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1. 发明申请

WO2010125178A1 METALLSUBSTRATE MIT KRATZFESTER UND DEHNBARER KORROSIONSSCHUTZSCHICHT UND VERFAHREN ZU DEREN HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：随着对防刮和韧性腐蚀保护涂层方法金属基材及其
公开(公告)号：WO2010125178A1
公开(公告)日：2010-11-04
申请号：PCT/EP2010/055897
申请日：2010-04-30
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , IMPREGLON BESCHICHTUNGEN GMBH , SALZ, Dirk , VISSING, Klaus-Dieter , OTT, Matthias , BULTMANN, Uwe
发明人： SALZ, Dirk , VISSING, Klaus-Dieter , OTT, Matthias , BULTMANN, Uwe
IPC分类号： B05D7/24 , B05D7/14
CPC分类号： B05D1/62 , B05D7/14 , B05D2202/10 , B05D2202/40 , B05D2202/45
摘要： Verfahren zum Beschichten der Oberfläche eines Metallsubstrates, mit folgenden Schritten: A. Bereitstellen des Metallsubstrates und gegebenenfalls Säubern der zu beschichtenden Substratoberfläche, B. Beschichten der gegebenenfalls in Schritt A gesäuberten Substratoberfläche in einem Plasmapolymerisationsreaktor mittels Plasmapolymerisation, wobei - in Schritt B als Precursor(en) für das Plasma eine oder mehrere siliciumorganische sowie (a) keine weiteren oder (b) weitere Verbindungen eingesetzt werden und in Schritt B das Metallsubstrat im Plasmapolymerisationsreaktor so angeordnet wird, dass es als Kathode geschaltet ist, dadurch gekennzeichnet, dass das Verfahren so geführt wird, dass die durch das Verfahren hergestellte Beschichtung - eine Dehnung bis Mikrorissvon ≥ 1,5 %, vorzugsweise ≥ 2,5 %, - einen nach ASTM D 1925 bestimmten Gelbindex (Yellow Index) von ≤ 4 vorzugsweise ≤ 3, weiter bevorzugt ≤ 2,5 und - eine mittels Nanoindentation zu messende Härte im Bereich von 2,5 bis 10 GPa, vorzugsweise 3,1 bis 10 GPa, weiter bevorzugt 3,1 bis 6 GPa sowie bevorzugt - eine Wärmeleitfähigkeit ≤5 W / m°K, vorzugsweise ≤ 2,5 W / m°K und/oder - eine elektrische Durchschlagsfestigkeit von 10 -100 kV/mm, vorzugsweise von ≥40 kV/mm aufweist, mit der Massgabe, dass das Metallsubstrat kein Leichtmetallsubstrat ist und mit der Massgabe, dass für den Fall einer Dehnung bis Mikroriss der Beschichtung von ≤ 2,2 % die mittels Nanoidentation zu messende Härte ≥ 6 GPa beträgt.
摘要翻译：待涂覆A.提供金属基材和任选地，清洗基板表面上，例如，通过等离子体的手段涂布在等离子体聚合反应器中任选地清洗在步骤A衬底表面，其中， - 在步骤B（作为前体于：涂层的金属基材的表面上，其包括以下步骤的方法）对于等离子体没有进一步的，或（b）使用一种或多种有机硅以及多种化合物（a）和在等离子体聚合反应器中的金属基板被布置成在它被作为阴极连接步骤b，其特征在于，如此进行所述方法由方法制备的涂层 - 伸长到Mikrorissvon = 1.5％，优选为2.5％， - 的优选= 4 = 3的ASTM D1925某些黄色指数（黄色度），更优选= 2，图5和 - 纳米压痕硬度的一种手段，以在2.5 b的范围内测量在10Gpa，优选3.1〜10GPa的，更优选为3.1〜6 GPA，并且优选 - 热导率= 5瓦/米°K，优选= 2.5瓦/米°K和/或 - 的电击穿强度包括10 -100千伏/毫米，优选= 40千伏/毫米，与该金属基板是条件，并且条件没有轻金属基板，对于应变的通过的情况下的= 2.2％的涂层的显微裂纹 Nanoidentation要测量硬度= 6 GPA。

2. 发明申请

WO2010012836A2 BIOKOMPATIBILITÄTSSCHICHT UND BESCHICHTETE GEGENSTÄNDE 审中-公开
标题翻译：生物相容性层和被覆盖的物体
公开(公告)号：WO2010012836A2
公开(公告)日：2010-02-04
申请号：PCT/EP2009/059985
申请日：2009-07-31
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , BIO-GATE AG , OTT, Matthias , GRUNWALD, Ingo , SALZ, Dirk , WAGENER, Michael , VISSING, Klaus-Dieter , HIELSCHER, Wolfgang , DÖLLE, Christopher
发明人： OTT, Matthias , GRUNWALD, Ingo , SALZ, Dirk , WAGENER, Michael , VISSING, Klaus-Dieter , HIELSCHER, Wolfgang , DÖLLE, Christopher
IPC分类号： A61L27/34 , A61L29/08 , A61L31/10 , C23C16/30 , C23C16/42
CPC分类号： C23C16/56 , A61L27/34 , A61L29/085 , A61L31/10 , B05D1/62 , C23C16/30
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft die Verwendung einer vernetzten siliziumhaltigen Schicht enthaltend, bestehend im wesentlichen aus oder bestehend aus Silizium, O, C, H, optional N, die durch Plasmapolymerisation und/oder Vernetzung von siliziumorganischen Flüssigkeiten mit Hilfe eines Plasmaprozesses und/oder UV-Strahlung einer Wellenlänge unter 250 nm ohne die Verwendung von Metallen einer Ordnungszahl über 14 herstellbar ist, als biokompatible Oberfläche, zum Vermitteln oder Versehen einer Oberfläche mit einer nicht-genotoxischen Wirkung. Ferner betrifft die Erfindung entsprechend beschichtete Gegenstände und Verfahren zu ihrer Herstellung.
摘要翻译：
本发明涉及使用交联的层，其包括，基本上由或由硅的含硅，O，C，H，任选N-通过等离子体聚合和/或有机硅FL导航用途ssigkeiten的交联获得的波长＆AUML用等离子体处理和/或UV辐射的助剂;低于250纳米的长度，而无需使用超过14原子序数的金属的生产，如生物相容性表面BEAR澈，用于切换或提供表面BEAR表面用非基因毒性效果。此外，本发明涉及相应涂覆的制品及其制备方法

3. 发明申请

WO2007147749A1 WAFER-TRÄGER-ANORDNUNG, SCHICHTVERBUND ZUR VERWENDUNG BEI DER HERSTELLUNG EINER SOLCHEN WAFER-TRÄGER-ANORDNUNG SOWIE ENTSPRECHENDE VERFAHREN UND VERWENDUNGEN 审中-公开
标题翻译：晶片载体的安排，复合层用于此类晶圆承载器设备的生产及相关做法和用途
公开(公告)号：WO2007147749A1
公开(公告)日：2007-12-27
申请号：PCT/EP2007/055739
申请日：2007-06-12
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/68 , H01L21/78 , B05D7/24
CPC分类号： H01L21/6835 , H01L21/6836 , H01L24/27 , H01L2221/68327 , H01L2221/6834 , H01L2221/68363 , H01L2224/274 , H01L2924/01068 , H01L2924/3512 , H01L2924/00
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine Wafer-Träger-Anordnung, umfassend: einen Wafer (8), eine Trägerschicht (4, 6) und eine Trennschicht (2), die zwischen der Trägerschicht (4, 6) und dem Wafer (8) angeordnet ist, wobei die Trennschicht (2) (i) eine plasmapolymere Schicht (2) ist oder neben einer oder mehreren weiteren Schichten eine an die Trägerschicht angrenzende plasmapolymere Schicht (2) umfasst und (ii) an dem Wafer (8) haftet und an der Trägerschicht (4, 6) fester haftet als an dem Wafer, wobei die plasmapolymere Schicht (2) eine Schicht ist bestehend aus Kohlenstoff, Silicium, Sauerstoff und Wasserstoff sowie gegebenenfalls üblichen Verunreinigungen, wobei im ESCA-Spektrum der plasmapolymeren Schicht (2), bei Kalibrierung auf den aliphatischen Anteil des C 1 s Peaks bei 285,00 eV, im Vergleich mit einem trimethylsiloxy-terminierten Polydimethylsiloxan (PDMS) mit einer kinematischen Viskosität von 350 mm2/s bei 25 °C und einer Dichte von 0,97 g/mL bei 25 °C, der Si 2p Peak einen Bindungsenergiewert besitzt, der um maximal 0,44 eV zu höheren oder niedrigeren Bindungsenergien verschoben ist, und der O 1 s Peak einen Bindungsenergiewert besitzt, der um maximal 0,50 eV zu höheren oder niedrigeren Bindungsenergien verschoben ist.
摘要翻译：是（2）设置在所述载体层（4,6）和（8）布置在所述晶片之间的晶片（8），一个载体层（4,6）和释放层：本发明涉及到包括晶片支承组件其中所述隔离层（2）（ⅰ）的等离子体聚合物层（2）或邻近（2）相邻的一个或多个另外的层包括与所述背衬层等离子体聚合物层的层（ii）所述晶片（8）上附着，和到载体层（4,6）附着比到晶片，其中，所述等离子体聚合物层（2）是由碳，硅，氧和氢，和任选地常规杂质的层，更牢固，其特征在于在等离子体聚合物层（2）的ESCA光谱，在校准期间的脂族的C 1s峰中的285.00电子伏特，与三甲基甲硅烷基封端的聚二甲基硅氧烷（PDMS）为350毫米2 /秒的运动粘度在25℃和部分相比在0.97克/毫升的密度 25℃下，将Si 2 p峰具有由至多0.44电子伏特偏移到较高或较低的结合能的键的能量值，和O 1s峰具有由至多0.50电子伏特偏移到较高或较低的结合能的键的能量值。

4. 发明申请

WO2008132230A3 VERFAHREN ZUM HERSTELLEN DÜNNER SCHICHTEN UND ENTSPRECHENDE SCHICHT 审中-公开
公开(公告)号：WO2008132230A3
公开(公告)日：2008-11-06
申请号：PCT/EP2008/055351
申请日：2008-04-30
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , DÖLLE, Christopher , OTT, Matthias
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , DÖLLE, Christopher , OTT, Matthias
IPC分类号： B05D3/14 , B05D3/00 , B05D3/06 , B05D5/08
摘要： Die Erfindung betrifft ein Beschichtungsverfahren, umfassend die Schritte: a) Bereitstellen einer Mischung oder eines Reinstoffs, umfassend oder bestehend aus reaktionsträgen, flüssigen Precursoren, b) Aufbringen einer flüssigen Schicht aus der Mischung oder dem Reinstoff auf eine zu beschichtende Oberfläche, c) Vernetzen der flüssigen Precursoren mittels Strahlung mit einer Wellenlänge von ≤ 250 nm, so dass aus der Mischung eine feste Schicht entsteht und die Schicht ≥ 10 Atom-% C umfasst, bezogen auf die Menge der in der Schicht enthaltenen Atome ohne H und F, und so dass der in der Schicht enthaltene C zu maximal 50 Atom-% des C, bezogen auf die Menge der in der Schicht enthaltenen C-Atome, Bestandteil einer Methoxygruppe ist. Sie betrifft ferner mittels dieses Verfahrens herstellbare oder erzeugte Schichten und deren Verwendungen sowie entsprechende beschichtete Gegenstände und deren Verwendungen.

5. 发明申请

WO2007051806A1 BESCHICHTUNGSVERFAHREN UND BESCHICHTETE KÖRPER 审中-公开
标题翻译：涂层工艺及涂层体，
公开(公告)号：WO2007051806A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/EP2006/068001
申请日：2006-10-31
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , OTT, Matthias , DÖLLE, Christopher , NEESE, Gabriele
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , OTT, Matthias , DÖLLE, Christopher , NEESE, Gabriele
IPC分类号： B05D3/14
CPC分类号： B05D3/147 , B05D1/62 , B05D7/52
摘要： Die Erfindung betrifft Verfahren zum Beschichten einer Oberfläche sowie entsprechend beschichtete Körper.
摘要翻译：本发明涉及一种用于涂覆表面的并且相应地涂覆体的方法。

6. 发明申请

WO2007051803A1 ENTFORMUNGSSCHICHT UND VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG 审中-公开
标题翻译：脱模及其制备方法
公开(公告)号：WO2007051803A1
公开(公告)日：2007-05-10
申请号：PCT/EP2006/067995
申请日：2006-10-31
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias
IPC分类号： B05D7/24 , B05D5/08 , B05D7/16
CPC分类号： B29C33/58 , B05D1/62 , B05D5/08 , B05D7/16 , B05D7/58 , B05D2202/25 , B29C33/64
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft eine plasmapolymere Entformungsschicht, bzw. Antihaftschicht mit verbesserten Gleiteigenschaften der Oberfläche und ein Verfahren zum Beschichten einer Oberfläche, sowie entsprechend beschichtete Körper und dessen Verwendung.
摘要翻译：本发明涉及一种等离子体聚合物脱模，或与该表面的改进的滑动性能防粘结层和用于涂覆表面的方法，和相应涂覆体及其用途。

7. 发明申请

WO2006131540A1 SCHMUTZVERBERGENDE BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：土壤遮盖涂层
公开(公告)号：WO2006131540A1
公开(公告)日：2006-12-14
申请号：PCT/EP2006/062987
申请日：2006-06-07
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias , DÖLLE, Christopher
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias , DÖLLE, Christopher
IPC分类号： C09D5/29 , B05D5/06 , C08J7/04
CPC分类号： C08J7/047 , B05D1/62 , B05D5/08 , B05D7/02 , B05D7/14 , C08J2483/00 , C09D5/29
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer die Schmutzwahrnehmung unterdrückenden Beschichtung für glänzende Oberfläche sowie Körper, die mit einer entsprechenden, die Schmutzwahrnehmung unterdrückenden Beschichtung ausgestattet sind.
摘要翻译：本发明涉及一种方法，用于产生污垢感知阻断光泽表面和主体，其中配有一个相应的，污垢阻挡被覆感知涂层。

8. 发明申请

WO2011061339A1 SUBSTRAT MIT STICKSTOFFHALTIGER PLASMAPOLYMERER BESCHICHTUNG 审中-公开
标题翻译：与血浆氮聚合物涂层SUBSTRATE
公开(公告)号：WO2011061339A1
公开(公告)日：2011-05-26
申请号：PCT/EP2010/067955
申请日：2010-11-22
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias , HIELSCHER, Wolfgang
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias , HIELSCHER, Wolfgang
IPC分类号： B05D7/24 , B05D7/00
CPC分类号： B05D1/62 , B05D7/52 , B05D2201/02 , B05D2701/10
摘要： Anordnung aus einem elastomeren und/oder polymeren Substrat und einer darauf angeordneten plasmapolymeren Beschichtung bestehend aus Kohlenstoff, Silizium, Sauerstoff, Stickstoff und Wasserstoff.
摘要翻译：的弹性体和/或聚合基体和设置在其上由碳，硅，氧，氮和氢的等离子体聚合物涂层的布置。

9. 发明申请

WO2007118905A1 FLEXIBLE PLASMAPOLYMERE PRODUKTE, ENTSPRECHENDE ARTIKEL UND VERWENDUNG 审中-公开
标题翻译：灵活的等离子体聚合物产品，相关文章和USE
公开(公告)号：WO2007118905A1
公开(公告)日：2007-10-25
申请号：PCT/EP2007/053859
申请日：2007-04-19
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias
发明人： VISSING, Klaus-Dieter , NEESE, Gabriele , OTT, Matthias
IPC分类号： B05D7/24
CPC分类号： C09D5/14 , B01D67/0088 , B01D69/02 , B01D2323/04 , B01D2325/48 , B05D1/62 , B05D5/08 , B05D2350/60 , C09D5/00 , C09D5/08 , Y10T428/263 , Y10T428/264 , Y10T428/265 , Y10T428/269 , Y10T428/31663
摘要： Die vorliegende Erfindung betrifft Artikel umfassend oder bestehend aus einem plasmapolymeren Produkt, bestehend aus Kohlenstoff, Silicium, Sauerstoff und Wasserstoff, wobei im ESCA-Spektrum des plasmapolymeren Produktes, bei Kalibrierung auf den aliphatischen Anteil des C 1 s Peaks bei 285,00 eV, im Vergleich mit einem trimethylsiloxy-terminierten Polydimethylsiloxan (PDMS) mit einer kinematischen Viskosität von 350 mm2/s bei 25°C und einer Dichte von 0,97 g/mL bei 25°C, der Si 2p Peak einen Bindungsenergiewert besitzt, der um maximal 0,44 eV zu höheren oder niedrigeren Bindungsenergien verschoben ist, und der O 1 s Peak einen Bindungsenergiewert besitzt, der um maximal 0,50 eV zu höheren oder niedrigeren Bindungsenergien verschoben ist.
摘要翻译：本发明涉及包含或其中，在285.00 eV的校准到C 1s峰的脂肪族部分组成的等离子体聚合物产物的由碳，硅，氧和氢的，在等离子体聚合物产物的ESCA光谱，在物品在25℃的三甲基硅氧基封端的聚二甲基硅氧烷（PDMS）为350毫米2 /秒的运动粘度和在25℃的0.97克/毫升的密度，在Si的2p峰的比较具有至多0键能，44电子伏特偏移到较高或较低的结合能，和O 1s峰具有由至多0.50电子伏特偏移到较高或较低的结合能的键的能量值。

10. 发明申请

WO2008040819A1 VERFAHREN ZUR DEKONTAMINATION MIT TROCKENEIS 审中-公开
标题翻译：用于用干冰去污
公开(公告)号：WO2008040819A1
公开(公告)日：2008-04-10
申请号：PCT/EP2007/060636
申请日：2007-10-08
申请人： FRAUNHOFER-GESELLSCHAFT ZUR FÖRDERUNG DER ANGEWANDTEN FORSCHUNG E.V. , TROCKENEIS-TEAM GMBH , VISSING, Klaus , BULTMANN, Uwe , OTT, Matthias , HIELSCHER, Wolfgang , STEHMEIER, Johann
发明人： VISSING, Klaus , BULTMANN, Uwe , OTT, Matthias , HIELSCHER, Wolfgang , STEHMEIER, Johann
IPC分类号： B24C1/00 , C23C16/40
CPC分类号： B24C1/003 , B24C1/086 , C23C16/56
摘要： Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Reinigung eines kontaminierten Objekts mit Trockeneis, wobei das Objekt an der Objektoberfläche zumindest teilweise mit einer Funktionsschicht versehen ist, auf der eine Kontamination haftet, und wobei (a) die Kontamination an der Funktionsschicht weniger fest haftet als sie es an der unter der Funktionsschicht liegenden Objektoberfläche täte, (b) die Funktionsschicht vorzugsweise eine geringere Wärmeleitfähigkeit als das Objekt besitzt und (c) die Funktionsschicht bei Raumtemperatur beständig ist gegen die bei Kontaktieren mit Trockeneis auftretenden Temperaturdifferenzen.
摘要翻译：本发明涉及一种用于清洁用干冰被污染的物体，其中所述物体与功能层设置在物体表面上至少部分地与之粘附，沾污，并且其中（a）所述功能层上的污染达到少附着牢固地比它在物体表面的功能性层下面所做的，（b）该功能层优选地具有比对象的热导率，和（c）在室温下，所述功能层是在用干冰的温度差相接触的存在的抗性。

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