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1. 发明申请

WO2022008336A1 OPTISCHES ELEMENT, OPTISCHES SYSTEM, LITHOGRAPHIEANLAGE UND VERFAHREN ZUM BETREIBEN EINES OPTISCHEN ELEMENTS 审中-公开
公开(公告)号：WO2022008336A1
公开(公告)日：2022-01-13
申请号：PCT/EP2021/068161
申请日：2021-07-01
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： KIMLING, Johannes , GRAF, Peter , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , FINKEN, Reimar
IPC分类号： G03F7/20 , G02B5/08
摘要： Ein optisches Element (200, 210, 220, 230, 240) für eine Lithographieanlage (100A, 100B), umfassend: eine optische Oberfläche (201, 211, 221, 231, 241), und einen Fotowiderstand (202, 212, 222, 232, 242) mit einem elektrischen Fotowiderstandswert (RFoto), welcher in Abhängigkeit einer Lichtmenge, die auf einen Bereich (203, 213, 223, 243) der optischen Oberfläche (201, 211, 221, 231, 241) einfällt, variiert.

2. 发明申请

WO2016087119A1 SPIEGEL FÜR EINE LITHOGRAPHIEANLAGE UND LITHOGRAPHIEANLAGE 审中-公开
标题翻译：镜子光刻系统和光刻系统
公开(公告)号：WO2016087119A1
公开(公告)日：2016-06-09
申请号：PCT/EP2015/074378
申请日：2015-10-21
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： SCHWAB, Markus , FINKEN, Reimar , GEUPPERT, Bernhard
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/00
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B5/0891 , G02B7/192 , G02B27/646 , G03F7/70266 , G03F7/70891 , G03F7/709
摘要： Es wird ein Spiegel (204) für eine Lithographieanlage (100) offenbart,der einen Spiegelkörper (224) mit einer Oberfläche (226) aufweist. Die Oberfläche umfasst einen optisch aktiven Bereich (220) und einen optisch inaktiven Bereich (222), wobei der optisch inaktive Bereich (222) zumindest teilweise innerhalb desoptisch aktiven Bereichs (220) liegt. Der Spiegel (204) weist weiter eine Einrichtung (218) zur Reduzierung von Abbildungsfehlerndes Spiegels (204) auf, welche in dem optisch inaktiven Bereich (222) angeordnet ist, wobei die Einrichtung (218) zur Reduzierung von Abbildungsfehlern eine Einrichtung (232) zur mechanischen Stabilisierung aufweist.
摘要翻译：它公开了一种用于光刻系统（100），包括一个反射镜体（224）具有一表面（226）的反射镜（204）。所述表面包含光学活性区（220）和不具有光学活性区（222），其中，所述光学无效区域（222）部分地位于光学活性区（220）内的是至少。反射镜（204）还包括被布置在光学非活性区（222）的装置（218），用于减少Abbildungsfehlerndes镜（204），其特征在于，用于减小像差的装置（232）的装置（218），用于具有机械稳定。

3. 发明申请

WO2021160583A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE MIT EINEM THERMISCHEN MANIPULATOR 审中-公开
公开(公告)号：WO2021160583A1
公开(公告)日：2021-08-19
申请号：PCT/EP2021/053029
申请日：2021-02-09
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FENGLER, Stephanus , FINKEN, Reimar , LOERING, Ulrich
IPC分类号： G03F7/20
摘要： Eine Projektionsbelichtungsanlage (10, 80) für die Mikrolithographie umfasst ein Projektionsobjektiv (26) zur Projektion von Strukturen einer Maske (12) in eine Substratebene (30) mittels einer Belichtungsstrahlung (18), wobei mindestens ein optisches Element (38, 40, 82) des Projektionsobjektivs (26) mit einem Manipulator (M4, M5) versehen ist, welcher zum gezielten Eintrag von thermischer Energie in das optische Element (38, 40, 82) konfiguriert ist, ohne dabei eines von weiteren optischen Elementen des Projektionsobjektivs wesentlich aufzuheizen. Die Projektionsbelichtungsanlage (10, 80) enthält weiterhin eine Steuerungseinrichtung (56), welche zur Steuerung der Belichtungsstrahlung (18) sowie zur derartigen Steuerung des Manipulators (M4, M5) konfiguriert ist, dass eine Wirkung auf eine optische Eigenschaft des Projektionsobjektivs, welche durch einen aufgrund einer Belichtungspause erfolgenden Rückgang eines thermischen Energieeintrags in das Projektionsobjektiv (26) erfolgt, zumindest teilweise durch den Energieeintrag mittels des Manipulators (M4, M5) ausgeglichen wird. Ferner betrifft die Erfindung ein entsprechendes Verfahren zum Steuern einer Projektionsbelichtungsanlage (10, 80) für die Mikrolithographie.

4. 发明申请

WO2020157111A1 PROJEKTIONSBELICHTUNGSANLAGE FÜR DIE HALBLEITERLITHOGRAPHIE MIT EINER OPTISCHEN ANORDNUNG 审中-公开
公开(公告)号：WO2020157111A1
公开(公告)日：2020-08-06
申请号：PCT/EP2020/052131
申请日：2020-01-29
申请人： CARL ZEISS SMT GMBH
发明人： FINGERHUTH, Judith , WABRA, Norbert , SCHNEIDER, Sonja , DJURIC-RISSNER, Ferdinand , GRAF, Peter , FINKEN, Reimar
IPC分类号： G02B7/185 , G03F7/20 , G02B27/00
摘要： Die Erfindung betrifft eine Projektionsbelichtungsanlage (1) für die Halbleitertechnik mit einer optischen Anordnung (30), umfassend ein optisches Element (31) mit einer optisch aktiven Fläche (32) und einen Aktuator (34), wobei die optische Anordnung (30) dazu eingerichtet ist, die optisch aktive Fläche (32) zu deformieren und wobei der Aktuator (34) im optischen Element (31) eingelassen ist. Dabei ist der Aktuator (34) außerhalb der optisch aktiven Fläche (32) und außerhalb des hinter der optisch aktiven Fläche liegenden Bereiches angeordnet.

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