程序d＆oacute; 提出了研究具有浮雕的表面，其中测量光谱被采取并且然后进行比较。 ＆Agrave; 任意结构的代表性测试光谱可以逐步调整。 根据本发明，在对谱的代表点选择相关性的同时优化分层确定。 参数。

处理程序; 没有使用物理模型的光学表征材料。 为了表征由函数α（λ）（λ：波长）获得的值的间隔A中的材料层，（1）通过光学测量法和/或椭圆偏光法 在A上我们获得了一个测量的光谱。 Ψ，（2）在A（m≥1）中选取α的m个值α1...αm，其中B = {α使得min（α _{I ）≤α≤MAX（α<子> I ）}对于m→1和B = A·如果m = 1，（3）选择m个复数的索引值的n + （4）如果m＃1，我们通过插值计算B上的索引n（α），＆gt; （αi，n i = n（αi）），1≤i≤m，并且如果m = 1，n （α）= n 1（α1），（5）我们选择M参数，M≤2m+ 1和Er误差函数 并通过最大限度地减少呃＆agrave; M参数，（a）＆gt; 使用B上的（αi，n i）的插值定律，我们有n（α），αεB，（b） ＆agrave; 使用n（α）和该层的厚度ε，我们计算理论谱Ψ（n（α），ε），（c）我们比较Ψ和Ψ> 在Er的帮助下，如果Er（Ψ，Ψ）很小，我们就移动到agrave; （e），否则（d）我们改变M个参数以达到Er（Ψ，Ψ）的最小值，然后我们进入agrave; （a），（e）如果Er（Ψ，Ψ）e，则索引被视为相等; 最后一个得到的，否则我们增加m，然后去agrave; （2）。}