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1. 发明申请

WO2015154994A1 METHOD AND ARRANGEMENT FOR ACTUATING AN ELEMENT 审中-公开
标题翻译：用于执行元件的方法和布置
公开(公告)号：WO2015154994A1
公开(公告)日：2015-10-15
申请号：PCT/EP2015/056290
申请日：2015-03-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , ROTHENHÖFER, Gerald , KEMPTER, Christian
发明人： ROTHENHÖFER, Gerald , KEMPTER, Christian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/00 , G02B7/02 , G02B7/182 , H02N2/02
CPC分类号： G03F7/70766 , G02B7/181 , G02B7/1828 , G03F7/70758 , G03F7/70825 , G03F7/70891
摘要： Method and arrangement for actuating an element The invention relates to a method and an arrangement (100) for actuating an element (140) in a system for microlithography. According to an aspect in at least one degree of freedom an actuator force is exerted on the element by means of at least two actuator components (110, 120), wherein said actuator components are driven independently of one another for generating the actuator force, and wherein said driving is effected in such a way that a thermal power (P diss ) introduced into the system on account of the generation of the actuator force by the actuator components deviates from a predefined constant value by not more than 20%.
摘要翻译：用于致动元件的方法和装置技术领域本发明涉及一种用于致动用于微光刻的系统中的元件（140）的方法和装置（100）。根据至少一个自由度的方面，致动器力通过至少两个致动器部件（110,120）施加在元件上，其中所述致动器部件彼此独立地被驱动以产生致动器力，并且其中所述驱动以这样一种方式实现：由致动器部件产生的致动器力导入系统的热功率（Pdiss）偏离预定的常数值不大于20％。

2. 发明申请

WO2013120926A1 OPTICAL COMPONENT 审中-公开
标题翻译：光学元件
公开(公告)号：WO2013120926A1
公开(公告)日：2013-08-22
申请号：PCT/EP2013/052924
申请日：2013-02-14
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： WALDIS, Severin , ORTH, Matthias , BOSTOCK, Roger Marc , DENG, Jian , LANI, Sebastian , KNAUF, Benedikt , KEMPTER, Christian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08 , G02B7/182
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1827 , G02B19/0023 , G02B19/0047 , G02B26/0833 , G03F7/00 , G03F7/70075 , G03F7/70116 , G03F7/7015 , G03F7/70291
摘要： An optical component (40) comprises a mirror array (22) having a multiplicity of mirror elements (23), which are each connected to at least one actuator (131) for displacement, a multiplicity of signal lines (47) for the signal-transmitting connection of the actuators (131) to an external, global control/regulating device (134) for predefining an absolute position of the individual mirror elements (23), and a multiplicity of local regulating devices (136) for regulating the positioning of the mirror elements (23), wherein the regulating devices (136) are in each case completely integrated into the component (40; 40a).
摘要翻译：光学部件（40）包括具有多个反射镜元件（23）的反射镜阵列（22），每个反射镜阵列（23）分别连接至至少一个用于位移的致动器（131），多个信号线（47）将致动器（131）的连接传递到外部的全局控制/调节装置（134），用于预先确定各个反射镜元件（23）的绝对位置，以及多个局部调节装置（136），用于调节镜元件（23），其中调节装置（136）在每种情况下完全集成到部件（40; 40a）中。

3. 发明申请

WO2016083345A1 PIEZOELEKTRISCHE POSITIONIER-VORRICHTUNG UND POSITIONIER-VERFAHREN MITTELS EINER DERARTIGEN PIEZOELEKTRISCHEN POSITIONIER-VORRICHTUNG 审中-公开
标题翻译：压电定位装置和定位方法使用这种压电定位装置
公开(公告)号：WO2016083345A1
公开(公告)日：2016-06-02
申请号：PCT/EP2015/077449
申请日：2015-11-24
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KEMPTER, Christian , KORTEN, Ulrich , ANIC, Jürgen
IPC分类号： H01L41/04 , G01Q10/06 , G03F7/20 , G05D3/20 , G12B5/00 , H02N2/00
CPC分类号： H01L41/042 , G01Q10/06 , G03F7/70691 , G05D3/203 , H01L41/04 , H02N2/0075 , H02N2/062
摘要： Eine piezoelektrische Positionier-Vorrichtung (1) umfasst mindestens einen piezoelektrischen Aktor (3) mit einem ersten Anschlusskontakt (4) und einem zweiten Anschlusskontakt (5). Zur Ansteuerung des mindestens einen piezoelektrischen Aktors (3) dient eine Steuereinrichtung (6), die mit den Anschlusskontakten (4, 5) verbundene Digital-Analog-Wandler (12, 6) umfasst. Ein Fein-Wandler (16) weist gegenüber einem Grob-Wandler (12) einen vergleichsweise kleineren Spannungsbereich und kleinere Spannungsstufen auf, so dass eine hohe Positioniergenauigkeit erzielbar ist.
摘要翻译：一种压电定位装置（1）包括（3）具有第一端子（4）接触和第二端子接触的至少一个压电致动器（5）。的控制装置（6）与所述接触部（4,5）连接到数字 - 模拟转换器（12，6）被用于控制所述至少一个压电致动器（3）。甲细转换器（16）具有一个粗糙的转换器（12）到一个相对较小的电压范围内，和低电压电平相反，从而使较高的定位精度可以达到。

4. 发明申请

WO2012016577A1 MICROLITHOGRAPHIC PROJECTION EXPOSURE APPARATUS 审中-公开
标题翻译：微波投影曝光装置
公开(公告)号：WO2012016577A1
公开(公告)日：2012-02-09
申请号：PCT/EP2010/004816
申请日：2010-08-06
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH , KEMPTER, Christian
发明人： KEMPTER, Christian
IPC分类号： G03F7/20 , G02B26/08
CPC分类号： G06F15/00 , G01J3/00 , G03F7/70116 , G03F7/70508
摘要： A microlithographic projection exposure apparatus has a measuring device (54), by which a sequence of measurement values can be generated, and a processing unit (48) for processing the measurement values. To this end, the processing unit has a processing chain which comprises a plurality of digital signal processors (DSPl, DSP2, DSP3), the first digital signal processor (DSPl) in the processing chain being connected to the measuring device (54) in order to receive the sequence of measurement values. Furthermore, each subsequent digital signal processor (DSP2, DSP3) in the processing chain is connected to a respectively preceding digital signal processor (DSPl, DSP2) in the processing chain. The digital signal processors (DSPl, DSP2, DSP3) are programmed so that each digital signal processor (DSPl, DSP2, DSP3) processes only a fraction of the measurement values and generates processing results therefrom, and forwards the remaining fraction of the measurement values to the respective next digital signal processor (DSP2, DSP3) in the processing chain for processing.
摘要翻译：微光刻投影曝光装置具有测量装置（54），通过该测量装置可以产生一系列测量值，以及用于处理测量值的处理单元（48）。为此，处理单元具有包括多个数字信号处理器（DSP1，DSP2，DSP3）的处理链，处理链中的第一数字信号处理器（DSP1）按顺序连接到测量装置（54）以接收测量值的序列。此外，处理链中的每个后续数字信号处理器（DSP2，DSP3）连接到处理链中的前一个数字信号处理器（DSP1，DSP2）。数字信号处理器（DSP1，DSP2，DSP3）被编程，使得每个数字信号处理器（DSP1，DSP2，DSP3）仅处理测量值的一部分并从其产生处理结果，并将测量值的剩余部分转发到相应的下一个数字信号处理器（DSP2，DSP3）在处理链中进行处理。

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