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1. 发明申请

WO2004092801A2 KATADIOPTRISCHES REDUKTIONSOBJEKTIV MIT POLARISATIONSSTRAHLTEILER 审中-公开
标题翻译：偏振分束器的反射折射缩小透镜
公开(公告)号：WO2004092801A2
公开(公告)日：2004-10-28
申请号：PCT/EP2004/003576
申请日：2004-04-03
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , GRUNER, Toralf , SCHULTZ, Joerg
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , GRUNER, Toralf , SCHULTZ, Joerg
IPC分类号： G02B17/00
CPC分类号： G03F7/70225 , G02B13/143 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G02B27/283
摘要： Ein katadioptrisches Projektionsobjektiv zur Abbildung eines in der Objektebene des Projektionsobjektivs angeordneten Musters in die Bildebene des Projektionsobjektivs hat eine optische Achse, eine katadioptrischen ersten Objektivteil (103) mit einem Konkavspiegel (105) und einem physikalischem Strahlteiler (106) mit mindestens einer polarisationsselektiven Strahlteilerschicht (107) sowie einen zweiten, vorzugsweise dioptrischen Objektivteil (103). In dem Lichtweg, der den Konkavspiegel (105) einschließt, ist ein Rückreflexionsspiegel (110) zur Rückreflexion von aus dem Strahlteiler kommenden Strahlung in Richtung des Strahlteilers angeordnet. Die hierdurch mögliche Mehrfachnutzung des Strahlteilers erlaubt neuartige Konstruktionen, insbesondere auch katadioptrische Projektionsobjektive mit koaxial zueinander angeordneten Objekt- und Bildfeld.
摘要翻译：用于成像放置在投影透镜图案的物平面中的投射物镜的像平面中的对象的反射折射投影物镜具有至少一个偏振选择分束器层的光学轴，反射折射第一物镜部分（103）与凹面镜（105）和物理分束器（106）（107 ）和第二，优选折射物镜部分（103）。在光路中，其包括凹面反射镜（105），后反射镜（110），用于从分束器来的辐射的背反射被布置在分束器的方向。在由此，能够多次使用分束器的使用允许新的设计，与同轴布置的物体和像场特别反射折射投影目标。

2. 发明申请

WO2005111689A2 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH INTERMEDIATE IMAGES 审中-公开
标题翻译：具有中间图像的目标投影
公开(公告)号：WO2005111689A2
公开(公告)日：2005-11-24
申请号：PCT/EP2005/005250
申请日：2005-05-13
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G03F7/70058 , G02B17/06 , G02B17/08 , G02B17/0804 , G02B17/0892 , G03F7/7015 , G03F7/70225 , G03F7/70275
摘要： A catadioptric projection objective for imaging of a pattern, which is arranged on the object plane of the projection objective, on the image plane of the projection objective has a first objective part for imaging of an object field to form a first real intermediate image, a second objective part for production of a second real intermediate image using the radiation coming from the first objective part; and a third objective part for imaging of the second real intermediate image on the image plane. The second objective part is a catadioptric objective part with a concave mirror. A first folding mirror for deflection of the radiation coming from the object plane in the direction of the concave mirror and a second folding mirror for deflection of the radiation coming from the concave mirror in the direction of the image plane are provided. A field lens with a positive refractive power is arranged between the first intermediate image and/or the first folding mirror and the concave mirror, in an area close to the field of the first intermediate image.
摘要翻译：用于对投影物镜的物平面上配置的图案进行成像的反折射投射物镜具有用于对物场进行成像以形成第一实际中间图像的第一物镜部分，使用来自第一目标部分的辐射来生成第二实际中间图像的第二目标部分; 以及用于在图像平面上成像第二实际中间图像的第三目标部分。第二个目标部分是具有凹面镜的反射折射物镜部分。提供了用于使来自物体平面的辐射在凹面镜的方向上偏转的第一折叠镜和用于在像面方向偏转来自凹面镜的辐射的第二折叠镜。在第一中间图像和/或第一折叠镜和凹面镜之间，在靠近第一中间图像的场的区域内布置具有正屈光力的场透镜。

3. 发明申请

WO2005096098A2 PROJECTION OBJECTIVE, PROJECTION EXPOSURE APPARATUS AND REFLECTIVE RETICLE FOR MICROLITHOGRAPHY 审中-公开
标题翻译：投影目标，投影曝光装置和反射镜
公开(公告)号：WO2005096098A2
公开(公告)日：2005-10-13
申请号：PCT/EP2005/002898
申请日：2005-03-18
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , BADER, Dieter , EPPLE, Alexander
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , BADER, Dieter , EPPLE, Alexander
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70291 , G03F7/70225 , G03F7/70283
摘要： A projection objective for microlithography serves for imaging a pattern of a mask arranged in its object surface into an image field arranged in its image surface with a demagnifying imaging scale. It has a multiplicity of optical elements arranged along the optical axis of the projection objective, the optical elements being designed and arranged in such a way that the projection objective has an imageside numerical aperture NA > 0.85 and a demagnifying imaging scale where |b|
摘要翻译：用于微光刻的投影物镜用于将布置在其物体表面中的掩模的图案成像成具有缩小的成像刻度的布置在其图像表面中的图像场。它具有沿着投影物镜的光轴布置的多个光学元件，光学元件被设计和布置成使得投影物镜具有图像数值孔径NA> 0.85和缩小成像刻度，其中|| b | | <0.05，并且具有适合于大于1mm的微光刻的最小图像场直径的平面图像场。

4. 发明申请

WO2005050321A1 REFRAKTIVES PROJEKTIONSOBJEKTIV FÜR DIE IMMERSIONS-LITHOGRAPHIE 审中-公开
标题翻译：浸泡版画折射投影物镜
公开(公告)号：WO2005050321A1
公开(公告)日：2005-06-02
申请号：PCT/EP2003/011677
申请日：2003-10-22
申请人： CARL ZEISS SMT AG , DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： DODOC, Aurelian , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70241 , G02B13/143 , G03F7/70341
摘要： Ein für die Immersions-Mikrolithographie geeignetes, rein refraktives Projektionsobjektiv ist als Ein-Taillen-System mit fünf Linsengruppen ausgelegt, bei dem eine erste Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine zweite Linsengruppe mit positiver Brechkraft, eine dritte Linsengruppe mit negativer Brechkraft, eine vierte Linsengruppe mit positiver Brechkraft und eine fünfte Linsengruppe mit positiver Brechkraft vorgesehen sind. Die vierte Linsengruppe hat eine Eintrittsfläche (E), die in der Nähe eines Wendepunktes einer Randstrahlhöhe zwischen der dritten Linsengruppe (LG3) und der vierten Linsengruppe (LG4) liegt. Zwischen der Eintrittsfläche und der Systemblende (5) ist keine Negativlinse mit substantieller Brechkraft angeordnet ist. Ausführungsformen erfindungsgemässer Projektionsobjektive erreichen eine sehr hohe numerische Apertur NA > 1 bei grossem Bildfeld und zeichnen sich durch eine kompakte Baugrösse aus. Bei Verwendung von Immersionsfluiden zwischen Projektionsobjektiv und Substrat sind bei Arbeitswellenlängen unterhalb 200nm Strukturbreiten deutlich unter 100nm auflösbar.
摘要翻译：一种合适的用于浸没微光刻，纯折射投影物镜被设计成具有五个透镜组，一个腰包系统，其中，具有负折射力的第一透镜组，具有正屈光力的第二透镜组，具有负折射光焦度的第三透镜组，第四透镜组用提供正折光力和具有正折光力的第五透镜组。第四透镜组是一个入射表面（E），在第三透镜组（LG3）和第四透镜组（LG4）之间的边缘光线高度的拐点的附近。进入表面和所述隔膜的系统（5）之间是没有负透镜布置在具有相当大的光焦度。根据本发明的投影透镜的实施例实现在大的视场非常高的数值孔径NA> 1，并通过一个紧凑的尺寸的特征。当使用投影透镜和基底之间浸没流体是在低于200纳米的特征尺寸以及小于100nm波长工作的可溶性。

5. 发明申请

WO2009152959A1 PROJECTION EXPOSURE APPARATUS FOR SEMICONDUCTOR LITHOGRAPHY COMPRISING A DEVICE FOR THE THERMAL MANIPULATION OF AN OPTICAL ELEMENT 审中-公开
标题翻译：包含用于光学元件的热处理的器件的半导体光刻机的投影曝光装置
公开(公告)号：WO2009152959A1
公开(公告)日：2009-12-23
申请号：PCT/EP2009/004006
申请日：2009-06-04
申请人： CARL ZEISS SMT AG , HAUF, Markus , BLEIDISTEL, Sascha , MIGURA, Sascha , MANN, Hans-Juergen , ENKISCH, Hartmut , ZELLNER, Johannes , SCHOTTNER, Michael , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , DODOC, Aurelian , HETZLER, Jochen , BEIERL, Helmut , ULRICH, Wilhelm
发明人： HAUF, Markus , BLEIDISTEL, Sascha , MIGURA, Sascha , MANN, Hans-Juergen , ENKISCH, Hartmut , ZELLNER, Johannes , SCHOTTNER, Michael , KRAEHMER, Daniel , TOTZECK, Michael , DODOC, Aurelian , HETZLER, Jochen , BEIERL, Helmut , ULRICH, Wilhelm
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70891 , G03F7/70266
摘要： The invention relates to a projection exposure apparatus (16) for semiconductor lithography comprising a device for the thermal manipulation of an optical element (1,100), wherein the optical element (1,100) has a front side (2) for the reflection of electromagnetic radiation and a rear side (3,103), and wherein thermal actuators (4) for influencing the optical properties of the optical element (1,100) are present, which act on the optical element (1,100) from the rear side (3,103) thereof.
摘要翻译：本发明涉及一种用于半导体光刻的投影曝光装置（16），包括用于光学元件（1,100）的热操纵的装置，其中光学元件（1,100）具有用于反射电磁辐射的前侧（2）后侧（3,103），并且其中存在用于影响光学元件（1,100）的光学特性的热致动器（4），其从其后侧（3,103）作用在光学元件（1,100）上。

6. 发明申请

WO2005040890A2 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：目标投标
公开(公告)号：WO2005040890A2
公开(公告)日：2005-05-06
申请号：PCT/EP2004/011587
申请日：2004-10-15
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , DODOC, Aurelian , EPPLE, Alexander , ULRICH, Wilhelm , SCHUSTER, Karl-Heinz
发明人： SHAFER, David , DODOC, Aurelian , EPPLE, Alexander , ULRICH, Wilhelm , SCHUSTER, Karl-Heinz
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0812 , G03F7/70225 , G03F7/70275
摘要： A catadioptric projection objective for projecting a pattern arranged in the object plane of the projection objective into the image plane of the projection objective, having: a first objective part for projecting an object field lying in the object plane into a first real intermediate image; a second objective part for generating a second real intermediate image with the radiation coming from the first objective part; a third objective part for generating a third real intermediate image with the radiation coming from the second objective part; and a fourth objective part for projecting the third real intermediate image into the image plane.
摘要翻译：一种反折射投射物镜，用于将布置在投影物镜的物平面中的图案投影到投影物镜的像平面中，具有：第一物镜部分，用于将物平面中的物场投射到第一实际中间像中; 第二目标部分，用于利用来自第一目标部分的辐射产生第二实际中间图像; 第三目标部分，用于利用来自第二目标部分的辐射产生第三实际中间图像; 以及用于将第三实际中间图像投影到图像平面中的第四目标部分。

7. 发明申请

WO2010115500A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010115500A1
公开(公告)日：2010-10-14
申请号：PCT/EP2010/001512
申请日：2010-03-11
申请人： CARL ZEISS SMT AG , MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
发明人： MANN, Hans-Jürgen , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , ZAHLTEN, Claus , MENKE, Christoph , PRETORIUS, Marco , ULRICH, Wilhelm , ROSTALSKI, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/70233 , G02B17/0663 , G02B17/0888
摘要： An imaging optics (36) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A first mirror (M1) is arranged in the imaging beam path of imaging light after the object field (4) and a last mirror (M6) is arranged in the imaging beam path before the image field (8). In the unfolded imaging beam path, an impingement point of a chief ray (16), which belongs to a central object field point, on a useful face (23) of each of the mirrors (M1 to M6), which is configured to guide the imaging light (3), has a mirror spacing (Z M ) from the image plane (9). The mirror spacing (Z M1 ) of the first mirror (Ml) is greater than the mirror spacing (Z M6 ) of the last mirror (M6). The mirror spacing (z M3 ) of a fourth to last mirror (M3) is greater than the mirror spacing (z M1 ) of the first mirror (M1). In a further aspect of the invention, a reflection surface of at least one of the mirrors (M1 to M6) of the imaging optics (36) is configured as a static free form surface which cannot be described by a rotationally symmetrical function. This differs from an aspherical surface best adapted thereto, which can be described by a rotationally symmetrical function in that a normal (FNB) to a free form surface element (20) of a used region (23) of the free form surface, which is configured to guide the imaging light (3), adopts an angle (α) of a maximum of 70 μrad with a normal (FN) to a corresponding asphere surface element (22) of the aspherical surface (21). With the two aspects, a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throuhput for the imaging light results.
摘要翻译：成像光学器件（36）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）的成像光束路径中布置第一反射镜（M1），并且在图像场（8）之前的成像光束路径中布置最后一个反射镜（M6）。在展开成像光束路径中，属于中心物体场点的主射线（16）的撞击点位于每个反射镜（M1至M6）的有用面（23）上，其被配置为引导成像光（3）具有与图像平面（9）的反射镜间隔（ZM）。第一反射镜（M1）的反射镜间距（ZM1）大于最后一个反射镜（M6）的反射镜间距（ZM6）。第四至最后一个反射镜（M3）的反射镜间距（zM3）大于第一反射镜（M1）的反射镜间隔（zM1）。在本发明的另一方面，成像光学器件（36）的至少一个反射镜（M1至M6）的反射表面被构造为无法通过旋转对称功能描述的静态自由形式表面。这与最适合于其的非球面不同，其可以通过旋转对称的功能来描述，其中自由形式表面的使用区域（23）的自由形式表面元件（20）的法线（FNB）是被配置为引导成像光（3），将正常（FN）的最大值为70μrad的角度（a）与非球面（21）的对应的非球面表面元件（22）进行比较。通过这两个方面，可以组合小的成像错误，可管理的生产和成像光的良好输出结果。

8. 发明申请

WO2006005547A1 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE 审中-公开
标题翻译：目标投影目标
公开(公告)号：WO2006005547A1
公开(公告)日：2006-01-19
申请号：PCT/EP2005/007431
申请日：2005-07-08
申请人： CARL ZEISS SMT AG , SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian , VON BÜNAU, Rudolf , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
发明人： SHAFER, David , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian , VON BÜNAU, Rudolf , MANN, Hans-Jürgen , EPPLE, Alexander , BEDER, Susanne , SINGER, Wolfgang
IPC分类号： G03F7/00 , G02B17/00 , G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0892 , G02B17/0828 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/70341
摘要： A catadioptric projection objective for imaging a pattern provided in an object plane of the projection objective onto an image plane of the projection objective has a first, refractive objective part for imaging the pattern provided in the object plane into a first intermediate image; a second objective part including at least one concave mirror for imaging the first intermediate imaging into a second intermediate image; and a third, refractive objective part for imaging the second intermediate imaging onto the image plane; wherein the projection objective has a maximum lens diameter D max , a maximum image field height Y', and an image side numerical aperture NA; wherein COMP1 = D max / (Y' • NA 2 ) and wherein the condition COMP1
摘要翻译：用于将设置在投影物镜的物平面中的图案成像到投影物镜的像平面上的折反射投射物镜具有用于将设置在物平面中的图案成像为第一中间图像的第一折射目标部分; 第二目标部分，其包括用于将第一中间成像成像成第二中间图像的至少一个凹面镜; 以及第三折射物镜部分，用于将所述第二中间成像成像到所述图像平面上; 其中所述投影物镜具有最大透镜直径D

9. 发明申请

WO2005098505A1 CATADIOPTRIC PROJECTION OBJECTIVE WITH MIRROR GROUP 审中-公开
标题翻译：目标与镜子集团的目标投影
公开(公告)号：WO2005098505A1
公开(公告)日：2005-10-20
申请号：PCT/EP2005/003645
申请日：2005-04-07
申请人： CARL ZEISS SMT AG , EPPLE, Alexander , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian
发明人： EPPLE, Alexander , ULRICH, Wilhelm , DODOC, Aurelian
IPC分类号： G02B17/08
CPC分类号： G02B17/0804 , G02B17/0808 , G02B17/0812 , G02B17/0816 , G02B17/0836 , G02B17/0844 , G02B17/0848 , G02B17/086 , G02B17/0892 , G03F7/70058 , G03F7/70225 , G03F7/70275 , G03F7/70341
摘要： A catadioptric projection objective for imaging an off-axis object field arranged in an object surface of the projection objective onto an off-axis image field arranged in an image surface of the projection objective has a front lens group, a mirror group comprising four mirrors and having an object side mirror group entry, an image side mirror group exit, and a mirror group plane aligned transversely to the optical axis and arranged geometrically between the mirror group entry and the mirror group exit; and a rear lens group. The mirrors of the mirror group are arranged such that at least one intermediate image is positioned inside the mirror group between mirror group entry and mirror group exit, and that radiation coming from the mirror group entry passes at least four times through the mirror group plane and is reflected at least twice on a concave mirror surface of the mirror group prior to exiting the mirror group at the mirror group exit. The mirror group entry is positioned in a region where radiation exiting the front lens group has an entry chief ray height. A second reflecting area is positioned in a region where radiation impinging on the second mirror has a second chief ray height deviating from the entry chief ray height in a first direction; and a fourth reflecting area is positioned in a region where radiation impinging on the fourth mirror has a fourth chief ray height deviating from the entry chief ray height in a second direction opposite to the first direction.
摘要翻译：用于将布置在投影物镜的物体表面中的离轴物体场成像到布置在投影物镜的图像表面中的离轴图像场的反射折射投影物镜具有前透镜组，包括四个反射镜的镜组和具有物体侧反射镜组入口，图像侧反射镜组出口和反射镜组平面，其横向于光轴对准并且几何地布置在反射镜组入口和反射镜组出口之间; 和后透镜组。反射镜组的镜子被布置成使得至少一个中间图像位于反射镜组入口和反射镜组出口之间的反射镜组内，并且来自镜组入口的辐射至少穿过镜组平面四次，在镜组出口处离开镜组之前，在镜组的凹面镜面上反射至少两次。反射镜组入口位于离开前透镜组的辐射具有入射主光线高度的区域中。第二反射区域位于辐射入射在第二反射镜上的第一主光线高度偏离第一方向上的入射光线高度的区域中; 并且第四反射区域位于与第一反射镜相反的第二方向上具有偏离入射光线高度的第四主光线高度的入射在第四反射镜上的辐射区域。

10. 发明申请

WO2010112328A1 IMAGING OPTICS AND PROJECTION EXPOSURE INSTALLATION FOR MICROLITHOGRAPHY WITH AN IMAGING OPTICS OF THIS TYPE 审中-公开
标题翻译：使用这种类型的成像光学的成像光学和投影曝光安装
公开(公告)号：WO2010112328A1
公开(公告)日：2010-10-07
申请号：PCT/EP2010/053341
申请日：2010-03-16
申请人： CARL ZEISS SMT AG , ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , MANN, Hans-Jürgen
发明人： ZELLNER, Johannes , DODOC, Aurelian , PRETORIUS, Marco , MENKE, Christoph , ULRICH, Wilhelm , MANN, Hans-Jürgen
IPC分类号： G02B17/06 , G03F7/20
CPC分类号： G02B17/0657 , G03F7/70233
摘要： An imaging optics (7) has a plurality of mirrors (M1 to M6), which image an object field (4) in an object plane (5) in an image field (8) in an image plane (9). A pupil plane (17) is arranged in the imaging beam path between the object field (4) and the image field (8). A stop (20) is arranged in the pupil plane (17). The pupil plane (17) is tilted, in other words adopts an angle (α) with respect to the object plane (5), which is greater than 0.1°. An imaging optics results, with which a handleable combination of small imaging errors, manageable production and good throughput for the imaging light is achieved.
摘要翻译：成像光学器件（7）具有多个反射镜（M1至M6），其对图像平面（9）中的图像场（8）中的物体平面（5）中的物体场（4）进行成像。在物场（4）和图像场（8）之间的成像光束路径中布置瞳平面（17）。在光瞳平面（17）中设置有一个止动件（20）。瞳平面（17）倾斜，换句话说，相对于物平面（5）采取大于0.1°的角度（a）。可以获得成像光学元件，实现了成像光的小成像误差，可管理生产和良好生产量的可处理组合。

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