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    • 9. 发明申请
    • 透明導電膜の製造方法及び透明導電膜、それを用いた素子、透明導電基板並びにそれを用いたデバイス
    • 用于生产透明导电膜,透明导电膜,使用其形成的元件,透明导电基材和使用其形成的装置的方法
    • WO2011102350A1
    • 2011-08-25
    • PCT/JP2011/053171
    • 2011-02-15
    • 住友金属鉱山株式会社行延 雅也永野 崇仁大塚 良広
    • 行延 雅也永野 崇仁大塚 良広
    • H01B13/00B05D3/06B05D5/12C09D1/00C09D5/24C09D185/00H01B5/14
    • C09D5/24C09D11/101C23C18/1216C23C18/1275C23C18/1279C23C18/1295C23C18/14H01L21/02565H01L21/02628H01L31/1884Y02E10/50
    • 【課題】 低コストかつ簡便な透明導電膜の製造方法である塗布法によって、特に300℃未満の低温加熱で形成される優れた透明性と高い導電性を兼ね備え、かつ膜強度に優れる透明導電膜、及びこの透明導電膜の製造方法を提供する。 【解決手段】 基板上に有機金属化合物を含む塗布膜を形成する塗布工程、前記塗布膜から乾燥塗布膜を形成する乾燥工程、前記乾燥塗布膜を加熱しながらエネルギー線照射して無機膜を形成する加熱エネルギー線照射工程、必要に応じて、加熱還元工程の各工程を経て形成される透明導電膜の製造方法であって、前記加熱エネルギー線照射工程が、乾燥塗布膜を露点温度-10℃以下の酸素含有雰囲気下で、300℃未満の加熱温度に加熱しながら、エネルギー線照射を行い、乾燥塗布膜に含まれる有機成分を除去することで金属酸化物を主成分とする導電性酸化物微粒子が緻密に充填した導電性酸化物微粒子層を形成する透明導電膜の製造方法である。
    • 提供一种通过涂布液形成的透明导电膜,其是制造透明导电膜的廉价的简单方法,特别是通过低于300℃的低温加热,并且具有优异的透明性和高导电性并且具有优异的膜强度。 还提供了制造透明导电膜的方法。 该方法是通过以下步骤制造透明导电膜的方法:在基材上形成含有有机金属化合物的涂膜的涂布步骤,其中由涂膜形成干燥的涂膜的干燥步骤, 加热/能量射线照射步骤,其中干燥的涂膜被加热并同时用能量射线照射以形成无机膜,以及根据需要进行的加热/还原步骤。 在加热/能量射线照射步骤中,在露点为-10℃以下的氧气氛中,将干燥后的涂膜在300℃以下的温度下加热照射能量射线,除去干燥后的涂层中所含的有机成分 膜,从而形成导电氧化物微粒层,其中以包含金属氧化物为主要成分的细小导电氧化物颗粒已被密集地包覆的层。