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    • 2. 发明申请
    • CELLULE PHOTOVOLTAIQUE A HETEROJONCTION ET PROCEDE DE FABRICATION D'UNE TELLE CELLULE
    • 光伏异质结电池和制造这种电池的方法
    • WO2014044871A2
    • 2014-03-27
    • PCT/EP2013/069880
    • 2013-09-24
    • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
    • BUCKLEY, JulienMUR, Pierre
    • H01L31/072H01L31/0747H01L31/042
    • H01L31/02167H01L31/072H01L31/074H01L31/0747H01L31/1868Y02E10/50
    • L'invention concerne une cellule photovoltaïque à hétérojonction comprenant un substrat (1) dopé, dans laquelle : - une première face principale (1A) dudit substrat est recouverte d'une couche de passivation (2A), d'une couche (3A) dopée du type opposé à celui du substrat, formant l'émetteur de ladite cellule, - la seconde face principale (1B) dudit substrat est recouverte d'une couche de passivation (2B), d'une couche (3B) dopée du même type que le substrat, formant un champ répulsif pour les porteurs minoritaires du substrat, caractérisée en ce que : - le matériau de la couche de passivation (2A) côté émetteur (E) est choisi pour présenter une barrière de potentiel plus basse pour les porteurs minoritaires photogénérés que pour les porteurs majoritaires du substrat, et - le matériau de la couche de passivation (2B) côté champ répulsif (BSF) est choisi pour présenter une barrière de potentiel plus basse pour les porteurs majoritaires photogénérés que pour les porteurs minoritaires du substrat.
    • 本发明涉及适用于光伏电池的光伏电池。 ħéT E rojonction包括衬底(1)掺杂é;,其中: - 第一和egrave;重主面(1A)的所述衬底上覆盖有钝化层(2A),一个层(3A)DOPDé 相反类型的e; À 所述基板的,形成所述单元的电导演, - 所述衬底覆盖有钝化层(2B),层(3B)DOPéê米&ecirc的第二主面(图1B);我 所述衬底形成用于所述衬底的少数载流子的排斥场,其特征在于: - 所述钝化层(2A)的材料是 É导演(E)被选择为PRé信通的阻挡è再最低电位的对少数载流子Photogé否E [R(E S)为基材的多数载流子,并且 - 所述钝化层的垫é廖内 (2B)cô tó 选择脉冲场(BSF)为相对多数载流子提供比基底的少数载流子更低的势垒。
    • 5. 发明申请
    • CELLULE PHOTOVOLTAIQUE A HEREOJONCTION DE SILICIUM
    • 具有硅杂质的光电池
    • WO2015071285A1
    • 2015-05-21
    • PCT/EP2014/074325
    • 2014-11-12
    • COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE ET AUX ENERGIES ALTERNATIVES
    • BUCKLEY, JulienCHARLES, Matthew
    • H01L31/0747H01L31/078
    • H01L31/074H01L31/022466H01L31/02366H01L31/0747H01L31/078H01L31/1804H01L31/1856H01L31/1884Y02E10/50
    • L'invention concerne une cellule photovoltaïque à hétérojonction de silicium comprenant un substrat (1) de silicium cristallin dopé, dans laquelle : - une première face du substrat (1) est recouverte successivement d'une couche de passivation (2), d'une couche (3) de silicium amorphe ou microcristallin dopé p ou p+ et d'une couche (6) d'un matériau transparent conducteur, - la seconde face du substrat est recouverte successivement d'une couche (5) de silicium amorphe ou microcristallin dopé n ou n+ et d'une couche (7) d'un matériau transparent conducteur. La cellule comprend, entre le substrat (1) et la couche (5) de silicium amorphe ou microcristallin dopé n ou n+, une couche (10) d'un matériau semi-conducteur cristallin choisi parmi du nitrure de gallium ou du nitrure de gallium et d'indium et présentant une bande de conduction sensiblement alignée avec la bande de conduction du silicium et une bande interdite supérieure à celle du silicium, de sorte à favoriser un courant d'électrons tout en limitant un courant de trous du substrat (1) vers la couche (5) de silicium amorphe ou microcristallin dopé n ou n+.
    • 本发明涉及一种具有硅异质结的光伏电池,包括掺杂的晶体硅衬底(1),其中: - 衬底(1)的第一面被钝化层(2)连续地覆盖,无定形或p或p + 掺杂的微晶硅层(3)和透明导电材料的层(6), - 衬底的第二面被无定形或n或n +掺杂的微晶硅层(5)和层(7)依次覆盖 透明导电材料。 在基板(1)和非晶或n或n +掺杂的微晶硅层(5)之间,电池包括选自氮化镓或氮化铟镓的结晶半导体材料的层(10),并且具有导带 与硅的导带敏感地对准,并且带隙大于硅的带隙,以促进电子电流,同时将衬底(1)中的空穴电流限制为非晶或n或n +掺杂的微晶 硅层(5)。