专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明申请

WO2008135444A1 PROCEDE ET DISPOSITIF DE PREPARATION D'UN REVETEMENT MULTICOUCHE SUR UN SUBSTRAT 审中-公开
标题翻译：用于在基材上制备多层涂层的方法和装置
公开(公告)号：WO2008135444A1
公开(公告)日：2008-11-13
申请号：PCT/EP2008/055208
申请日：2008-04-29
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , RUIZ, Jean-Christophe , FOURNEL, Bruno , THOLLON, Stéphanie , DONET, Sébastien
发明人： RUIZ, Jean-Christophe , FOURNEL, Bruno , THOLLON, Stéphanie , DONET, Sébastien
IPC分类号： C23C16/06 , C23C18/12 , C30B7/10 , C30B25/00 , C30B29/60
CPC分类号： C23C16/06 , C23C18/1216 , C23C18/1225 , C23C18/1245 , C23C18/1287 , C23C18/1295
摘要： Procédé de préparation d'un substrat comprenant un support solide et plusieurs couches sur ledit support; - une couche étant constituée par un film de particules d'oxyde(s) de métal; - une couche étant constituée par un film d'un ou plusieurs métal (métaux), ou par des nanoparticules dispersées d'un ou plusieurs métal (métaux); ledit procédé, comprenant les étapes suivantes : a) - on imprègne le support solide, chauffé, avec une solution de précurseurs du ou des oxyde(s) de métal dans un fluide supercritique, et on dépose un film homogène et continu des particules d'oxyde(s) de métal, ou des particules d'oxyde(s) de métal dispersées de manière homogène, sur le support sur la couche sous jacente; b) - on dépose un film continu ou discontinu d'un ou plusieurs métal (métaux), ou des nanoparticules dispersées d'un ou plusieurs métal (métaux) sur le support ou sur une couche sous-jacente, par dépôt chimique. en phase vapeur CVD, à partir d'un ou plusieurs précurseurs; - les étapes a) et b) étant réalisées dans la même enceinte, même réacteur.
摘要翻译：本发明涉及一种制备基材的方法，所述基材包括固体支持物和所述载体上的几层：由金属氧化物颗粒的膜制成的层; 由一种或多种金属或一种或多种金属的分散颗粒的膜制成的层。该方法包括以下步骤：a）用超临界流体中的金属氧化物的前体溶液浸渍固体加热的载体，并沉积金属氧化物颗粒或金属氧化物的均匀且连续的膜，颗粒均匀地分散在底层上的载体上; b）通过来自一种或多种前体的化学气相沉积（CVD）将一种或多种金属的一种或多种金属或分散颗粒的连续或不连续膜沉积在载体上或下层上; 其中步骤a）和b）在相同的室和反应器中进行。

2. 发明申请

WO2009013296A1 PROCEDE ET DISPOSITIF D'INFILTRATION D'UNE STRUCTURE EN MATERIAU POREUX PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR 审中-公开
标题翻译：通过化学气相沉积渗透多孔材料结构的方法和装置
公开(公告)号：WO2009013296A1
公开(公告)日：2009-01-29
申请号：PCT/EP2008/059613
申请日：2008-07-22
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , DONET, Sébastien , EMIEUX, Fabrice , FILHOL, Lionel , THOLLON, Stéphanie
发明人： DONET, Sébastien , EMIEUX, Fabrice , FILHOL, Lionel , THOLLON, Stéphanie
IPC分类号： C23C16/458 , C23C16/04
CPC分类号： C23C16/045 , C23C16/458
摘要： L'invention concerne un procédé et un dispositif d'infiltration d'une structure en matériau poreux par dépôt chimique en phase vapeur. Dans le procédé, une première face de la structure en matériau poreux étant exposée à un flux gazeux, on maintient la seconde face, au moins en partie, libre de tout contact.
摘要翻译：本发明涉及通过化学气相沉积渗透由多孔材料制成的结构的方法和装置。根据该方法，多孔材料结构的第一面暴露于气流，并且第二面保持至少部分不受任何接触。

3. 发明申请

WO2010040908A1 DISPOSITIF POUR LA SYNTHESE DE NANOPARTICULES PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR EN LIT FLUIDISE 审中-公开
标题翻译：通过流化床蒸发沉积合成纳米颗粒的装置
公开(公告)号：WO2010040908A1
公开(公告)日：2010-04-15
申请号：PCT/FR2009/001084
申请日：2009-09-10
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , DONET, Sébastien , FILHOL, Lionel , THOLLON, Stéphanie
发明人： FILHOL, Lionel , THOLLON, Stéphanie
IPC分类号： C23C16/442 , B01J37/02 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/442 , B01J23/42 , B01J35/006 , B01J37/0221 , B01J37/0238 , B22F2998/00 , C01B3/0026 , C23C16/4417 , C23C16/45502 , C23C16/45591 , Y02E60/327 , Y10S118/05 , B22F9/24 , B22F1/0018
摘要： La présente invention propose un dispositif de dépôt en phase vapeur d'espèces chimiques sur des grains support de formes sphériques ou assimilées disposés dans un lit fluidisé, comportant : • une première chambre (1) à lit fluidisé dans laquelle est logé un élément de fluidisation (8), conformé en entonnoir, pour recevoir des grains support (2) de formes sphériques ou assimilées, • une deuxième chambre (3), en connexion fluidique avec la première chambre (1), destinée à la fois à fournir des précurseurs sous phase vapeur des espèces chimiques à déposer sur les grains support (2) et à véhiculer un gaz fluidifiant en direction de la première chambre (1 ), • une flûte (9), disposée à l'entrée de l'élément de fluidisation (8), pour contrôler Ia répartition des précurseurs en phase vapeur et du gaz fluidifiant au sein de l'élément de fluidisation (8), caractérisé en ce que la flûte de répartition (9) comprend une ou plusieurs rainures ou gorges externes (92), la ou chaque rainure (92) comportant une première partie orientée selon l'axe longitudinal de la flûte (9) et une deuxième partie s'enroulant hélicoïdalement autour de cet axe afin de générer un vortex de gaz fluidifiant au sein de la première chambre (1).
摘要翻译：本发明提出了一种用于将化学物质气相沉积到放置在流化床中的球形或类似形状的载体颗粒上的装置，包括：第一流化床室（1），其中容纳有流化组分（8）），形成漏斗，以接收球形或类似形状的支撑颗粒（2），与第一腔室（1）流体连接的第二腔室（3），用于在气相中提供化学物质的前体物质沉积在支撑颗粒（2）上并沿着第一腔室（1）的方向输送流化气体，位于流化元件（8）的入口处的凹槽（9），以便控制气化前体和流态化气体在流化组分（8）内的分布，其特征在于，分布凹槽（9）包括一个或多个外部凹槽或凹槽（92），该凹槽（92）包括第一部分沿着这个方向定向凹槽（9）的纵向轴线和第二部分，其绕该轴线螺旋地卷绕，以便在第一腔室（1）内产生流化气体涡流。

4. 发明申请

WO2007000556A3 FILMS COMPOSITES A BASE DE METAL ET D'OXYDE POUR APPLICATIONS ANTIMICROBIENNES ET PROCEDE DE PROTECTION OU DE DECONTAMINATION D'UN SUBSTRAT METTANT EN OEUVRE DE TELS FILMS 审中-公开
公开(公告)号：WO2007000556A3
公开(公告)日：2007-01-04
申请号：PCT/FR2006/050630
申请日：2006-06-26
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , BEDEL, Laurent , THOLLON, Stéphanie , EMIEUX, Fabrice , KREBS, Thierry
发明人： BEDEL, Laurent , THOLLON, Stéphanie , EMIEUX, Fabrice , KREBS, Thierry
IPC分类号： C23C16/30 , C03C17/00 , A01N59/16
摘要： La présente invention concerne un substrat revêtu d'une structure complexe à base d'un métal possédant une activité antimicrobienne et d'un oxyde semi-conducteur possédant une activité photocatalytique, la structure se présentant sous la forme d'un film composite contenant au plus 5% en poids du métal possédant une activité antimicrobienne. Un tel film composite est également utilisé dans un procédé de protection ou de décontamination d'un substrat vis-à-vis de microorganismes.

5. 发明申请

WO2007088291A1 CATHODE POUR RÉACTEUR ÉLECTROCHIMIQUE, RÉACTEUR ÉLECTROCHIMIQUE INTÉGRANT DE TELLES CATHODES ET PROCÉDÉ DE FABRICATION D'UNE TELLE CATHODE 审中-公开
标题翻译：电化学反应器的阴极，包含这样的阴极的电化学反应器和制造上述阴极的方法
公开(公告)号：WO2007088291A1
公开(公告)日：2007-08-09
申请号：PCT/FR2007/050650
申请日：2007-01-15
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , MAILLEY, Sophie , SANCHETTE, Frédéric , THOLLON, Stéphanie , EMIEUX, Fabrice
发明人： MAILLEY, Sophie , SANCHETTE, Frédéric , THOLLON, Stéphanie , EMIEUX, Fabrice
IPC分类号： H01M4/92 , H01M4/86 , H01M4/88 , H01M8/10 , C25B11/04 , B01J23/652 , C23C16/18
CPC分类号： C23C16/18 , H01M4/8605 , H01M4/8652 , H01M4/8867 , H01M4/9016 , H01M4/92 , H01M8/0234 , H01M2008/1095 , Y02P70/56
摘要： Cette cathode pour réacteur électrochimique comprend une couche de diffusion et une couche catalytique. Elle présente des nanoparticules bi - métalliques ou multi - métalliques, dispersées en contact direct avec la couche de diffusion, l'un des métaux au moins étant du chrome (Cr) se présentant en tout ou en partie sous forme oxydée.
摘要翻译：本发明涉及一种用于包括扩散层和催化剂层的电化学反应器的阴极。它包括与扩散层直接接触分散的双金属或多金属纳米颗粒，其中一种金属至少是全部或部分处于氧化状态的铬（Cr）。

6. 发明申请

WO2006070130A2 PROCEDE DE PREPARATION DE NANOPARTICULES D'UN METAL OU D'UN ALLIAGE DE METAUX, DISPERSEES SUR UN SUBSTRAT, PAR DEPOT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR 审中-公开
标题翻译：用于制备金属或金属合金的纳米颗粒的方法，通过化学气相沉积在基体上分散
公开(公告)号：WO2006070130A2
公开(公告)日：2006-07-06
申请号：PCT/FR2005/003264
申请日：2005-12-23
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE , UNIVERSITE DE POITIERS , THOLLON, Stéphanie , LUC, Fabien , BARRAULT, Joël , VALANGE, Sabine , GUELOU, Erwan , DATURI, Marco , CAN, Fabien
发明人： THOLLON, Stéphanie , LUC, Fabien , BARRAULT, Joël , VALANGE, Sabine , GUELOU, Erwan , DATURI, Marco , CAN, Fabien
IPC分类号： C23C16/18 , C23C16/40
CPC分类号： C23C16/18 , C23C16/40 , Y10T428/256
摘要： Procédé de dépôt de nanoparticules d'un métal ou d'un alliage dudit métal, le métal étant choisi parmi les métaux des colonnes VIIIB et IB du tableau périodique, dispersées sur un substrat, par dépôt chimique en phase vapeur CVD, à partir d'un ou plusieurs précurseurs, dans lequel le dépôt est réalisé en présence d'un gaz comprenant plus de 50% en volume d'un gaz réactif oxydant. Substrat comprenant au moins une surface sur laquelle sont dispersées des nanoparticules de métal ou d'alliage de métaux, par exemple d'argent ou d'un alliage d'argent. Utilisation du substrat pour catalyser une réaction chimique, par exemple une réaction d'élimination des NO x .
摘要翻译：本发明涉及一种用于沉积金属或所述金属合金的纳米颗粒的方法，金属选自分散在基材上的元素周期表第VIIIB和1B栏的金属，通过化学气相沉积（CVD）从一种或多种前体，其中所述沉积在包含超过50体积％的气体存在下进行。％的氧化反应气体。本发明还涉及包含至少一个表面的基底，其中分散有金属或金属合金的纳米颗粒，例如银或银合金。本发明还涉及用于催化化学反应的底物的用途，例如用于消除NO x的反应。

7. 发明申请

WO2007088292A1 PROCÉDÉ DLI-MOCVD POUR LA FABRICATION D'ÉLECTRODES POUR RÉACTEURS ÉLECTROCHIMIQUES 审中-公开
标题翻译：用于制造电化学反应器电极的DLI-MOCVD工艺
公开(公告)号：WO2007088292A1
公开(公告)日：2007-08-09
申请号：PCT/FR2007/050651
申请日：2007-01-15
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , MAILLEY, Sophie , CAPRON, Philippe , THOLLON, Stéphanie , KREBS, Thierry
发明人： MAILLEY, Sophie , CAPRON, Philippe , THOLLON, Stéphanie , KREBS, Thierry
IPC分类号： H01M4/88 , C23C16/04
CPC分类号： H01M4/8867 , C23C16/045 , C23C16/18 , C23C16/4486 , H01M4/8807 , H01M4/92 , H01M8/0234 , H01M2008/1095 , Y02P70/56
摘要： Ce procédé de fabrication d'électrode pour réacteur électrochimique, dans lequel ladite électrode comprend une couche de diffusion et une couche catalytique, consiste en ce que l'étape de dépôt du catalyseur sur la couche de diffusion est réalisée selon le procédé DLI-MOCVD, la couche de diffusion étant réalisée en carbone poreux.
摘要翻译：本发明涉及一种制备电化学反应器电极的方法，其中所述电极包括扩散层和催化剂层，其特征在于，通过DLI-MOCVD法在催化剂层上沉积催化剂的步骤进行，扩散层由多孔碳制成。

8. 发明申请

WO2004113586A1 REVETEMENT POUR UNE PIECE MECANIQUE COMPRENANT AU MOINS DU CARBONE AMORPHE HYDROGENE ET PROCEDE DE DEPOT D’UN TEL REVETEMENT 审中-公开
标题翻译：用于包含至少一种氢化非晶态碳的机械部件的涂覆，以及沉积一种这样的涂层的方法
公开(公告)号：WO2004113586A1
公开(公告)日：2004-12-29
申请号：PCT/FR2004/001486
申请日：2004-06-15
申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , PLISSONNIER, Marc , GAILLARD, Frédéric , THOLLON, Stéphanie
发明人： PLISSONNIER, Marc , GAILLARD, Frédéric , THOLLON, Stéphanie
IPC分类号： C23C16/26
CPC分类号： C23C16/0272 , C23C16/26 , Y10T428/30
摘要： Un revêtement (1) pour une pièce mécanique comprend une première couche (3) en carbure de silicium amorphe hydrogéné destinée à être en contact avec la pièce mécanique (2), un empilement (4) de couches et une couche externe (5) en carbone amorphe hydrogéné. L'empilement (4) est constitué par une alternance de couches (4a, 4b) respectivement en carbone amorphe hydrogéné et en carbure de silicium amorphe hydrogéné. L'épaisseur totale du revêtement est, de préférence, comprise entre 10 et 20 micromètres.
摘要翻译：本发明涉及用于机械部件的涂层（1）。本发明的涂层包括：旨在与机械部件（2）接触的氢化非晶碳化硅的第一层（3）; 一层（4）层; 和氢化无定形碳的外层（5）。上述叠层（4）分别包括氢化无定形碳和氢化非晶碳化硅的交替层（4a，4b）。涂层的总厚度优选为10至20微米。

9. 发明申请

WO2009007524A3 PROCEDE DE DEPÔT CHIMIQUE EN PHASE VAPEUR ASSISTE PAR PLASMA D'UN FILM CARBONE/METAL 审中-公开
公开(公告)号：WO2009007524A3
公开(公告)日：2009-01-15
申请号：PCT/FR2008/000764
申请日：2008-06-05
申请人： COMMISSARIAT Á L'ENERGIE ATOMIQUE , THOLLON, Stéphanie , DONET, Sébastien
发明人： THOLLON, Stéphanie , DONET, Sébastien
IPC分类号： C23C16/06 , C23C16/26 , C23C16/505
摘要： Un film en matériau composite comportant du carbone et au moins un métal est déposé par dépôt chimique en phase vapeur assisté par plasma. Le dépôt est réalisé à partir d'au moins une solution chimique comportant un précurseur métallique, solide ou liquide, dissous dans au moins un solvant qui constitue une source de carbone. De plus, le plasma est généré à une fréquence comprise entre 2OkHz et 50OkHz et avantageusement comprise entre 40 kHz et 440 kHz.

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式