周边区域的光路差分赋予结构是通过将彼此分离的圆形和分层结构彼此之间的第一周围基本结构和第二周围基本结构叠加而获得的结构。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式